【課題】 金属とシリコンと窒素とを含む薄膜を剥離液で剥離する場合において、ガラス基板の荒れを抑制しながら確実に薄膜を剥離し、良好にマスクブランクス用ガラス基板を再生する。
【解決手段】 ガラス基板上に主として金属とシリコンと窒素とを含む薄膜が形成されたマスクブランクス用ガラス基板の上記薄膜の剥離を、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウムから選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、硫酸から選ばれる少なくとも一つの酸化剤とを含み、前記弗素化合物を０．１〜０．８ｗｔ％含む水溶液に接触させて行って再生する。 （もっと読む）

【課題】マスクブランク用ガラス基板に対し、発塵の原因となりにくいマーカを適切に形成する。
【解決手段】マスクブランクの製造に用いられるマスクブランク用ガラス基板であって、マスクブランク用ガラス基板の転写パターンを作製する際に影響のない領域の面に、マスクブランク用ガラス基板を識別又は管理するための情報を複数の凹部２０で表現したマーカ１８が形成されており、マーカ１８を構成する２０凹部は、その縁部が略円形の丸孔であり、隣接する凹部２０同士の縁部間の距離Ｌ１が、５０μｍ以上である。マーカ１８は、例えばマスクブランク用ガラス基板の端面に形成される。 （もっと読む）

【解決手段】コロイド溶液及び酸性アミノ酸を含むことを特徴とする合成石英ガラス基板用研磨剤。
【効果】本発明によれば、ＩＣ等の製造に重要な光リソグラフィー法において使用されるフォトマスク基板用合成石英ガラス基板等の合成石英ガラスの製造において、合成石英ガラス基板表面の高感度欠陥検査装置で検出される欠陥の生成が抑制され、半導体デバイス製造等において歩留まりの向上が期待され、かつ半導体工業の更なる高精細化につながる。 （もっと読む）

【解決手段】コロイド溶液及びフェノール類を含むことを特徴とする合成石英ガラス基板用研磨剤。
【効果】本発明によれば、ＩＣ等の製造に重要な光リソグラフィー法において使用されるフォトマスク基板用合成石英ガラス基板等の合成石英ガラスの製造において、合成石英ガラス基板表面の高感度欠陥検査装置で検出される欠陥の生成が抑制され、半導体デバイス製造等において歩留まりの向上が期待され、かつ半導体工業の更なる高精細化につながる。 （もっと読む）

【課題】凹欠陥を有するＥＵＶＬ用光学部材の光学面を平滑化する方法を提供する。
【解決手段】ＴｉＯ₂を含有し、ＳｉＯ₂を主成分とする石英ガラス材料製のＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）用光学部材１０の凹欠陥を有する光学面１１に対して、波長１０．６μｍの炭酸ガスレーザ２１をピーク強度０．５〜１．５ｋＷ／ｃｍ²で照射する。炭酸ガスレーザ２１の照射により加熱された凹欠点の周囲の石英ガラスがリフローして凹欠点が埋まることによって、光学面１１が平滑化される。 （もっと読む）

【課題】多層反射膜を構成する材料のみで高い反射率を発揮することができる多層反射膜付基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の多層反射膜付基板の製造方法は、基板１上に、低屈折率層２１と高屈折率層２２とを交互に積層させた構成の多層反射膜を有する多層反射膜付基板の製造方法であって、前記低屈折率層２１は、Ｓｉ又はＳｉ化合物の低屈折率材料で構成され、前記高屈折率層２２は、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｒｕ及びＲｈからなる群より選ばれた高屈折率材料で構成されており、前記高屈折率層２２は、前記高屈折率材料のスパッタターゲットからの飛散粒子が前記基板１に向かって垂直方向に対して、所定の入射角度を持って入射するように成膜する斜入射成膜で形成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板面を傷つけることなく、また、パーティクルの発生を抑制させ得る基板支持装置を提供すること。
【解決手段】各基板支持部４の上部面の一部が、基板載置部に載置される基板の平滑面（裏面）８と該平滑面８の外周に設けられた面取部（面取面）９との境界領域に形成される稜部１０に当接して基板を保持するように基板載置部内に配置されている。つまり、本発明の装置では、基板支持部４は基板外周近傍の平滑面８には接することがない。従って、基板平滑面を傷つけることなく、また、パーティクルの発生も抑制される。 （もっと読む）

