【課題】表示品位の劣化を抑制することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 第１絶縁基板と、前記第１絶縁基板の内側において直線的に延出した第１電極と、前記第１電極を覆う第１配向膜と、を備えた第１基板と、第２絶縁基板と、前記第２絶縁基板の前記第１基板と対向する側において前記第１電極を挟んだ両側で前記第１電極の延出方向と略平行な方向に沿って延出した第２電極と、前記第２電極を覆う第２配向膜と、を備えた第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶分子を含む液晶層と、前記第１絶縁基板の外面に配置され第１吸収軸を有する第１偏光板と、前記第２絶縁基板の外面に配置され前記第１吸収軸とクロスニコルの位置関係にある第２吸収軸を有する第２偏光板と、を備え、前記第１吸収軸は、前記第１電極の延出方向と略平行であるまたは略直交することを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】画素を透過する光の透過率が高く、光源から発する光を有効に利用可能な電気光学装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置は、第１基板としての素子基板が、複数の画素電極を有し、第２基板としての対向基板２０が、第１透光性導電層２３ａと、第１透光性導電層２３ａの複数の画素電極と対向する第１領域Ｅ１に配置された第２透光性導電層２３ｃと、第１透光性導電層２３ａと第２透光性導電層２３ｃとの間に配置された第１絶縁膜２３ｂと、を有し、対向基板２０の第１領域Ｅ１を透過する光の分光分布が、可視光波長範囲でほぼフラットとなるように、第１透光性導電層２３ａ、第１絶縁膜２３ｂ、第２透光性導電層２３ｃの膜厚がそれぞれ設定されている。素子基板と対向基板２０とを接着するシール材４０が設けられる対向基板２０の第２領域Ｅ２には、第１透光性導電層２３ａが配置されている。 （もっと読む）

【課題】反射部を構成する溝の構造を改良して、入射した光をより効率よく画素電極に向かわせることのできる電気光学装置、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０の基板本体２０ｗ（透光性基板）には、隣り合う画素電極９ａの間（画素間領域１０ｆ）に向けて開口する第１溝２６０が形成されている。また、基板本体２０ｗの一方面２０ｓおよび第１溝２６０の側面２６１、２６２には透光膜２５が形成されており、かかる透光膜２５によって、第１溝２６０と平面視で重なる領域には、第１溝２６０より深くて第１溝２６０より幅が狭い第２溝２６５が形成されている。このため、第２溝２６５の側面２６６、２６７を反射面として利用し、画素間領域１０ｆに向かおうとする光を画素電極９ａに向かわせる。 （もっと読む）

【課題】表示品位の良好な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１波長範囲の光を透過する第１カラーフィルタＣＦ１と、第１波長範囲よりも長波長の第２波長範囲の光を透過する第２カラーフィルタＣＦ２と、前記第２カラーフィルタの上に配置された第１スイッチング素子ＳＷ１と、前記第２カラーフィルタの上に配置された第２スイッチング素子ＳＷ２と、前記第１スイッチング素子と電気的に接続され、前記第１カラーフィルタの上方に位置する第１画素電極ＰＥ１と、前記第２スイッチング素子と電気的に接続され、前記第２カラーフィルタの上方に位置する第２画素電極ＰＥ２と、を備えたアレイ基板を具備することを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】画素を透過する光の透過率が高く、光源から発する光を有効に利用可能な電気光学装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の電気光学装置としての液晶装置は、素子基板１０と、画素に配置された透光性の画素電極１５と、素子基板１０と画素電極１５との間に設けられ、誘電体層１６ｂを介して対向配置された一対の透光性電極を有する蓄積容量１６と、蓄積容量１６と画素電極１５との間に設けられた第３層間絶縁膜１４と、を備え、画素を透過する光の分光分布が、少なくとも赤、緑、青の各波長範囲に対応して透過率のピークを有するように、画素電極１５、一対の透光性電極としての第１電極１６ａおよび第２電極１６ｃ、ならびに第３層間絶縁膜１４のそれぞれの膜厚が設定されている。 （もっと読む）

