【課題】 被検査体の透明基板上に形成された繰り返しパターンにおける欠陥を良好に検出できること。
【解決手段】 透明基板５２上に、単位パターンを周期的に配列した繰り返しパターン５１が形成されたフォトマスク５０の、上記繰り返しパターン５１に発生した欠陥を検査するパターン欠陥検査方法において、照明装置１２によって、上記繰り返しパターン５１に所定の入射角で光を照射し、上記繰り返しパターン５１上の所定の観察領域５８において、照射光によって生じる回折光を観察装置１３によって観察することにより、上記繰り返しパターン５１の欠陥の有無を検査し、フォトマスク５０の上記観察領域５８以外の少なくとも一部分を遮光して、透明基板５２内を通過する迷光が観察領域５８内へ入射されないようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】 対象物表面の凹部領域内の微小異物を効率的に除去すると共に、表面を損傷することのない微小異物除去技術の提供を目的とする。
【解決手段】 弾性力を有する微細針状体１０を用いて所定の凹凸部を有する対象物１２表面から微小異物１１を除去する微小異物除去方法を提供する。まず、対象物表面の凹部領域１２ａにある微小異物を検出し、微細針状体により微小異物を側方から押圧して移動し、凹部領域側面１２ｂに当接させる。次いで、微小異物が凹部領域側面に当接した状態で、微細針状体を側面に沿って凸部１２ｃの上部方向に上昇させると共に、微細針状体の弾性により微小異物を掻き出すようにする。掻き出し後に洗浄してもよい。 （もっと読む）

【課題】被検査物体に熱ダメージを与えないよう、照明光の照度を一定の上限値以下に保つと、従来の異物・欠陥検査方法では、検出感度と検査速度がトレード・オフの関係にあり、他方を犠牲にせずに一方を改善したり、両方を改善することは非常に困難であった。
【解決手段】本発明では、光源にパルスレーザを用い、レーザ光束を複数に分割後、異なる時間差を与えて、複数の照明スポットを形成し、各照明スポットの発光開始タイミング信号を用いることによって、各照明スポットからの散乱光信号を分離検出する。 （もっと読む）

本発明は、レチクルを保護するための方法、システム、および部品を提供し、具体的には、保管および使用中にレチクル上のヘイズ形成を最小限にするための方法、システム、および部品を提供する。レチクル上での湿度レベルが低減された保管庫ハウジング内のパージを実質的に継続的に持続することにより、またはパージされていないときにレチクルをコンテナ内で乾燥剤またはゲッタの近くに一時的に保管することにより、ヘイズ形成を、なくし、または最小限にし、または十分に抑制することができる。また、コンテナ内のフィルタ媒体を、レチクルを実質的に継続的にパージする間に「再生される」ように配置してもよく、コンテナがパージされていないときに、低減された望ましい湿度レベルをレチクル・コンテナ内で容易に維持することができる。さらに、本発明のシステムは、パージ・システムに付随するイオナイザを備えることができる。たとえば、イオナイザを、パージ・システムの複数のパージ・ラインのうちの少なくとも１つに付随させることができる。また本発明のシステムは、パージ・システムに接続された、ＣＤＡまたは超ＣＤＡの供給源を含むパージ・ガス源を備えることができる。保管庫ハウジングは、複数のレチクル保管容器を各々備える複数の棚を備えることができる。
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【課題】パターン化構造を備える物体上の汚染粒子を検査するための方法およびデバイスを提供する。
【解決手段】放射ビームを物体に誘導するための放射システムを含む。物体は、ビームを散乱する構成となっている。デバイスは、物体から散乱放射を受け取るように構成された光学システム、および光学システム内に設けられたフィルタも含む。フィルタは、散乱放射から放射を除去するように、パターン化構造に関連付けられる。デバイスは、フィルタによって透過された放射の一部を検出するように構成されたディテクタも含む。したがって、汚染粒子を、迅速かつ正確に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】修正が必要なフォトマスクの欠陥を、正確かつ容易に検出することを可能にする。
【解決手段】画像センサ７から、マスクパターンの光透過領域および遮光領域を含む所定領域の光学画像データを取得するデータ取得部１１と、取得した光学画像データから、マスクパターンの形状および欠陥の情報とともに、上記所定領域内での欠陥の数である欠陥の密度を検出する情報検出部１２と、検出したマスクパターンの形状および欠陥の情報と欠陥の密度の情報とに基づいて、情報検出部１２で検出したマスクパターンの欠陥に対する修正の要否の判定を行う演算部１３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】効率よく異物を除去できる異物除去装置を提供する。
【解決手段】異物除去装置１０は、レチクル５１の表面にレーザ光を照射して異物１２を検出する異物検査装置１４と、レチクル５１の表面に圧縮空気を吹きつけて異物１２を吹き飛ばすブロー装置１６と、吹き飛ばされた異物１２を排気口１１ａから外部へ排出する排気ファン１８とからなる。レチクル５１の表面上に異物１２があると、散乱光が画像センサに入射して異物１２が検出される。異物１２が閾値よりも大きい場合には、コントローラ３９によりポンプ３８，揺動装置４０及び排気ファン１８が駆動され、圧縮空気がレチクル５１上に吹きつけられ、吹き飛ばされた異物１２が排気口１１ａから排出される。異物１２が閾値よりも小さい場合には、ＬＣＤ３４に表示された異物１２の画像を観察し、異物１２が回路パターンの線からはみ出ている場合には、圧縮空気がレチクル５１上に吹きつけられる。 （もっと読む）

