【課題】マスクブランク用ガラス基板に対し、発塵の原因となりにくいマーカを適切に形成する。
【解決手段】マスクブランクの製造に用いられるマスクブランク用ガラス基板であって、マスクブランク用ガラス基板の転写パターンを作製する際に影響のない領域の面に、マスクブランク用ガラス基板を識別又は管理するための情報を複数の凹部２０で表現したマーカ１８が形成されており、マーカ１８を構成する２０凹部は、その縁部が略円形の丸孔であり、隣接する凹部２０同士の縁部間の距離Ｌ１が、５０μｍ以上である。マーカ１８は、例えばマスクブランク用ガラス基板の端面に形成される。 （もっと読む）

【課題】低コストで製造可能な検査装置を用いて、低メンテナンスコスト及び低検査コストで、マスクブランク用基板の内部欠陥（光学的不均一部分)を検出して、微細なパターニングに適応した基板、マスクブランク及び転写用マスクを高い歩留まりで製造する方法を提供する。
【解決手段】透光性材料からなる板状の基板２を準備する工程と、波長２００ｎｍ以下の検査光を基板２に照射し、基板２内を透過した透過検査光を板状の蛍光部材８で受光して蛍光に変換し、蛍光の強度分布から基板２の内部欠陥を検出する欠陥検査を行ない、内部欠陥がない基板２を選定する基板欠陥検査工程と、を有するマスクブランク用基板の製造方法、このマスクブランク用基板２の主表面４ａにパターン形成用の薄膜４２を形成するマスクブランク４０の製造方法、及びこのマスクブランクのパターン形成用薄膜４２の表面に転写パターンを形成する転写用マスク５０の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの製造で、基板のそり事前に測定し、そり量に応じたパターンを作成し、高精度なパターン作成を実現する。
【解決手段】上記目的のため、本発明のフォトマスクの製造方法は、ガラスを基板の主材料としたフォトマスクの製造方法において、前記基板のそり量を測定した後に、前記そり量に応じたフォトマスクのパターンを選択して形成することを特徴とする。ここで、基板のそり量が基準値に対して１００μｍ以上変化する毎に、パターンの幅を１μｍ〜５μｍ細く変更することが望ましい。また、本発明のＰＤＰの製造方法はこれらのフォトマスクを用いた製造法である。 （もっと読む）

【課題】転写時における基板の自重たわみによる平坦度の悪化を緩和させ、転写時のマスク基板の平坦度を改善することができるペリクル及びペリクル貼付方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、マスク基板に圧着して貼り付けるペリクルフレームと、前記ペリクルフレームに張られたペリクル膜と、を備え、前記ペリクルフレームは、前記マスク基板に貼り付けることで歪応力を発生し、前記歪応力は、前記マスク基板の自重たわみを相殺することを特徴とするペリクルであり、前記マスク基板の自重たわみを相殺することから、マスク基板の平坦度を改善することが出来る。 （もっと読む）

【課題】効果的に汚染物質の発生を抑制できる反射型マスクを提供する。
【解決手段】基板４０上に形成され、入射した入射光を第１方向に反射する第１反射部４１と、第１反射部４１上に形成され、かつ所定のパターンの形状を有し、入射した入射光を第１方向とは異なる第２方向に反射する第２反射部４３とを有する。 （もっと読む）

【課題】０℃から５０℃において平均線膨張係数が極めて小さく、かつΔＬ／Ｌ曲線の傾きの変化が極めて小さい結晶化ガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】Ｌｉ_２Ｏ、Ａｌ_２Ｏ_３及びＳｉＯ_２の各成分を含有するガラスを熱処理し、結晶相にβ−石英及び／又はβ−石英固溶体を含む結晶化ガラスとする結晶化ガラスの製造方法であって、前記熱処理における少なくとも一つの保温工程Ｎ_Ｇは、
温度（℃）をｘ軸、時間（ｈ）をｙ軸として表したグラフにおいて、下記ＡからＤの４点の座標を結んだ領域内であることを特徴とする請求項１に記載の結晶化ガラスの製造方法。
Ａ：（Ｔｇ＋５０,０．１）
Ｂ：（Ｔｇ＋５０,４００）
Ｃ：（Ｔｇ＋８０,４００）
Ｄ：（Ｔｇ＋９５,０．１）
但しＴｇは前記結晶化ガラスの原ガラスのガラス転移点（℃）である。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクス用ガラス基板に発塵のおそれが少ないマーカを形成する。
【解決手段】マスクブランクス用ガラス基板１２の製造方法であって、ガラス基板１２表
面における転写に影響のない領域であって、かつ鏡面状の表面にレーザ光を照射させて、
マスクブランクス用ガラス基板１２を識別、又は管理するためのマーカとして用いられる
凹部２０を形成するマーキング工程を備える。また、ガラス基板１２に関する基板情報を
準備する工程を更に備え、ガラス基板１２に関する基板情報と、マーカとを対応付けする
。 （もっと読む）

