【課題】取出し時の膜材料の付着や、ガラス基板保持部に付着した膜材料のガラス基板への転写を抑制することができるＥＵＶマスクブランクの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１０の裏面側を保持する基板保持部２０と、ガラス基板１０の側面全周、基板保持部２０の側面全周のうち、基板保持部２０の上端を含めた高さ方向における少なくとも一部、および、ガラス基板１０の成膜面の外縁部を覆うことができ、搬出入用の開口部を有し、搬出入時の位置と、成膜時の位置と、の間を上下方向に移動可能である遮蔽部３０と、ガラス基板１０または製造後のＥＵＶＬ用反射型マスクブランクの搬出入用のアームと、を有し、搬出入用の開口部、ガラス基板１０および搬出入用のアームが所定の条件を満たすスパッタリング装置を用いて、ガラス基板上に反射層および吸収層を成膜するＥＵＶＬ用反射型マスクブランクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】極めて平坦度が高く、かつ、微小欠陥（凹状欠陥、凸状欠陥）を低減したマスクブランク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨パッド２１，１１が貼り付けられ上下に対向して設けられた上定盤２０と下定盤１０との間に、複数のガラス基板を挟持し、ガラス基板に上定盤側２０より研磨液を供給しながら、ガラス基板の両主表面を両面研磨する。ガラス基板の形状は四角形で、そのコーナー部においてノッチマークを少なとも１以上有する。ガラス基板の上記両面研磨は、ノッチマークが形成されていない一方の主表面を上定盤２０側にセットして行う。 （もっと読む）

【課題】 板状体の正面を塞がずに、かつ光源と受光素子とを備えている投受光センサを用いて、板状体を確実に検出する。
【構成】 検出装置は板状体が所定位置に存在するか否かを検出する。検出装置は、板状体の一側面へ向けて斜めにスポット状の検出光を投光する光源と反射光を受光する受光素子とを備えている投受光センサと、投受光センサから見て板状体よりも遠方にあり、かつ板状体が存在しない場合、検出光を拡散反射する拡散反射部と、投受光センサへ入射する反射光の所定の強度以下であることから、板状体を検出する検出部、とを備えている。板状体の側面が透明の場合、板状体の側面へ入射した検出光は板状体の内部で複数回反射し投受光センサとは異なる方向へ出射し、板状体の側面が鏡面状の反射面の場合、板状体の側面へ検出光は斜めに入射して投受光センサとは異なる方向へ正反射する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光装置の静電チャック吸着時に平坦度の低下を抑制することのできる反射型マスクブランクを提供することにある。
【解決手段】ＥＵＶ光を反射するＥＵＶ反射層１３と、ＥＵＶ反射層１３の上に形成されたＥＵＶ吸収層１４と、ＥＵＶ反射層１３を介してＥＵＶ吸収層１４を支持する基板１２とを備えた反射型マスクブランクは、ＥＵＶ反射層１３と反対側の基板１２の裏面に第１導電膜１０を有しているとともに、第１導電膜１０と電気的に導通しない第２導電膜１１を基板１２の各側面に有している。そして、第１導電膜１０は静電チャックの裏面側静電吸着と静電吸着し、第２導電膜１１は静電チャックの側面側静電吸着と静電吸着する。 （もっと読む）

【課題】原版へのパーティクルの付着の防止に有利な技術を提供する。
【解決手段】パターンが形成されたパターン領域を有する原版を用いて、前記パターンを基板に転写するリソグラフィ装置であって、前記原版を保管するストッカと、前記パターンを前記基板に転写する転写処理を行う処理部と、前記ストッカと前記処理部との間で前記原版を搬送する搬送機構と、を有し、前記搬送機構は、前記パターン領域を覆うように配置されることにより、前記パターン領域を保護する保護プレートと、前記保護プレートに配置され、前記原版の前記パターン領域以外の部分を介して前記原版を保持する保持部と、を含むことを特徴とするリソグラフィ装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】バッファ機能と反転機能とを統合運営できるバッファユニット、基板処理設備、及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明によるバッファユニット４０００は、ベースプレート４１１０と、ベースプレート４１１０に互いに離隔されて設置される第１垂直プレート４１２０と第２垂直プレート４１３０とを有するフレーム４１００と、フォトマスクＭが置かれ、第１及び第２垂直プレート４１２０，４１３０間に反転自在に設置される第１バッファ４２００と、及び第１及び第２垂直プレート４１２０，４１３０の外方に設置され、第１バッファ４２００に置かれるフォトマスクをグリップし、反転されるように第１バッファ４２００を駆動させる駆動部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】保管ケースからのアウトガス成分のフォトマスク用合成石英ガラス基板及びフォトマスクブランクへの吸着を防ぎ、同時に、基板等表面への微小異物の固着を抑える。
【解決手段】
フォトマスク用合成石英ガラス基板又はフォトマスクブランクの保管方法であって、保管ケースを用意することと、セルロース系不織布に包装された吸着剤を前記保管ケースの内部に設置することと、前記フォトマスク用合成石英ガラス基板又はフォトマスクブランクを、前記保管ケース内に収納することを含むフォトマスク用合成石英ガラス基板又はフォトマスクブランクの保管方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】近接露光を行う際に、保持領域の近傍におけるパターンの転写精度を向上させる。
【解決手段】第１主表面に転写用パターンを形成してフォトマスクとなすためのフォトマスク用基板であって、四角形状である第１主表面上の、転写用パターンの形成されるパターン領域の外であって、第１主表面の対向する二辺の近傍に、露光機がフォトマスクを保持するときに保持部材が当接する当接面を含む保持領域を有し、保持領域は、保持領域内の平坦度指数Ｆｓｘとし、保持領域外の平坦度指数Ｆｅｘとしたとき、Ｆｓｘ≦Ｆｅｘを満たす。 （もっと読む）