【課題】ステンシルマスク上の欠陥検出、特に表面異物を検出する方法について、目視検査によらず自動的な高精度検査方法を提案すると共に、比較検査を行うための基準画像が取得できる検査装置を提供することを課題とする。
【解決手段】荷電粒子線露光などに用いられるステンシルマスクの表面の検査を行う方法であって、その検査工程においてメンブレン部表面の第１の画像と、メンブレン部裏面の第２の画像とに基づいて、メンブレン部表面の異物や欠陥を検査することを特徴とするステンシルマスクの検査方法を提供する。また、第１の画像と第２の画像の差分画像を得ることで異物や欠陥を検査するステンシルマスクの検査方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線マスク製造用基板のＳｉ基板側の平均表面粗さを規定し、Ｓｉ基板の所定の箇所をエッチングする前に、Ｓｉ基板側表面の異物検査を行うことにより、荷電粒子線マスクを収率良く製造する荷電粒子線マスクの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】荷電粒子線マスク製造用基板１０のＳｉ基板１１側（エッチング面）の平均表面粗さを５ｎｍ以下とし、Ｓｉ基板１１をエッチングする前に、Ｓｉ基板１１側（エッチング面）表面の異物検査をして、Ｓｉ基板１１をエッチングする荷電粒子線マスクの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】余分な工程を必要とせず、一連の製造工程中において、基板の表面上の欠陥又は基板処理装置の装置性能の検査を行うことができる。
【解決手段】基板Ｗを基板処理装置１Ａ、１Ｂへ搬入する搬入路及び前記基板Ｗを前記基板処理装置１Ａ、１Ｂから搬出する搬出路において、前記基板Ｗの被検面Ｗ１に検査光Ｌを照射する光照射部４と、前記検査光Ｌが照射された被検面Ｗ１からの反射、回折及び／又は散乱光Ｌを検出して、搬入時に検出した搬入時光強度信号及び搬出時に検出した搬出時光強度信号を出力する光検出部５と、前記光検出部５から搬入時光強度信号及び搬出時光強度信号を受信し、前記被検面Ｗ１の欠陥Ｓを検出する情報処理装置６と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】異物の誤検出を回避することができる異物検査装置、及び当該異物検査装置を備える露光装置、並びに光露光用マスクを提供する。
【解決手段】第１照明系３１ａは検査光Ｌ１をレチクルＲの上面に照射し、第２照明系３１ｂは検査光Ｌ２をペリクルＰの面上に照射する。レチクルＲの上面に照射された検査光Ｌ１がレチクルＲのガラス基板内に進入してガラス基板の底面形成されたパターンＤＰにより回折し、この回折された光が誤検出の原因になるのを防止すべく、第１照明系３１ａはレチクルＲの上面に対して平行に検査光Ｌ１をする。 （もっと読む）

【課題】多層型（２層型）のハーフトーン位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクが、各種検査光に対しても充分な表面反射率を有し良好な測定感度と測定再現性が得られるようにする。
【解決手段】位相シフター膜５は、前記露光光に対して、主に位相シフト量を調整する位相シフト量調整層４と、主に透過率を調整する透過率調整層３と、を有し、位相シフト量調整層は珪素と酸素と窒素とを含む材料からなり、透過率調整層はクロムを含む材料とし、透過率調整層の組成調整を行ってマスクの検査に使用される波長２４０ｎｍ〜７００ｎｍ、及び位置合わせに用いる波長に対する表面反射率が３％以上とする。 （もっと読む）