【課題】塗布方向に対し、均一な膜厚のレジスト膜を形成することができるフォトマスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】レジスト液２１をノズル２２の毛管現象により上昇させ、上昇させたレジスト液２１と下方に向けられた基板１０の被塗布面１０ａとを接液させ、ノズル２２と基板１０とを相対的に移動させて被塗布面１０ａにレジスト膜を形成することによりフォトマスクブランクを製造するフォトマスクブランクの製造方法であって、毛細管現象におけるレジスト液２１に作用する毛管力を制御し、基板１０の被塗布面１０ａに形成される塗布方向のレジスト膜の膜厚を制御することとした。 （もっと読む）

【課題】覗き見困難で、表示性能が良いマイクロカプセル型電気泳動式表示パネルが求められていた。
【解決手段】支持層と補強層とメンブレン層からなるステンシルマスクにおける前記支持基板層が除かれている前記開口部の前記補強層と前記メンブレン層からなる多層メンブレン層における前記補強層の一部が除去された前記メンブレン層からなるメンブレン層開口部が、前記メンブレン層がパターン状に除去されているステンシルパターン領域より大きい面積を有しており、パターン領域内にはステンシルパターン領域を形成しているステンシルマスクにおいて、補強層とメンブレン層がシリコンが共にシリコンからなることを特徴とするステンシルマスクおよびその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】研磨、洗浄後の基板表面の研磨砥粒の残留を確実に防止し、高平滑な基板表面が安定的に得られるマスクブランク用基板、この基板を用いた反射型マスクブランク及び反射型マスクを提供する。
【解決手段】ガラス基板の表面に研磨パッドを接触させ、ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させてガラス基板の表面を研磨する研磨工程と、ガラス基板の表面を洗浄する洗浄工程とを有し、研磨砥粒はコロイダルシリカであって、研磨液のゼータ電位の極性と洗浄液のゼータ電位の極性とを一致させる。得られるマスクブランク用基板１上に多層反射膜２及び吸収体膜４を形成して反射型マスクブランク１０とし、この反射型マスクブランク１０における吸収体膜４をパターニングして吸収体パターンを形成して反射型マスク２０とする。 （もっと読む）

【解決手段】対角長が５００ｍｍ以上であり、平坦度／対角長が３６×１０^-6〜５０×１０^-6である大型合成ガラス基板の凸部分を＃６００〜＃３０００の粒径の砥粒をエアーによって吹き付けるサンドブラストにより除去して、上記合成石英ガラス基板の平坦度／対角長を６．０×１０^-6以下に高めることを特徴とする合成石英ガラス基板の加工方法。
【効果】本発明で得られた合成石英ガラス基板を露光に使用することで、露光精度、特に重ね合わせ精度及び解像度が向上するため、高精細な大型パネルの露光が可能となる。 （もっと読む）

【課題】網点状のマスクパターンを使い、光透過率の差で光感光性樹脂の硬化度を変えて樹脂突起間の膜厚差をつける方法においては、液晶の体積収縮に応じるだけの十分な膜厚差が稼げないという問題があった。フォトスペーサの高さが低めに設定された場合に、特に顕著になるこの現象に対し、十分な膜厚差が確保できるフォトスペーサの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】近接露光方式を用いるフォトリソグラフィー法によって基板上に高さの異なるフォトスペーサを製造するためのフォトマスクにおいて、前記フォトマスク面に凹部が形成され、該凹部に低いフォトスペーサに対応したマスクパターンを有することを特徴とするフォトマスクである。 （もっと読む）

【課題】加工ヘッドがガラス基板の端を超えた位置まで移動してもエッチャント領域を安定にでき、ガラス基板の周縁部まで高精度な加工を可能とする。
【解決手段】中央開口部に合わせてガラス基板を垂直姿勢に保持するベース板５２の前面側に保持したガラス基板３の表面に加工ヘッド２によりエッチャントを供給し、吸引することにより、加工ヘッド２とガラス基板３との隙間に一定面積のエッチング領域をなすエッチャントの流路を形成し、加工ヘッド２とガラス基板３とを相対的に走査してガラス基板３の表面を加工する表面加工装置において、ベース板５２に形成した中央の開口部５１の周囲にガラス基板３の裏面側外周部を吸着保持する真空チャック部５４をそれぞれ設け、ダミー部材６０に高さ、傾き調整用のねじ６４、６５を設けた。 （もっと読む）