【課題】寸法制御性を向上させることが可能な光反射型フォトマスクを提供する。
【解決手段】基板１１と、基板の上面に形成された光反射層１２と、光反射層上に形成され、所望のパターンを有する光吸収層１３と、基板の下面に形成された導電層１４と、基板の側面に形成され、光吸収層と導電層とを電気的に接続する導電部１４ａとを備え、導電部は、光吸収層のパターンに応じて配置されている。 （もっと読む）

【課題】金属異物を除去することによりガラス基板の傷の発生を低減できるガラス基板の加工装置、ガラス基板の製造方法、その方法により製造された磁気ディスク用ガラス基板またはフォトマスク用ガラス基板、及び繰り返しガラス基板を加工する方法を提供する。
【解決手段】上定盤と下定盤との間に保持したガラス基板をスラリーまたはクーラントを供給しながら加工するガラス基板の加工装置であって、スラリーまたはクーラントが循環する循環経路中に剥離可能な被覆材で被覆された磁石を備える。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光における転写パターンのフィールドの重なり部分の遮光性を高めて露光光の漏れを抑制し、露光光のシャドーイングの影響を低減し、かつ耐洗浄性に優れた遮光帯を有するＥＵＶ露光用の反射型マスクおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】被転写体への転写用パターンの形成領域を規定し、前記転写用パターンの形成領域以外へのＥＵＶ光の照射を防止するために、前記転写用パターン２１の周囲に所定幅の遮光帯１８が設けられており、前記遮光帯１８は、多層反射膜１２にレーザ光を照射して前記多層反射膜を破壊した層により構成され、前記基板１１上の前記多層反射膜１２と同一平面上にあり、前記ＥＵＶ光に対する前記遮光帯１８の反射率が前記多層反射膜１２の反射率よりも低いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】吸着保持面に有機系の誘電体を用いた静電チャックによる吸着保持による異物を導電膜の表面から容易に除去することができるフォトマスクブランクスの洗浄方法の提供。
【解決手段】ガラス基板の一方の面に導電膜が形成され、吸着保持面に有機系の誘電体を用いた静電チャックにより、該導電膜が吸着保持される反射型マスクブランクス１０の洗浄方法であって、マスクブランクス１０を導電膜を上にしてスピン式洗浄装置２０に設置し、洗浄吐出口２３より、０．１〜５規定のアルカリ金属水酸化物水溶液を供給して前記導電膜表面を洗浄することを特徴とする反射型マスクブランクスの洗浄方法。 （もっと読む）

【解決手段】バーナーから形成される高温火炎ガス域内に石英ガラス形成原料を供給して、この石英ガラス形成原料から石英スートを生成させ、このスートから合成石英ガラスを製造する方法において、バーナー全体及び合成石英ガラスの成長部位を共に囲繞する囲繞管を設けると共に、囲繞管を覆うように、かつ高温火炎ガス域の下流部及び合成石英ガラスの成長部位を共に覆うよう排気用風洞を設け、これら囲繞管及び風洞内に浮遊スートの排出方向に沿って浮遊スート排出用気体を流通させ、この排出用気体と共に浮遊スートを含む高温火炎ガス流を排出する合成石英ガラスの製造方法。
【効果】未固着の浮遊スートがインゴットの溶融成長面へ付着することを防止することができ、成長中の石英ガラス中に発生する泡の生成を防止することができ、バーナーから供給される酸水素流量の低減ができて、エネルギー効率の向上が図れる。 （もっと読む）

【課題】 低温成膜が可能で簡便なフィルムの転写により遮光性を容易に安価に得ることのできる遮光性転写フィルムを用いた遮光性パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 （１）被転写基板に接着層を形成する工程、（２）仮支持体上に、感光性樹脂層、及び可視光線透過率が１％未満の遮光性薄膜が順次積層してなる遮光性転写フィルムの、可視光線透過率が１％未満の遮光性薄膜面と前記（１）で形成された接着層面を貼り合わせ、遮光性転写フィルム積層基板を形成する工程、並びに（３）前記遮光性転写フィルム積層基板の感光性樹脂層の所定部を露光する工程と、を含む遮光性膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、傷が発生せず、洗浄効果も高い研磨した石英ガラス基板のスクラブ洗浄方法を提供する。
【解決手段】２流体ジェット洗浄によりスクラブ洗浄時にスクラブ材にからんで基板に傷をつけるような異物を除去し、その後、スクラブ材として３０％圧縮応力が２０〜１００ｋＰａ、２０ｋＰａにおける圧縮弾性率が５０〜２００ｋＰａであるスクラブ材を用いて、スクラブ洗浄することで、スクラブ洗浄による傷の発生を抑制し、なおかつ基板の主表面のみならず端面まで細かい付着物を除去する。 （もっと読む）

