説明

Fターム[2H092PA04]の内容

液晶−電極、アクティブマトリックス (131,435) | 他の構成要素との関連 (13,620) | 注入口及び封止部材 (421)

Fターム[2H092PA04]に分類される特許

1 - 20 / 421


【課題】本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、高い表示品位を有する液晶表示装置を製造できる。
【解決手段】液晶表示装置の製造方法は、第2基板22の主面21a上に遮光膜BMを形成する工程と、遮光膜BMを覆うように第1絶縁膜226を形成する工程と、第1絶縁膜226上に透光性の導体層100を形成する工程と、導体層100上にレジストREを形成する工程と、第2基板22の反対主面22b側から、遮光膜BMと重ならない部分のレジストREを露光する工程と、レジストRE上にマスクPMを配置して、レジストREのうち遮光膜BMの形成領域上に位置するレジストREの一部をマスクPM側から露光する工程と、導体層100の一部を露出させる工程
と、導体層100の露出した一部をエッチングし、レジストを除去して、遮光膜BMの形成領
域上に信号電極228および共通電極227を形成する工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】シリケートガラスによって、シール材と基板との界面からの水分の侵入や、シール材で囲まれた領域内に侵入した水分の影響を低減することのできる電気光学装置、および当該電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置100では、素子基板10および基板本体10w(第1基板)側においてシール材107と接するのは、BSG膜からなるシリケートガラス層18(第1シリケートガラス層)であり、対向基板20および基板本体20w(第2基板)側においてシール材107と接するのは、BSG膜からなるシリケートガラス層28(第2シリケートガラス層)である。シール材107で囲まれた領域で、シリケートガラス層18は、画素電極9aおよびダミー画素電極9bの非形成領域9cで液晶層50に表面を向けており、シリケートガラス層28は、共通電極21の非形成領域21cで液晶層50に表面を向けている。 (もっと読む)


【課題】高動作マージン・高信頼性・狭額縁・小型・低コストの駆動回路一体型アクティブマトリクス型の表示装置を提供する。
【解決手段】図14[2]を参照すると、ゲート線駆動回路12と対向電極21とが対面していないことがわかる。このことから、対向電極21とシール材11とが重なっている領域における電気的な影響は、少なくともゲート線駆動回路12には及ばない。これが本発明の特徴である。 (もっと読む)


【課題】周辺領域に形成された配線で反射する光の迷光を減らすことを目的とする。
【解決手段】表示装置は、光の透過及び遮蔽を制御して画像を表示するための表示パネル10と、表示パネル10に重ねられて光を供給するためのバックライト12と、を有する。表示パネル10は、画像が表示される表示領域26及び表示領域26の外側の周辺領域28を含む基板16を有する。基板16は、バックライト12側を向く下面及びバックライト12とは反対側を向く上面を有する。基板16の上面には、周辺領域28に配線30が形成されている。配線30の基板16側を向く面の少なくとも一部は、基板16の下面に対する法線から基板16の外側の方向に斜めに傾いている。 (もっと読む)


【課題】 有機樹脂膜を有するTFTアレイ基板の製造工程において、ブラシ洗浄の際に異物が有機平坦化膜表面にキズを生じさせることがある。このようにキズが生じた有機平坦化膜上に、画素電極となる透明電極膜を成膜した場合、キズ上の透明電極膜も断線してしまい、画素電極に信号が伝わらず表示不良を引き起こすことがある。
【解決手段】 有機平坦化膜を塗布する工程と、中間調露光を用いて有機平坦化膜に凹凸を形成する工程と、凹凸が形成された有機平坦化膜表面をロールブラシを用いて洗浄する工程と、洗浄工程後に、有機平坦化膜上に画素電極を構成する透明導電膜を成膜する工程とを備えた薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】画像表示領域の端部と素子基板の端部との間で光硬化性のシール材に沿って配線を延在させた場合でも、シール材を確実に光硬化させることができるとともに、画像表示領域の外側でシール材および配線が占有する領域の幅寸法を縮小することのできる電気光学装置、および当該電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置100では、素子基板10の辺10fと画像表示領域10aの端部とによって挟まれた領域に設けられた第1配線11および第2配線16のうち、配線幅寸法が広い第2配線16は、シール材80の内縁81と画像表示領域10aの端部との間に設けられている。また、配線幅寸法が狭い第1配線11は、シール材80と重なる領域に設けられているが、シール材80と重なる領域における第1配線11の配線密度は、40%から60%である。 (もっと読む)


【課題】素子基板の端部と画像表示領域の端部とに挟まれた領域に電源線およびシール材を設けた場合でも、電源線の配線抵抗を大きく増大させることなく、シール材を確実に光硬化させることのできる電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置100では、素子基板10の辺10fと画像表示領域10aの端部とによって挟まれた領域に設けられた信号線11および電源線16のうち、配線幅寸法が広い電源線16は、シール材80の内縁81と画像表示領域10aの端部との間に設けられている。また、電源線16のシール材80との交差部分17c、18cには、透光用の開口部17a、18aが設けられている。開口部17a、18aは、電源線16の延在方向に延在するスリット状であり、開口部17a、18aの長さ寸法は、シール材80の幅寸法より小である。 (もっと読む)


