【課題】ＥＵＶマスクブランクの製造時におけるガラス基板保持手段および、それを用いたＥＵＶマスクブランクスの製造方法。
【解決手段】ＥＵＶＬ用反射型マスクブランクスの製造時におけるガラス基板（以下基板）の保持手段であって、保持手段は、基板の裏面の一部を吸着保持する静電チャック部１１０と、押圧部１２０を有し、該押圧部で基板の成膜面側の一部を押圧することにより、基板を成膜面側および裏面側から挟持して保持する機械的チャックを行う。静電チャックによる基板の被吸着保持部、および、前記機械的チャックによる基板の被押圧部が、基板の表面および裏面の品質保証領域より外側にあり、静電チャックによる基板の吸着保持力と、機械的チャックによる基板の保持力との和が、２００ｋｇｆ以上であり、機械的チャックによる基板の単位面積当たりの押圧力が、２５ｋｇｆ／ｃｍ²以下であることを特徴とする基板保持手段。 （もっと読む）

【課題】露光光線の波長以下の大きさの露光パターンを、低コストかつ高スループットに得ることができるフォトマスク及び露光方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様であるフォトマスク１００は、基板及び遮光膜を有するものである。基板は、入射する露光光線が被転写体へ向けて透過させる。遮光膜は、基板上に形成され、露光光線を遮光する。遮光膜に設けられた開口部１１の内側には、開口部１１と同心かつ相似形の遮光板１３が形成されている。 （もっと読む）

【課題】露光光線の波長以下の大きさの露光パターンを、低コストかつ高スループットに得ることができるフォトマスク及び露光方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様であるフォトマスク１００は、基板及び遮光膜を有するものである。基板は、入射する露光光線を、被転写体へ向けて透過させるものである。遮光膜は、基板上に形成され、露光光線を遮光するものである。遮光膜には、格子状に配置される、正方形の複数の開口部１１が形成される。 （もっと読む）