【課題】横電界方式を用いつつイオン性不純物のトラップ効率を高めた電気光学装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、電気光学物質層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板と、第１基板と第２基板とを貼り合わせるシール材と、複数の画素が配列された画素領域と、画素領域とシール材との間の外縁領域に形成されたイオントラップ部と、を有する電気光学装置であって、イオントラップ部は、第１基板の電気光学物質層側に形成され、平面視櫛歯状を成し互いの枝電極を噛み合わせるように配置された第１電極と第２電極とを有しており、第１電極及び第２電極の枝電極の延在方向が、当該枝電極の近傍の第１基板の外形辺に対して斜め方向であり、かつ電気光学物質層と第１基板との界面における電気光学物質の配向方向に対して交差する方向であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置及びその不良画素の修復方法を提供する。
【解決手段】第１絶縁基板と、第１絶縁基板上に実質的に第１方向に互いに平行に配置されたゲート配線及びストレージ配線と、ゲート及びストレージ配線と絶縁されて交差し、実質的に第２方向に配置されたデータ配線と、ゲートとデータ配線とによって定義された画素領域上に形成された第１画素電極と、第１画素電極に隣接する第２画素電極と、を含み、ストレージ配線は、実質的に第１方向に配置された水平部と、水平部から実質的に第２方向に分枝し、データ配線とオーバーラップする垂直部と、を含み、垂直部は、第１画素電極及び第２画素電極とオーバーラップし、第１画素電極と垂直部がオーバーラップする幅は、第２画素電極及び垂直部の間のオーバーラップする幅と実質的に同一であることを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】液晶層内に立設して形成される電極を形成した場合であっても、表示モード効率を向上させることが可能な液晶表示装置を提供することである。
【解決手段】
走査信号線と映像信号線とを有する第二の基板と、前記第二の基板と対向配置される第一の基板とを備え、前記走査信号線と前記映像信号線とで囲まれる画素の領域がマトリクス状に配置される液晶表示装置であって、画素境界に形成され、前記第二の基板の液晶面側から突出する凸状体と、前記凸状体の側壁面に形成される側壁面電極と、前記側壁面電極の底面側から伸延される下端側電極とからなる第一の電極と、前記画素の領域内に形成される第一の線状電極と、前記第二の基板側に形成され、前記前記第一の線状電極と対峙する第二の線状電極と、からなる第二の電極と、を有すると共に、前記画素の領域は、前記第一の電極と前記第二の電極とが第一の方向に延在する第一の画素領域と、第二の方向に延在する第二の画素領域とからなる液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】 液晶ディスプレイの性能を低下させることなく、より確実に欠陥部をリペアすることができるように工夫した材料を使用し、リペアを実施することで歩留まり向上・品質向上につなげることを目的とする。
【解決手段】 本発明に係る液晶パネルは、画素電極以外の領域を覆って、画素電極と対向する開口部３を有する遮光部２と、開口部３の全面と重なり合うように形成される色材７と、遮光部２の一部であって、開口部３に隣接する黒色粉末封入ポケット４と、黒色粉末封入ポケット４を覆う封入部５と、黒色粉末封入ポケット４内に封入されている黒色粉末６とを有する。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＳにおける従来の技術は、工程数が多く、開口率が低いので、実用化できな
い。また、液晶層に最も近接している層に存在する配線及び電極が多く、画素表示部にお
ける個々の液晶にかかる電界が不均一であった。
【解決手段】本発明は、ゲイト線１０２、１０５とコモン線１０３、１０４を最初に同時
に形成し、層間膜形成後、画素電極１０８とコモン電極１１０、１１１とソ─ス線１０６
、１０７を同時に形成する。こうすることによって、電極パタ─ンを単純化でき、工程を
簡略化した。また、液晶層に最も近接している層に存在する配線及び電極を画素電極とコ
モン電極とソ─ス線とし、その形状を単純なものにした。 （もっと読む）

【課題】表示品位の良好な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１色画素に配置された第１スイッチング素子と、第２色画素に配置された第２スイッチング素子と、第３色画素に配置された第３スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子、前記第２スイッチング素子、及び、前記第３スイッチング素子に対向する遮光層と、第１色画素に配置されるとともに前記第１スイッチング素子と対向する位置で前記遮光層に積層された第１カラーフィルタと、第３色画素に配置されるとともに前記第２スイッチング素子及び前記第３スイッチング素子と対向する位置で前記遮光層に積層された第３カラーフィルタと、第２色画素に配置されるとともに前記第１スイッチング素子と対向する位置で前記第１カラーフィルタに重なり且つ前記第２スイッチング素子及び前記第３スイッチング素子と対向する位置で前記第３カラーフィルタに重なる第２カラーフィルタと、を備えた液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】基板縁からの基板間導通材の張り出しや基板間導通用電極と信号線との重なり等を発生させることなく、基板間導通を広い面積で行うことのできる電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００では、素子基板１０に素子基板側基板間導通用電極６ｅを設けるにあたって、基板縁１０ａから画像表示領域１００ａ内に向けて複数本のデータ線６ａの引き回し部分が延在する複数の信号線形成領域６０の間６６を利用する。また、シール材８０については、素子基板側基板間導通用電極６ｅが設けられた領域では画像表示領域１００ａに向けて凹むように屈曲した屈曲部分８５を設け、かかる屈曲部分８５の内側に基板間導通材９０を屈曲部分８５に対向する対向基板２０の基板縁２０ａに沿って延在するように設ける。 （もっと読む）

