説明

Fターム[2H092PA09]の内容

液晶−電極、アクティブマトリックス (131,435) | 他の構成要素との関連 (13,620) | 光学要素 (6,706) | 遮光、吸収部材 (1,441)

Fターム[2H092PA09]に分類される特許

101 - 120 / 1,441


【課題】光配向を用いたIPS方式の液晶表示装置において、配向膜が柱状スペーサによって削れることを防止する。
【解決手段】対向基板200に形成された柱状スペーサ204がTFT基板100に接触する部分に、画素電極108よりも高い、台座114を形成する。画素電極108および台座114の上に2層構造の配向膜113を塗布すると、レベリング効果によって、台座114上の配向膜113は薄くなる。この状態で光配向すると、台座上の光分解した上配向膜112は消失し、機械的な強度の大きい下配向膜111が残る。したがって、配向膜削れを防止できる。一方、画素電極108上では、上配向膜112は元々厚いので、液晶を配向させるための所定の膜厚を確保できる。 (もっと読む)


【課題】薄膜トランジスタ層の連携グループ化回路素子で形成されたドライブ線、及びカラーフィルタ層と光を変更又は発生する材料層との間に形成されたセンス線を含む一体型タッチスクリーンを提供する。
【解決手段】TFT層の共通電極(Vcom)は、タッチ感知動作中に連携してグループ化されてドライブ線を形成する。センス線は、カラーフィルタガラスの下側に形成され、そしてカラーフィルタガラスとTFT層との間に液晶領域が配置される。センス線をカラーフィルタガラスの下側に、即ち表示ピクセルセル内に配置することで、カラーフィルタガラスを、例えば、ピクセルセルがアッセンブルされた後に薄くできるという利益をもたらす。 (もっと読む)


【課題】表示領域の縁端部付近で表示品位が低下するのを抑える。
【解決手段】仮想線200の内側である表示領域では、表示画素110aがマトリクス状に配列している。仮想線200の外側では、表示領域を囲むように周辺領域が形成されて、ブラックマトリクスで遮光される。周辺領域では、ダミー画素110bが配列している。ダミー画素110bのうち、表示画素110aに隣り合う位置のダミー画素110bを、表示領域の周縁に沿った方向でみて1画素おきに白色および黒色の交互配列するように、画素電極に印加する電圧が規定される。 (もっと読む)


【課題】 反射電極の間を通過する入射光の光量低減が要望されている。
【解決手段】 半導体基板に、複数のスイッチング素子が形成されている。半導体基板の上に、スイッチング素子に対応して配置され、対応するスイッチング素子に接続された反射電極が形成されている。反射電極の上面及び端面を覆い、反射電極の間の領域において、反射電極の底面と同じか、該底面よりも低い位置に上面が配置されているカバー絶縁膜が形成されている。反射電極の間のカバー絶縁膜の上に、遮光膜が形成されている。遮光膜の上面が、反射電極の上面よりも高い位置に配置されている。 (もっと読む)


【課題】同一の層間膜上に画素電極と、ゲート配線を形成した半導体装置において、マス
ク枚数を追加することなく、液晶の焼きつきや特性劣化を低減する。
【解決手段】ゲート配線上に絶縁膜を設けることで、ゲート配線が非選択の期間に液晶に
かかるゲート電圧の絶対値を減少させることができる。絶縁膜は遮光性樹脂膜、柱状スペ
ーサーで形成すると、マスク枚数の増加を抑えることができる。また、絶縁膜上に画素電
極を形成し、ゲート配線と画素電極が重なり合うようにすることで、画素電極の電界遮蔽
効果によって、液晶にかかるゲート電圧を減少させることができる。 (もっと読む)


【課題】広い視野角での立体視表示を実現できる立体表示装置を得る。
【解決手段】映像を表示する表示部と、光を透過および遮断する、表示部の表示面内における垂直方向Yから傾いた第1の方向に延伸するように形成された複数の液晶バリアを有する液晶バリア部とを備える。上記液晶バリア部は、液晶層と、液晶バリアに対応する位置に、前記液晶層を挟むように構成された第1の電極(透明電極110,120)および第2の電極とを有する。上記第1の電極は、第1の方向に延伸する第1の幹部分61と、第1の幹部分の両側において、第1の幹部分に対して非線対称な方向にそれぞれ延伸する複数の枝部分63とを含むものである。 (もっと読む)