【課題】研削工程後の基板の主表面近傍に発生する内部クラック等の欠陥を除去することのできるマスクブランク用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】対向する２つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、前記基板の主表面に対して研削を行う工程と、研削が行われた前記基板の主表面に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させる工程と、前記火炎を接触させる工程を行った後に、前記基板の主表面に対して研磨を行う工程とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】所定値以下の高い平坦度であり、研磨後の基板の主表面が対称性の高く、しかも、主表面の表面欠陥が抑制された基板を製造することができる研磨パッド、並びにこの研磨パッドを用いたマスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板主表面の研磨に用いられる研磨パッドであって、
基材と、
前記基材上に形成され、表面に開孔を有する発泡した樹脂からなるナップ層とから、少なくともなり、
前記研磨パッドの圧縮変形量が４０μｍ以上であり、
前記ナップ層を形成する樹脂の１００％モジュラスが１４．５ＭＰａ以上である
ことを特徴とする研磨パッド及びこの研磨パッドを用いたマスクブランク用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】吸収体パターンを被着させる前のマスクブランクの段階で位相欠陥を検出することが可能な装置を提供する。
【解決手段】マスク検査装置１００は、ＥＵＶ光を反射する多層膜が形成されたマスクブランクの表面に照明光を照明する照明光学系と、マスクブランク表面から反射された同じ位置の像について、異なるデフォーカス量でデフォーカスさせた位置で撮像するセンサ１０５，３０５と、異なるデフォーカス量で撮像されたマスクブランク表面の同じ位置での第１と第２の光学画像を用いて、マスクブランクの欠陥の有無を判定する判定部１７６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】より効率的な処理により、欠陥箇所にパターンが描画されにくくすることが可能な描画装置を提供する。
【解決手段】描画装置１００は、描画対象となる試料の描画領域を所定のサイズでメッシュ状に仮想分割した複数の小領域の小領域毎に、配置されるパターンの面積密度を算出する面積密度算出部６４と、試料の欠陥箇所が定義された欠陥情報を入力し、試料の配置位置を回転させて、欠陥箇所と重なる小領域の面積密度が最小となる試料の配置方向を探索する探索部６５と、探索された欠陥箇所と重なる小領域の面積密度が最小となる試料の配置方向になるように試料を配置した状態で、荷電粒子ビームを用いて試料にパターンを描画する描画部１５０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マスクブランク用基板に表面欠陥が発生した場合でも、簡便にかつ基板の平坦度及び表面粗さに悪影響を及ぼすことなくマスクブランク用基板の表面欠陥を修正することのできる、低コストかつ高い歩留まりのマスクブランク用基板の製造方法、並びにマスクブランク及び転写用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】対向する２つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、前記基板の２つの主表面を研磨する工程と、前記基板の主表面に存在する表面欠陥に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させて前記表面欠陥を修正する工程とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】石英ガラス母材を加熱溶融して成形する石英ガラス成形体の外径を容易に変更できるようにする。
【解決手段】カーボンよりなる板材を組み合わせることによって得られる正多角柱を外筒とする型材１０を用いて溶融成形を行う際に、得られる溶融成形体の外径を変更するために、板材の幅を変更することによって解決する。正八角形の場合、板材の一辺の幅をａから１．２ａ、そして１．４ａと大きくしていくことによって、組み立てられた正多角柱の内接円の直径（Ｒ）は、それぞれ２．４ａ、２．９ａ、そして３．４ａと大きくなっていくので、容易に直径を変更することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高価な高精細の電子線描画機を設計欠陥の深さの種類の数に応じて複数回使用することを要せずに、同一の基板に、数種の異なる深さの凹状の設計欠陥を、寸法精度や位置精度を向上させて形成することができる擬似位相欠陥を有する反射型マスクブランクスの製造方法、および擬似位相欠陥を有する反射型マスクの製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 数種の異なる深さの凹状の設計欠陥のパターン全てを、基板上に形成したハードマスクに一括してパターン形成し、その後、前記ハードマスクパターンをマスキングしながら順次基板をエッチング加工することで、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、設計欠陥の深さ、若しくは高さの種類の数に応じて複数回のパターン形成とエッチングの工程を行うという複雑な工程を必要とせずに、同一の基板に、数種の異なる深さの凹状の設計欠陥と数種の異なる高さの凸状の設計欠陥を形成することができる擬似位相欠陥を有する反射型マスクブランクスの製造方法、および擬似位相欠陥を有する反射型マスクの製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 ポジ型レジストの工程とネガ型レジストの工程を交互に１回ずつ用いて、数種の異なる深さの凹状の設計欠陥と数種の異なる高さの凸状の設計欠陥のパターン全てを、基板上に形成したハードマスクに一括してパターン形成し、その後、前記ハードマスクパターンをマスキングしながら順次基板をエッチング加工することで、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用のフォトマスクおよびフォトマスクブランクに関し、アルカリ洗浄による基板の段差が生じるために基板の再生時に必要とされていた研磨工程を不要として、低コストかつ高品質な基板再生が行われて再利用を可能とするフォトマスクおよびフォトマスクブランクを提供すること。
【解決手段】透明基板上に、ジルコニウムを含む無機化合物からなる光透過膜と、金属を含み露光光を遮光する遮光膜とを備えたことを特徴とする。また、遮光膜および半透過膜をエッチングにより除去し、前記基板をアルカリ溶液により洗浄処理した後、基板の研磨処理を行わずに半透過膜および遮光膜を積層することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】波長２００ｎｍ以下の露光光に対する薄膜の耐光性の向上、マスク寿命の改善を
顕著に図ることができるマスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法、並びに
マスクブランク及び転写用マスクを提供する。
【解決手段】透光性基板上に薄膜を備えたマスクブランクの製造方法であって、
前記透光性基板上に、遷移金属を含有する材料からなる薄膜を成膜する工程と、
前記薄膜に過熱水蒸気処理を施す工程と、を備えることを特徴とするマスクブランクの
製造方法。 （もっと読む）