【課題】タッチパネル機能を具備した液晶表示体において、液晶表示体の全体の厚み低減および、品質とコストに優れたタッチパネル電極付カラーフィルタを提供することを目的とする。
【解決手段】タッチパネルを具備する液晶表示体用のタッチパネル用配線付カラーフィルタであって、液晶層と対向するガラス基板側にカラーフィルタと液晶駆動用の配線が形成され、該配線がタッチパネル用の第一の配線を兼ねることを特徴とするタッチパネル用配線付カラーフィルタである。 （もっと読む）

【課題】画素アレイ部と駆動回路部とで電気光学物質の厚みに局部的なばらつきが生じ難い表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置を構成する一方の基板は、画素アレイ部、及び、駆動回路部を含み、画素アレイ部は、マトリクス状に配列された画素を有し、各画素は、画素電極、及び、画素電極を駆動する画素用薄膜トランジスタ４を備えており、各画素は、画素用薄膜トランジスタ４が形成された非開口領域、並びに、開口領域に分けられ、画素用薄膜トランジスタ４は、層間絶縁膜１０及び平坦化膜５で覆われており、開口領域には、非開口領域に形成された平坦化膜５が延在しており、画素アレイ部の開口領域における平坦化膜５の厚さは、駆動回路部における平坦化膜５の厚さよりも厚く、画素アレイ部の開口領域の上方に位置する電気光学物質層３の部分の厚さと、駆動回路部の上方に位置する電気光学物質層３の部分の厚さは同じである。 （もっと読む）

【課題】広い視野角を有しており、かつ従来と比べて製造コストが低い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】下地絶縁膜１０１上に形成され、トランジスタのソース１０２ｄ、チャネル領域１０２ｃ、及びドレイン１０２ｂが形成された島状の第１の半導体膜１０２と、ソース１０２ｄ又はドレイン１０２ｂとなる第１の半導体膜１０２と同一の材料から構成され、下地絶縁膜１０１上に形成された第１の電極１０２ｃと、第１の電極１０２ｃの上方に形成され、第１の開口パターン１１２を有する第２の電極１０８と、第２の電極１０８の上方に配置された液晶１１０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】後の工程で形成される光電変換層を広く形成することができ、センサの受光面積（開口率）を上げることができる、インテリジェント化された新規な半導体装置を用いた表示装置を提供する。
【解決手段】イメージセンサは、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を有するトランジスタを有し、トランジスタの上方に絶縁膜を有し、絶縁膜の上方にフォトダイオードを有する。トランジスタはフォトダイオードと重なる位置に設けられている。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックス層を設計値以上に拡張しなくても、位置合わせずれによる光漏れが生じることを抑制できる半導体装置を提供する。
【解決手段】ボトムゲート電極１２ａとトップゲート電極１７ａで半導体層１４を挟むデュアルゲート型の薄膜トランジスタを有する半導体装置において、前記トップゲート電極は、第１のブラックマトリックス層によって形成され、前記半導体層は、前記トップゲート電極によって覆われている半導体装置である。 （もっと読む）

【課題】 表示品位の低下を抑制する。
【解決手段】 複数の画素に亘って形成された共通電極と、前記共通電極を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜の上において各画素に形成され前記共通電極と向かい合うとともにスリットが形成された画素電極と、を備えた第１基板と、第１方向に沿って延出した第１遮光部及び第１方向に交差する第２方向に沿って延出した第２遮光部を備え前記第１遮光部と前記第２遮光部の交差部において第１方向及び第２方向とは異なる方向に延出した斜辺を有するブラックマトリクスと、前記交差部と重なる位置から前記第１基板に向かって延出した柱状スペーサと、を備えた第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化す
ることを目的の一とする。
【解決手段】第１の絶縁膜を形成し、第１の絶縁膜に酸素ドープ処理を行って、第１の絶
縁膜に酸素原子を供給し、第１の絶縁膜上に、ソース電極およびドレイン電極、ならびに
、ソース電極およびドレイン電極と電気的に接続する酸化物半導体膜を形成し、酸化物半
導体膜に熱処理を行って、酸化物半導体膜中の水素原子を除去し、水素原子が除去された
酸化物半導体膜上に、第２の絶縁膜を形成し、第２の絶縁膜上の酸化物半導体膜と重畳す
る領域にゲート電極を形成する半導体装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックス層の幅を設計値以上に拡張しなくても、位置合わせずれによる光漏れが生じることを抑制する。
【解決手段】ボトムゲート電極１２ａと第１のブラックマトリックス層１７ａで第１の半導体層１４を挟むシングルゲート型の薄膜トランジスタを有する半導体装置であって、前記第１の半導体層と前記第１のブラックマトリックス層は重畳している半導体装置である。 （もっと読む）