【課題】IPSタイプの液晶表示装置において、走査線引出し線に印加されるゲート電圧の影響によって対向基板の内側が帯電し、画面周辺に白抜けが生ずる現象を防止する。
【解決手段】走査線引出し線31は、対向電極108と同層で形成されたシールド電極107によって覆われている。走査線引出し線31はシール材20の下にも形成されている。シールド電極107はシール材20の下まで延在し、シールド電極107の下に形成されている走査線引出し線31の全数を被覆しているので、シールド効果は高い。また、シール材20の下に形成されたシールド電極107には抜きパターン1071が形成されているので、シールド電極107と、それをサンドイッチする無機パッシベーション膜106および上部絶縁膜109との間の接着強度の低下を防止することが出来る。 (もっと読む)


【課題】製造性を損なうことなくイオン性不純物のトラップ効率を向上させた電気光学装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、電気光学物質層を挟持して対向配置された第1基板及び第2基板と、第1基板と第2基板とを貼り合わせるシール材と、複数の画素が配列された画素領域と、画素領域とシール材との間の周辺領域に電極を備えて設けられたイオントラップ部と、を有する電気光学装置であって、イオントラップ部は、交流電圧を印加される第1トラップ電極と交流電圧の基準電位を入力される第2トラップ電極とを有しており、前記イオントラップ部は、前記交流電圧の印加において、正極性の電圧印加時と負極性の電圧印加時とで前記電気光学物質層を流れる電流量が、前記画素領域よりも大きく異なるように設定されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】マトリクス状に配置された複数の画素電極PEと、画素電極PEが配列する行に沿って延びるゲート配線Gと、列に沿って延びるソース配線Sと、複数の画素電極PEが配置された領域ACTの周囲の領域において画素電極PEと同層に配置されゲート配線に印加されるト電位が供給される電極EBと、を備えた第1基板ARと、複数の画素電極PEが配置された領域ACTおよび周囲の領域と対向した共通電極CEを備え第1基板ARと対向して配置された第2基板CTと、第1基板ARと第2基板CTとの間に挟持された液晶層LQと、を備え、共通電極CTは、少なくとも電極EBの端部と対向する部分に電極除去部CEAを備える液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】イオン性不純物のトラップ効率の低下を抑制でき、長期的に優れた信頼性を得ることができる電気光学装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、電気光学物質層を挟持して対向配置された第1基板及び第2基板と、第1基板と第2基板とを貼り合わせるシール材と、複数の画素が配列された画素領域と、画素領域とシール材との間の外縁領域に電極を備えて設けられたイオントラップ部と、を有する電気光学装置であって、イオントラップ部の少なくとも一部と平面視で重なる領域に、電気光学物質層の厚さが画素領域における厚さよりも大きく形成された厚層部が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】セル厚均一性の向上と上下基板間の導通不良の低減及び液晶材料の注入不良の低減を両立する。
【解決手段】液晶表示装置は、第1基板、第2基板、第1電極、第2電極、液晶層17、シール材3、このシール材に囲まれた領域内に設けられた複数の第1柱状スペーサー24及び複数の第2柱状スペーサー23、シール材3に混入された複数の球状スペーサー並びに複数の導電性粒子を備える。シール材に囲まれた領域は、第1電極と第2電極が配置された有効表示領域1、当該有効表示領域を囲む非表示領域2、及び当該非表示領域2とシール材3に挟まれた外周領域を含み、有効表示領域には複数の第1柱状スペーサー24が配置され、非表示領域には複数の第2柱状スペーサー23が配置され、外周領域には複数の第1柱状スペーサー24と複数の第2柱状スペーサー23のいずれも配置されていない。 (もっと読む)


【課題】生産性が高く信頼性の高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、表示領域と周辺領域とを有し、第1、第2基板部、液晶層、シール部を備えた液晶表示装置が提供される。第1基板部は、第1基板、第1、第2配線、下側絶縁層、有機絶縁層、表示電極を含む。第1基板は、第1主面を有す。第1配線は、周辺領域の第1主面上に設けられ、第2配線は、周辺領域の第1主面上に設けられ第1配線の外側である。下側絶縁層は、周辺領域の第1主面上に設けられ第1、第2配線の間の配線間部分を有す。有機絶縁層は、表示領域及び周辺領域の第1主面上に設けられ、外縁が配線間部分上である。表示電極は、表示領域で有機絶縁層上に設けられる。液晶層は、表示電極と第2基板部との間に設けられる。シール部は、周辺領域において液晶層を囲み有機絶縁層の外縁を覆う。 (もっと読む)