【課題】所定の位相角及び透過率を有し、耐薬品性、耐光性、及び内部応力などの膜特
性に優れた光半透過膜又は光半透過部を有する位相シフトマスクブランクの製造方法等を
提供する。
【解決手段】透明基板上に、光半透過膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブラ
ンクの製造方法であって、透明基板上に、７０〜９５ｍｏｌ％のシリコンと、金属とを含
んだターゲットを窒素を含む雰囲気中でスパッタリングすることにより、窒素、金属及び
シリコンとを含み、圧縮応力を有する光半透過膜を形成した後、光半透過膜を、該光半透
過膜上に形成されるレジスト膜のベーク温度よりも高い温度で熱処理して、光半透過膜の
内部応力を低減する。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクを用いて高精度の微細パターンが形成されたインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板上にパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクにおいて、薄膜は、Ｃｒと窒素を含む材料で形成されている上層と、Ｔａを主成分とする化合物を含み、且つ、塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工が可能な材料で形成されている下層とからなる。薄膜の上層及び下層を、酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工し、続いて基板を、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工することによりインプリント用モールドを得る。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムを主成分として、遮光性が高くてパターン加工性に優れ、露光波長で低反射率を示し、かつ、２００〜４００ｎｍの波長域での反射率変動が比較的緩やかであり、ウェハ上のハーフピッチ４５ｎｍ以降のリソグラフィ技術に適した低反射型のフォトマスクおよびフォトマスクブランクスを提供する。
【解決手段】透明基板上に単層の薄膜もしくは２層以上の薄膜が形成されたフォトマスクブランクスにおいて、前記単層の薄膜もしくは２層以上の薄膜の最表面層が、アルミニウム化合物と該アルミニウム化合物に添加した金属アルミニウムとで構成され、前記金属アルミニウムの含有率が６０原子％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの薄膜層と、薄膜層を少なくとも部分的に取り囲み、薄膜層の縁部の少なくとも一部を取り付けるフレームとを有する、リソグラフィ、特にＥＵＶ（極紫外線）リソグラフィにおける光学装置のための光学薄膜素子に関する。薄膜層の締付けを容易にする少なくとも１つの締付け素子が設けられており、光学薄膜素子を投影露光システム、特にＥＵＶリソグラフィで使用することができ、薄膜素子の薄膜層を平坦となるように調節可能に締め付けることができる。対応した光学薄膜素子を作製するための方法が提案される。この方法では、薄膜層と共にリソグラフィによって締付け素子を作製する。
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【課題】マスクブランク用基板及びマスクブランク等の識別や管理を適切に行う。
【解決手段】マスクブランク用基板１０の製造方法であって、主表面１０２が４角形の板状の基板を準備する基板準備工程と、基板を識別又は管理するためのマーカ１０６ａ〜ｄを、主表面１０２の各辺にそれぞれ繋がる基板の４個の端面１０４ａ〜ｄのうち、少なくとも複数の端面に形成するマーカ形成工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】エッチングストッパ層に起因した反りを低減し、優れた転写精度を有する転写マスクの製造が可能なマスクブランクを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のマスクブランクは、基板上に凹部を設け、該凹部を埋めるようにエッチングストッパ層を設け、該基板および該エッチングストッパ層の上部に平坦な薄膜層を設けたことを特徴とする。本発明の構成によれば、転写マスクの開口部を設ける部位に、凹部を設けることで、該凹部を埋めるエッチングストッパ層は、開口部を形成する位置のみに形成されることになる。このため、基板全面にエッチングストッパ層を形成するよりも、エッチングストッパ層に起因した反りを低減することが出来る。 （もっと読む）

【課題】各研磨工程で使用する研磨装置がどのような研磨傾向を有するかを把握することによって、極めて平坦で平滑な表面性状を有する基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】製品として供する基板の研磨工程とは別に試験用基板を研磨する試験工程を含み、試験工程は、前段と後段とで連続する各研磨工程で使用する研磨機でそれぞれ少なくとも１回試験研磨する工程と、試験研磨する工程後のそれぞれの試験用基板の形状により、研磨機の研磨パッドの採用または不採用および後段の工程での基板のセット方向を選択する工程と、からなり、試験工程において、研磨パッドが不採用の場合、研磨パッドが採用となるまで研磨パッドを修正または交換した後に再度新たな試験用基板を用いて試験工程を繰り返し、基板を研磨する際、試験工程において採用された研磨パッドを用い、および選択された基板のセット方向に従って基板を研磨する工程を有することによって達成される。 （もっと読む）