【課題】コントラスト比と広視野角を同時に確保することができ、液晶分子の応答速度を速くすることができるだけでなく、優れた表示特性を示す液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態にかかる液晶表示装置は、互いに対向する第1基板および第2基板と、第1および第2基板の間に介在しており、液晶分子を含む液晶層と、第1基板の上に配置されており、互いに分離されている第1画素電極および第2画素電極とを含み、第1画素電極および第2画素電極の1つは、データ線を介して第1電圧が印加され、第1画素電極および第2画素電極の残りの1つは、電圧伝達線を介して第2電圧が印加され、第1画素電極および第2画素電極は、幹部と、幹部から延びた複数の枝電極とを含み、第1画素電極の枝電極と第2画素電極の枝電極は交互に配置されており、第1画素電極および第2画素電極の幹部は、電圧伝達線と少なくとも一部重畳する。 (もっと読む)


【課題】反射型液晶表示装置の紫外線による劣化を防止し、反射率の低下、フリッカーのない良好な表示品位を得る。
【解決手段】絶縁性基板と透明電極との間に、波長365nmにおける透過率(T(365nm))と波長315nmにおける透過率(T(315nm))の比(T(365nm)/T(315nm))が6.3以上である紫外線吸収層を設ける。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置の輸送時等における振動や衝撃等に起因する表示ムラの発生を防止することのできるアレイ基板及びそれを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】アレイ基板1は、透明基板2、走査線31、走査線31に交差する信号線、走査線31及び信号線の交差部近傍に設けられた薄膜トランジスタ3、走査線31又は信号線と平行に設けられてなる共通配線71、共通配線71に接続され、走査線31及び信号線で区画された領域16内に形成された共通電極7、共通電極7上に絶縁層12を介して設けられ、複数のスリット81を有する画素電極8、表示領域16に設けられた複数色の着色部5、並びに非表示領域15に設けられた柱状スペーサ6を備え、柱状スペーサ6の頂部に9秒間で200mNまで荷重をかけた状態で5秒間保持したときに、荷重前後における柱状スペーサ6の頂部の位置の変位量Tが0.45μm以上である。 (もっと読む)


【課題】液晶装置において、簡単な構成で、好適に装置の温度を検出する。
【解決手段】液晶装置は、シール材(52)を介して貼り合わされた一対の基板(10,20)と、一対の基板間に挟持された液晶(50)と、一方の前記基板の少なくとも一辺に沿って配置され、平面的に見てシール材と重なる位置に配置された感温配線(200)とを備える。感温配線は、温度を検出可能な配線として構成されており、装置の温度を好適に検出することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明はTFT−LCDアレイ基板及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明はTFT−LCDアレイ基板及びその製造方法に関し、アレイ基板はベース基板と、ベース基板上に形成され画素領域を限定するゲートライン及びデータラインを含み、前記画素領域内には画素電極、薄膜トランジスタと共通電極が形成される。また、導電性薄膜材料により製造されるブラックマトリクスを含み、前記ブラックマトリクスは前記共通電極と接続される。 (もっと読む)


【課題】 遮光だけでは抑制できない、入射してしまう光により生じる電子(ホール)による影響を抑制する。
【解決手段】 トランジスタのドレイン領域34よりも、多数キャリアに対して、ドレイン領域における電圧とQ(単位電荷量)との積の基準値よりも低いポテンシャルとされる領域36を設けるか、もしくはドレイン領域の周りにポテンシャル障壁を設ける。かかる構成により、フローティングとなる反射電極30と接続されたドレイン領域34の回りのポテンシャル制御を行い、半導体基板内に発生した光キャリアがドレイン領域34に導かれにくくする。 (もっと読む)


【課題】トランジスターの静電破壊を抑制する。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、基板上に第1トランジスターを形成する工程と
、第1トランジスターが形成された基板上に第1絶縁膜を形成する工程と、第1絶縁膜を
エッチングして、第1トランジスターに通じる第1貫通孔を形成する工程と、第1貫通孔
を介して第1トランジスターに接続された第1部分および第1部分とは接続されていない
第2部分を有する第1導体膜を第1絶縁膜上に形成する工程と、第1導体膜上に第2絶縁
膜を形成する工程と、第2絶縁膜をエッチングして第1導体膜の第1部分および第2部分
のそれぞれに通じる第2貫通孔および第3貫通孔を形成する工程と、第2貫通孔および第
3貫通孔を介して、第1導体膜の第1部分および第2部分を電気的に接続する第2導体膜
を第2絶縁膜上に形成する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】画素電極及び共通電極が一つの表示板に形成された構造の液晶表示装置の透過率を高め、データ線と画素電極間の容量結合による光漏れを防止し、さらにデータ線の負荷を減らす。
【解決手段】本発明は液晶表示装置及びその製造方法に関するものである。本発明の一実施形態による液晶表示装置は、互いに対向する第1基板及び第2基板、第1基板と第2基板の間に介在される液晶層、第1基板の上に位置する第1データ線、第1基板の上に位置し、第1データ線からデータ電圧が印加される画素電極、第1基板の上に位置し、画素電極の少なくとも一部分と第1データ線と重畳する共通電極、及び誘電定数が3.5以下である物質から成り、共通電極と第1データ線の間に位置する第1部分を含む保護膜を備え、画素電極と共通電極のうちのいずれか一方は離隔している複数の枝電極を含み、他方の電極は面状である。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、所望の色温度を実現する。
【解決手段】電気光学装置は、半導体層(1a)を有する画素トランジスター(30)と、画素トランジスターに対応して設けられた画素電極(9a)と、画素電極に対応して設けられたカラーフィルター(220)と、平面的に見てカラーフィルターと少なくとも部分的に重なるように、且つ半導体層と同じ層に形成されており、透過する光の色温度を調整する色温度調整層(500)とを備える。 (もっと読む)