【課題】ウエハー又はレチクルと協働して拡散バリアを与える最小の接触を含む支持構造及び環境制御手段を与える容器において、ウエハー又はレチクルの面上に置かれる微粒子を軽減する。
【解決手段】容器は、突起物を伴う平坦で研磨された表面を有するベースを含み、ウエハー或いはレチクルはこの突起物上に設置される。突起物は、ウエハー又はレチクルと最小の接触を与えるとともにウエハー又はレチクルをベースに浮かせる球としての配置を有し、それらの間にギャップを与える。このギャップは、ウエハー又はレチクルをベースの平坦で研磨された表面から分離するとともに微粒子のギャップへの移動を防止し、それによってウエハー又はレチクルの高感度面の汚染を防止する。拡散フィルタは、ろ材なしで圧力均一化を与える。トップカバー上の移動可能なレチクルのピンはレチクルを規定する。二重ポッドの実施態様によってさらなる分離及び保護が得られる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクへの塵の付着を抑制しつつ、フォトマスク表面に付着した有機化合物を除去可能なマスクケースを提供する。
【解決手段】内部空間にフォトマスクが収納されるケースである。前記フォトマスクに対向する底面に真空紫外光透過部（５）を有し、前記内部空間と連通したガス流入孔（７）およびガス流出孔（８）が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明はウェーハの露光エネルギー情報を利用した露光用マスクの管理方法を提供する。
【解決手段】 露光装備でウェーハを露光させるために使うマスクに対する情報を露光装備から算出して、該当のマスクを利用して各ウェーハを露光させるうちに適用された光エネルギー値を算出して、算出された光エネルギー値をデータサーバーに貯藏して、半導体パッケージ内の多数の露光装備から進行されるすべてのウェーハの露光工程に対して同じデータを取合して多数の露光装備によって使われる多数のマスクそれぞれに対して露光エネルギーに対する露出情報を蓄積管理するので、結晶成長、混濁のようなマスク汚染の直接的な原因である露光エネルギーに対するマスクの露出程度を直接的に算出してマスク欠陷を予測して、それによる対策を立てることで半導体収率下落を防止して半導体生産の収率を進めることができる。 （もっと読む）