【課題】画素を透過する光の透過率が高く、光源から発する光を有効に利用可能な電気光学装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置は、第1基板としての素子基板が、複数の画素電極を有し、第2基板としての対向基板20が、第1透光性導電層23aと、第1透光性導電層23aの複数の画素電極と対向する第1領域E1に配置された第2透光性導電層23cと、第1透光性導電層23aと第2透光性導電層23cとの間に配置された第1絶縁膜23bと、を有し、対向基板20の第1領域E1を透過する光の分光分布が、可視光波長範囲でほぼフラットとなるように、第1透光性導電層23a、第1絶縁膜23b、第2透光性導電層23cの膜厚がそれぞれ設定されている。素子基板と対向基板20とを接着するシール材40が設けられる対向基板20の第2領域E2には、第1透光性導電層23aが配置されている。 (もっと読む)


【課題】横電界方式を用いつつイオン性不純物のトラップ効率を高めた電気光学装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、電気光学物質層を挟持して対向配置された第1基板及び第2基板と、第1基板と第2基板とを貼り合わせるシール材と、複数の画素が配列された画素領域と、画素領域とシール材との間の外縁領域に形成されたイオントラップ部と、を有する電気光学装置であって、イオントラップ部は、第1基板の電気光学物質層側に形成され、平面視櫛歯状を成し互いの枝電極を噛み合わせるように配置された第1電極と第2電極とを有しており、第1電極及び第2電極の枝電極の延在方向が、当該枝電極の近傍の第1基板の外形辺に対して斜め方向であり、かつ電気光学物質層と第1基板との界面における電気光学物質の配向方向に対して交差する方向であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】表示品質を向上させることが可能な液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】一対の基板10,20間に、負の誘電異方性を有する液晶を含む液晶層50と、マトリックス状に配置された複数の画素電極15を含む画素領域と、素子基板10上において平面的に画素電極15間に長軸が素子基板10の基板面10aに対して垂直となるように配列された液晶性モノマーが重合されて配置された配向制御部500と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板縁からの基板間導通材の張り出しや基板間導通用電極と信号線との重なり等を発生させることなく、基板間導通を広い面積で行うことのできる電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置100では、素子基板10に素子基板側基板間導通用電極6eを設けるにあたって、基板縁10aから画像表示領域100a内に向けて複数本のデータ線6aの引き回し部分が延在する複数の信号線形成領域60の間66を利用する。また、シール材80については、素子基板側基板間導通用電極6eが設けられた領域では画像表示領域100aに向けて凹むように屈曲した屈曲部分85を設け、かかる屈曲部分85の内側に基板間導通材90を屈曲部分85に対向する対向基板20の基板縁20aに沿って延在するように設ける。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化す
ることを目的の一とする。
【解決手段】第1の絶縁膜を形成し、第1の絶縁膜に酸素ドープ処理を行って、第1の絶
縁膜に酸素原子を供給し、第1の絶縁膜上に、ソース電極およびドレイン電極、ならびに
、ソース電極およびドレイン電極と電気的に接続する酸化物半導体膜を形成し、酸化物半
導体膜に熱処理を行って、酸化物半導体膜中の水素原子を除去し、水素原子が除去された
酸化物半導体膜上に、第2の絶縁膜を形成し、第2の絶縁膜上の酸化物半導体膜と重畳す
る領域にゲート電極を形成する半導体装置の作製方法である。 (もっと読む)


【課題】TFT基板に有機パッシベーション膜が形成されておらず、かつ、TFT基板と対向基板との間隔を柱状スペーサによって規定する液晶表示装置において、TFT基板と対向基板との間隔を一定とする。
【解決手段】液晶表示パネルの表示領域では、TFT基板100と対向基板200との間隔は柱状スペーサ150によって規定している。液晶表示パネル内において、画素も走査線も映像信号線も形成されていない部分においても、柱状スペーサ150によって間隔を規定する。この場合、柱状スペーサ150の台座140が必要となるが、台座140の層構造は、表示領域において間隔を規定する柱状スペーサ150が接触するTFT基板側の層構造と同一にする。これによって、製造コストの上昇をともなうことなく、液晶表示パネルの液晶層300の間隔を一定にでき、輝度むら、あるいは色むらを防止することが出来る。 (もっと読む)


【課題】 製造歩留まりの低下を抑制する液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 マトリクス状に配置された複数の表示画素PXを含む表示領域25と、複数の表示画素PXを駆動する駆動配線11、12と、駆動配線11、12の上層に配置されパターン端部に膜厚の薄い薄膜部23が設けられている平坦化膜20と、平坦化膜20上において平坦化膜20のパターン端部を横切って配置された第1電極30と、を備えたアレイ基板110と、アレイ基板110と対向して配置された対向基板120と、アレイ基板110と対向基板120との間に挟持された液晶層70と、を備えた液晶表示装置。 (もっと読む)


1 - 20 / 421