【課題】反射型フォトマスクを用いる露光装置の検査のための露光装置検査用マスク及び露光装置検査方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、露光光に対して反射性の主面を有する基板１０と、主面に設けられた第１パターン部６０ａと、を備えた露光装置検査用マスクが提供される。第１パターン部は、主面に設けられ、主面に対して平行な第１方向に沿って所定のピッチで周期的に配列し露光光に対して吸収性を有する複数の第１吸収層３１ａを含む第１下層３０ａと、第１下層の基板とは反対の側に設けられ、第１方向に沿って上記ピッチで周期的に配列し、複数の第１吸収層のそれぞれの少なくとも一部を露出させ、露光光に対する反射率が第１吸収層よりも高い複数の第１反射層４０ａと、を含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用反射型マスクなどに使用されるガラス基板のように極めて高い表面平滑性と表面精度が要求されるガラス基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】平均一次粒子径が５０ｎｍ以下のコロイダルシリカ、酸および水を含み、ｐＨが０．５〜４の範囲になるように調整してなる研磨スラリーを用いて、ＳｉＯ_２を主成分とするガラス基板の表面を、原子間力顕微鏡で測定した表面粗さＲｍｓが０．１５ｎｍ以下になるように研磨する。 （もっと読む）

【課題】 使用済みフォトマスクを用いて再生フォトマスク用基板を製造する場合において、フォトマスク用基板としての品質基準を担保しつつ、その製造コストを低減させる。
【解決手段】透明基板の第１主表面上に膜パターンが形成された使用済みフォトマスクを用いる再生フォトマスク用基板の製造方法であって、第１主表面上から膜パターンを除去する工程と、第１主表面及び第２主表面をそれぞれ研磨する研磨工程と、を有し、研磨工程において、第１主表面及び第２主表面における転写領域外に、３００μｍ以上の大きさの傷欠陥が残留せず、かつ２μｍ以上３００μｍ未満の大きさの傷欠陥が残留する研磨量であって、かつ、第２主表面における転写領域内に、１００μｍ以上の大きさの傷欠陥が残留しない研磨量の研磨を行う。 （もっと読む）

【課題】シリカを用いてガラス基板の鏡面研磨を行っても基板表面に微小な凸状の表面欠陥が発生するのを抑えたマスクブランクス用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカを含むスラリーを供給しながら、研磨パッド７とガラス基板１とを相対的に移動させてガラス基板１の主表面を鏡面に研磨する研磨工程を有するマスクブランクス用ガラス基板１の製造方法である。ここで、前記ガラス基板１に供給する前記スラリーの温度を２５℃以下に制御する。 （もっと読む）

【目的】 透光性物品における光学的な不均一性の有無を正確に検査できる透光性物品の
検査方法を提供する。
【構成】 透光性物品に２００ｎｍ以下の波長を有する検査光を導入した場合に、該透光
性物品内部で前記検査光が伝播する光路に前記局所又は局部的に光学特性が変化する部位
がある場合にこの部位から発せられる光であって前記検査光の波長よりも長い光を感知す
ることにより、前記透光性物品における光学的な不均一性の有無を検査する。 （もっと読む）

【課題】エッチングを利用してパターン形成を行う場合に、形成すべき微細パターンの狭ピッチ化が進展しても、当該パターン形成を高精度に行えるようにする。
【解決手段】基板２上にハードマスク層３を有するマスクブランクス１において、前記ハードマスク層１は、前記基板２の側から第一層５と第二層６とが配される積層構造を有する。前記第一層５は、前記基板２に対してエッチングを行う際にマスクとなる層である。前記第二層６は、前記第一層５に対してエッチングを行う際にマスクとなるとともに、前記ハードマスク層３上に形成されるレジストパターン４をマスクにしてエッチングが行われる層である。そして、前記第一層５に対するエッチングの間は前記第二層６が当該第一層５のマスクとして機能するエッチング選択比を有した材料によって、当該第二層６を形成する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク形状の補正機能を備えた露光装置に対応した平坦度を持つマスクブランク用基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明においては、基板の主表面における実測領域内のチャック前主表面形状を測定し、基板のチャック前主表面形状とマスクステージの形状に基づいて、基板から作製されたフォトマスクを露光装置にセットしたときにおける基板のチャック後主表面形状をシミュレーションにより得て、基板について、チャック後主表面形状の補正領域内で第１の方向に沿う断面形状に近似する第１近似曲線を算出し、第１近似曲線から近似曲面を算出してチャック後主表面形状から差し引く補正を行い、補正後主表面形状を算出し、補正後主表面形状の補正領域内での平坦度が、所定閾値以下であるものを選定する。 （もっと読む）