【課題】使用環境に応じて，収納された基板に異物が付着することを効果的に防止する。
【解決手段】基板収納装置１００内に外気を取り込む給気部１１０と，給気部に対向して配置された排気部１２０と，給気部と排気部との間に設けられ，これらの間を連通する連通孔１４２を有する基板載置板１４０と，給気部に設けられた給気フィルタ１１２と，給気部又は排気部に設けられたファン１２２とを備え，基板収納装置１００内の状態を検出する状態センサと，パーティクル帯電装置と，温調装置とのいずれか又は２つ以上の組合せを装着孔１５０に着脱自在に設けた。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィシステムにおいて用いられるレチクルを保護する取外し可能なカバーを提供すること。
【解決手段】 取外し可能なカバーは、フレームと、上記フレームによって支持される薄膜とを含む。上記薄膜は、検査波長に対して透過性であるため、所定位置にある上記取外し可能なカバーを用いて、上記レチクルを検査することが可能である。上記取外し可能なカバーが所定位置にあり、かつ、リソグラフィによる露光を行う際に取外し可能である場合、この取外し可能なカバーは上記レチクルを保護する。上記取外し可能なカバーは、少なくとも１つのレチクルファスナをさらに含み得る。上記取外し可能なカバーが所定位置にある場合、上記少なくとも１つのレチクルファスナは、上記レチクルに力を加えて、これにより、上記取外し可能なカバーが上記レチクルに対して動くのを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】ブランクスにおけるレジスト膜のアミン性化合物の吸着によるパターン寸法精度の低下を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】基板上に化学増幅型レジスト膜を形成し、第１のプリベーク処理を行った後、大気露出させることなく、或いは化学増幅型レジスト膜に吸着されたアミン系化合物を実質的に全て脱着した状態で、荷電粒子ビームにより描画を行う。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク形状の補正機能を備えた露光装置に対応した平坦度を持つマスクブランク用基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明においては、精密研磨された基板の主表面の実測領域内のチャック前主表面形状を測定し、基板のチャック前主表面形状と前記マスクステージの形状に基づいて、基板から作製されたフォトマスクを露光装置にセットしたときにおける基板のチャック後主表面形状をシミュレーションにより得て、チャック後主表面形状の仮想算出領域内での平坦度が第１閾値以下である基板を選定し、選定された基板について、チャック後主表面形状の補正領域内で第１の方向に沿う断面形状に近似する第１近似曲線を算出し、第１近似曲線から近似曲面を算出してチャック後主表面形状から差し引く補正を行い、補正後主表面形状を算出し、補正後主表面形状の補正領域内での平坦度が、第２閾値以下であるものを選定する。 （もっと読む）

【課題】極紫外線フォトマスク、フォトマスクの製造方法、及びプラズマエッチングチャンバシステムを提供する。
【解決手段】極紫外線フォトマスク、フォトマスクの製造方法、及びプラズマエッチングチャンバシステム装置が提供される。極紫外線フォトマスクの製造方法は、フォトマスク基板１０上に上部膜を形成した後、上部膜をパターニングして傾いた側壁を有する上部パターン４５を形成する段階を含む。上部膜をパターニングする段階は、上部膜の上部面に傾いた第１方向に平行に運動する荷電された粒子を使用して、上部膜を異方性エッチングする段階を含む。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩやＴＦＴ−ＬＣＤ等の製造において、ＴＦＴ等の電子デバイスのパターンをより精度よく製造することができるフォトマスクの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】描画機のステージ１０上に配置された場合のフォトマスクブランク１３の表面形状の変形を高さ測定手段１２で測定し、描画データ作成手段１５により、その表面形状の変形要因の中でフォトマスクが露光装置で使用される際には無くなる変形要因に起因する描画のずれについて、設計描画データを補正して描画データを得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来からの運用では、主にレチクルはレチクル・ケースに収容された状態で、レチクル・ストッカに保管されるため、レチクル・ケース自体から出る脱ガスの影響を受けやすく、脱ガス成分の付着と微細化による露光時の照射エネルギーの増加とあいまって、ヘイズが発生することが明らかとなった。
これらのことから、レチクル・ケースに収容しない状態でレチクルを保管するベア・レチクル・ストッカ（ベア・レチクル保管庫）の適用が有効である。しかしながら、ベア・レチクル・ストッカのレチクル入出庫能力は比較的低いという問題がある。
【解決手段】本願発明は光リソグラフィ工程において、比較的ラフなプロセスに使用するレチクルは、レチクル・ケースに収容して保管し、比較的微細なプロセスに使用するレチクルは、レチクル・ケースに収容しないで保管するものである。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの基板から着膜層を簡易及び低コストな方法で剥離し、基板の再利用を図ることにより、フォトマスクの低コスト化を図る。
【解決手段】基板上にパターン層と保護膜層とが形成されたフォトマスクにて、上記基板から上記パターン層及び上記保護膜層を剥離する方法であって、上記フォトマスクの上記保護膜層側から所定の深さの切り込み部を形成する第一ステップと、上記パターン層を上記基板から剥離する溶剤を上記切り込み部から浸透させる第二ステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】 フオトマスク等の基板を収納して、保管時および運搬時に、基板が損傷したり、ケースの内部発塵により汚染したりすることを防止し、取扱いが容易で、基板の出し入れ時に発塵することが抑えられ、ケース自体の洗浄性、乾燥性に優れた、安価な基板収納ケースを提供する。
【解決手段】 上蓋および下蓋の四隅に各々の蓋の内面より突出した支持部が設けられており、基板の四隅の下面側の各２つのエッジでもって前記下蓋の支持部に基板の位置決めと支持を同時に行ない、かつ上蓋を閉めることによって、前記上蓋の支持部により前記基板の四隅の上面側の各２つのエッジを固定して基板を収納するもので、前記ヒンジの位置がケースの厚みの中心より上に位置し、上蓋と下蓋を封止するためのロック部の位置がヒンジよりも下に位置する。 （もっと読む）