【課題】横方向電界の強度を強め、コントラスト比を低下を抑制する。
【解決手段】ブルー相を示す液晶層を挟持する第1の基板及び第2の基板と、前記第1の基板上に設けられたトランジスタと、第1の画素電極および第1の共通電極と、前記第2の基板上に設けられた第2の画素電極および第2の共通電極とを有し、前記第1の画素電極は、前記トランジスタと電気的に接続され、前記第1の画素電極は、前記第2の画素電極と電気的に接続されている液晶表示装置に関する。 (もっと読む)


【課題】 階調表示と応答性の改善を両立させ、さらに高輝度表示、及び透過表示若しくは反射表示の可能な斜め電界液晶表示装置用のカラーフィルタ基板、及びこのカラーフィルタ基板を備える斜め電界液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 階調表示を行う通常表示と明るいダイナミック表示、透過表示若しくは反射表示が可能な斜め電界液晶表示装置用カラーフィルタ基板であって、透明基板、この透明基板上に形成された透明導電膜、この透明導電膜上に形成された、複数の多角形画素形状の開口部を有するブラックマトリクス、このブラックマトリクスの開口部の中央に形成された第2の透明樹脂層、この透明導電膜上に形成された着色層、及びこの着色層上に形成された第1の透明樹脂層を具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】液晶装置における表示領域の外側の遮光性を向上させる。
【解決手段】遮光膜54は、TFTアレイ基板10上において、画像表示領域10aの外側に延びる周辺領域のうち額縁遮光膜53が形成された額縁領域の外側に形成されている。データ線駆動回路101及び引き回し配線90は、遮光膜54に覆われている。引回配線90は、外部回接続端子102と、データ線駆動回路101、走査線駆動回路104、及び上下導通端子106等とを電気的に接続している。遮光膜54は、額縁遮光膜53によって遮光しきれなかった入射光、及び当該遮光膜53及び額縁遮光膜54によってTFTアレイ基板1側に反射された反射光を額縁領域の外側で遮光できる。 (もっと読む)


【課題】表示に寄与する画素とダミー画素との境界での表示上の不具合を抑える。
【解決手段】平面視で表示に寄与する画素電極118aを囲むように、かつ、隣り合うように設けられた画素電極118bと、平面視で画素電極118bの外側に設けられた画素電極118cと、画素電極118a、118b、118cに対して、断面視で対向側とは反対側に設けられ、平面視で画素電極118aに対応する画素の遮光率よりも、画素電極118b、118cに対応する画素での遮光率を大きくさせるシールド電極72とを有し、画素電極118aの各々に対し、表示画像に応じた電圧をそれぞれ印加し、画素電極118bの各々に、当該画素電極118aに隣り合う画素電極118aと同じ電圧をそれぞれ印加し、画素電極118cに、液晶105を不透過とする電圧を印加する。 (もっと読む)


【課題】オーバーコート層と、透明導電膜との段差に起因する液晶表示不良を抑制した液晶表示装置用カラーフィルタ基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板上に、ブラックマトリクス、着色画素、これらを被覆するオーバーコート層、およびオーバーコート層上にパターン形成された透明導電膜、とを有する液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法であって、以下の工程を順次行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。(1)透明基板上に開口部を有するブラックマトリクスを形成する工程(2)ブラックマトリクスの開口部に赤、緑、青の各画素を形成する工程(3)透明基板上のブラックマトリクスの開口部に赤、緑、青の各画素が形成された基板上にオーバーコート層を形成する工程 (もっと読む)


101 - 120 / 1,441