【課題】 低温成膜が可能で簡便なフィルムの転写により遮光性を容易に安価に得ることのできる遮光性転写フィルム及びその製造方法、それを用いた遮光性パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 仮支持体上に、可視光線透過率が１％未満の遮光性薄膜と、ネガ型感光性樹脂層または熱硬化性樹脂層を順次積層してなる遮光性転写フィルム。仮支持体上に、ポジ型感光性樹脂層と、可視光線透過率が１％未満の遮光性薄膜層と、ネガ型感光性樹脂層または熱硬化性樹脂層を順次積層してなる遮光性転写フィルム。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板内部の表面近傍を含む全ての領域の内部欠陥を確実に検出して欠陥のない製品を製造可能にする。
【解決手段】 板状ガラスをマスクブランク用ガラス基板の形状に加工する１次形状加工工程と、前記ガラス基板の一端面を鏡面研磨し、波長２００ｎｍ以下の検査光を導入して内部欠陥から発生する蛍光の有無を検査し、蛍光が検出されないガラス基板を選定する欠陥検査工程と、前記選定されたガラス基板を研削および研磨を行う２次形状加工工程とを有し、前記欠陥検査工程における前記ガラス基板内の内部欠陥から蛍光が発生するのに必要な強度の検査光が届く領域の両主表面間方向の幅は、２次形状加工工程後のガラス基板の両主表面間の厚さよりも大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、石英ガラス基板の研磨に用いられたコロイダルシリカ等の研磨剤と研磨パッドによる有機物汚染等の異物とをほぼ完全に取り、最終洗浄の負担を軽くした予備洗浄の方法を提供することにある。
【解決手段】フッ素又はフッ素化合物と硫酸と水とからなる洗浄液に研磨した石英ガラス基板の洗浄方法であって、該洗浄液中の硫酸濃度が９３〜９９ｗｔ％、フッ素濃度が０．１〜２ｗｔ％（洗浄液全体で１００ｗｔ％）であり、該洗浄液の温度が５０℃以上１００℃以下であることを特徴とする研磨した石英ガラス基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【解決手段】対角長が１０００ｍｍ以上の大型合成石英ガラス基板材料を垂直保持した状態で基板材料の表裏面の平坦度及び平行度を測定し、そのデータを基に基板の凸部分及び厚い部分を部分的に除去する大型合成石英ガラス基板の製造方法であって、上記除去が、基板対角長の１５〜５０％の直径を有する第１の加工ツールで加工除去した後、第１の加工ツールより小さい第２の加工ツールで更に加工除去を行うことを特徴とする大型合成石英ガラス基板の製造方法。
【効果】本発明によれば、大型合成石英ガラス基板材料の平坦度及び平行度を短時間で修正することができ、高平坦度及び高平行度の大型合成石英ガラス基板を得ることができる。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）応力の検査対象である膜を有するフォトマスクブランク又はその製造中間体の表面形状を測定する工程、（Ｂ）検査対象である膜を除去する工程、及び（Ｃ）検査対象である膜が除去された処理基板の表面形状を測定する工程を含む処理により、検査対象である膜の除去前のフォトマスクブランク又はその製造中間体と、検査対象である膜の除去後の処理基板との双方の表面形状を得、それら表面形状を比較することによって、検査対象である膜がもつ応力を評価するフォトマスクブランク又はその製造中間体の検査方法。
【効果】フォトマスクブランクの製造方法を最適化して、光学機能膜や加工機能膜のエッチング加工前後で、表面形状の変化が生じるおそれが極めて低いフォトマスクブランクを製造することができると共に、フォトマスク製造時に表面形状の変化による寸法誤差発生が低減されていることが保証されたフォトマスクブランクが与えられる。 （もっと読む）

【解決手段】フォトマスク用基板に位相シフト膜を成膜し、更に、該位相シフト膜に高エネルギー線を照射する基板形状調整処理を行って得たフォトマスクブランク又はその製造中間体について、基板形状調整処理後のフォトマスクブランク又はその製造中間体の表面形状を測定し、更に、上記フォトマスクブランク又はその製造中間体から位相シフト膜を除去して、位相シフト膜が除去された処理基板の表面形状を測定し、上記各々の表面形状を比較することによって、上記基板形状調整処理した位相シフト膜の応力による位相シフト膜除去前後のそりの変化を評価するフォトマスクブランク又はその製造中間体の検査方法。
【効果】本発明によれば、基板の形状調整処理後の位相シフト膜が与える基板への応力を、より正確に評価することができる。 （もっと読む）