本発明は、検査サンプル上で検知された欠陥分類のための方法とシステムに関する。一方法は、試験イメージを参照イメージに比較することを含む。試験イメージは、検査サンプル上で検出された欠陥に近接した検査サンプル上に形成された一つ又は複数のパターン化されたイメージを含む。参照イメージは、検査サンプル上に形成された素子の範囲内で異なる対象領域に関連した一つ又は複数のパターン化された特徴のイメージを含む。試験イメージの一つ又は複数のパターン化されたイメージが、参照イメージの一つ又は複数のパターン化されたイメージに合致した場合、本方法は、参照イメージに関連した対象領域に対応したビンに欠陥を分類することを含む。
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【課題】被検査面の位置が異なる場合であっても異物の検査を行うことができる異物検査装置、及び当該異物検査装置を備える露光装置を提供する。
【解決手段】第１照明系３１ａは検査光Ｌ１をレチクルＲの上面に照射し、第２照明系３１ｂは検査光Ｌ２をペリクルＰの面上に照射する。また、第１受光系はレチクルＲの上面に付着した異物からの散乱光を受光し、第１ラインセンサは第１受光系で受光された散乱光の光強度に応じた信号を出力する。同様に、第２受光系はペリクルＰの上面に付着した異物からの散乱光を受光し、第２ラインセンサは第１受光系で受光された散乱光の光強度に応じた信号を出力する。駆動装置３９は、第２照明系３１ｂをＺ方向に移動させてペリクルＰのペリクル高さに応じて検査光Ｌ２の照射位置を可変する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの曇りが発生することにより、半導体の原版であるフォトマスクが使用できない事態となることがある。このとき、ウエハプロセスが突発的に止まる事となり、多大な損失が発生する。
【解決手段】検査対象であるフォトマスクの曇り原因物質量を測定する手段と、露光に影響が出る最低量の曇り原因物質が堆積されたフォトマスクの曇り原因物質量を臨界値として記憶する手段と、検査対象であるフォトマスクの曇り原因物質量と臨界値とを比較することにより、検査対象であるフォトマスクに堆積する曇り原因物質量が臨界値に達する時期を予測する手段とを備えたことを特徴とするフォトマスク管理装置により、析出する曇りの発生時期を把握する。 （もっと読む）

本発明は異常、例えば汚染粒子または欠陥に関してサンプル（例えばリソグラフィのパターニングデバイスまたはマスク）を検査するための検査装置および方法に関し、前記装置はサンプルを支持するための支持構造と、サンプルに放射ビームを放射するように構成されて配置された放射システムと、サンプルから反射される放射をディテクタで検出するように構成されて配置された検出システムとを含み、放射システムおよび検出システムに第１および第２のポラライザがそれぞれ設けられる。
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【課題】極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクの欠陥を検査する装置を提供すること。
【解決手段】 マスクブランクの欠陥を検査する装置において、第一の虹彩絞りが光源に位置されて光源から放出される光の照射角を制限し、散乱制限ユニットがマスクブランクから反射したのちの散乱光の散乱角を制限するために暗視野光学ユニットの出射口に位置される。欠陥検出器が光学的に暗視野光学ユニットに結合されており、散乱光の角度分布を生成する。その角度分布を用いてマスクブランク上にみつかった欠陥の重大性の特性評価が行われる。 （もっと読む）

【課題】短時間で、フォトマスクの曇りの原因となる異物を選択的に捕集することが可能な、フォトマスク生産の品質管理手法に使用するに相応しい吸着管を提供するものである。
【解決手段】粒子を捕集剤としてガラス管または金属管に充填した吸着管であって、前記粒子の表面が、クロム、シリカまたはモリブデンに覆われていることを特徴とする吸着管である。
フォトマスク表面の組成と同じか、または、近い組成を持つ捕集剤を用いて、フォトマスク表面に吸着するフォトマスクの曇りの原因となる異物の捕集を行うことにより、フォトマスクの曇りの原因となる異物と無関係な物質を捕集せず、フォトマスクの曇りの原因となる異物のみを分析することができる。 （もっと読む）

【課題】 検査対象物のパターンの特徴に応じたパターン比較を選択することにより、適切な検査を行うこと。
【解決手段】検査対象物の光学画像１００を取得する光学画像取得部１０と、検査対象物のパターンの特徴を示す特徴データ２０２に基づいて、検査対象物上の異なる位置の同一パターン１００を比較する複数種類の特徴比較部３１と、光学画像１００の同一パターンの比較において、検査対象のパターンの特徴データから特徴比較部３１の種類を選択する選択部４とを備えている、パターン検査装置。
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【課題】 検査対象物のパターンの検査における参照画像の作成をパターンの特徴に応じて適切に行うこと。
【解決手段】 検査対象物の光学画像１００を取得する光学画像取得部１０と、検査対象物の画像のパターンの特徴に基づく特徴データ２０２を用いて、光学画像１００と検査対象物の設計データ２０１とから変換パラメータ２０４を求める変換パラメータ決定部２０３と、変換パラメータ２０４と設計データ２０１を演算処理して参照画像２００を作成する参照画像作成部２０と、を備えている、参照画像作成装置。
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