【課題】レジスト層が設けられた基板の一方面を上向きにした状態で基板を回転させながら、レジスト層表面に純水を供給するプリウエット工程を行った場合でも、基板の帯電を抑制することのできる基板の処理方法を提供すること。
【解決手段】プリウエット工程では、現像工程の前に、レジスト層１１０が設けられた一方面を上向きにした状態で基板１００を回転させながらレジスト層１１０表面と純水Ｗとを接触させる。かかるプリウエット工程では、レジスト層１１０表面への純水Ｗの供給を開始した後、基板１００を３００ｒｐｍから７００ｒｐｍの回転数で回転させる第１工程と、基板１００を１０００ｒｐｍから２０００ｒｐｍの回転数で回転させてレジスト層１１０表面の純水を振り切る第２工程とを行う。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒を含有する後処理液で後処理する工程を有しない現像方法により、優れたインキ着肉性を有する水なし平版印刷版を提供すること。
【解決手段】基板上に、少なくとも感光層または感熱層、およびシリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版の現像方法であって、（１）水なし平版印刷版を、下記一般式（Ｉ）で表されるエチレングリコール誘導体を９５重量％以上含有する前処理液で前処理する工程および（２）前処理後の水なし平版印刷版を水を含む現像液により現像する工程を有し、有機溶媒を含有する後処理液で後処理する工程を有しないことを特徴とする水なし平版印刷版の現像方法。
Ｒ−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ−ＯＨ （Ｉ）
（上記一般式（Ｉ）中、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは１〜５の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】酸性から中性域で現像可能であり、そして、その際に問題となる現像性、更に現像によって除去した感光層成分（現像カス）の分散安定性の問題を克服した平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】下記式＜１＞、＜２＞または＜３＞で表される化合物の少なくともいずれかを含有し、ｐＨ２〜１０であることを特徴とし、支持体上に、画像記録層を有する平版印刷版原版を、画像様露光により露光部の画像記録層を硬化させた後、前記現像処理液にて現像を行うことを特徴とする。


（式＜１＞〜＜３＞中、Ｒ１〜Ｒ７はアルキル基等を、Ａ〜Ｃはエチレンオキサイド基を含有する基等を、Ｄはカルボン酸アニオンを含有する基等を表す。Ｚ⁻は対アニオンである。） （もっと読む）

【課題】パターンピッチの微細化や均一なパターン形状(パターンの幅やライン形状が均一)の形成を実現できる積層体、及び、積層体を用いたモールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の積層体１は、基材１１と、基材１１上に設けられ、熱反応型レジストを含有するレジスト層１２と、レジスト層１２上に設けられる少なくとも１層の熱伝導層１３と、を具備し、熱伝導層１３は、３００Ｋにおける熱伝導率が、０．７Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、且つ、露光波長における消衰係数が０．２以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジストの組成を変化させること無く、またプラズマ照射装置のような特別な装置を必要とせず、パターニングの精度を維持しつつ、インクの塗布量を確保することが可能な液滴塗布基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の液滴塗布基板の製造方法は、基板の一面上にレジスト層がパターン形成されてなる液滴塗布基板の製造方法であって、前記基板の一面を覆うように化学増幅型のレジストを塗布しレジスト層を形成する工程Ａと、前記レジスト層を所定のパターンで露光する工程Ｂと、前記レジスト層の表面を、フッ素を有する高分子を含有する修飾剤を用いて修飾する工程Ｃと、前記レジスト層を現像する工程Ｄと、を少なくとも順に備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】指紋汚れ及び指紋抜けが改善された感熱型平版印刷版の印刷方法を提供する。
【解決手段】耐水性支持体上に少なくとも熱可塑性樹脂及び水溶性高分子化合物を含有する画像形成層を有する平版印刷版の画像形成層を画像様に加熱することで画像部を形成した後、印刷開始前に無機微粒子、及び重合度４以下の糖類を少なくとも１種含有する版面処理液を版面に付与した後に印刷を行うことを特徴とする感熱型平版印刷版の印刷方法。 （もっと読む）

【課題】版面のインキ汚れを長期間防止する感光性樹脂凸版印刷版の製造方法、それに適した処理液および感光性樹脂凸版印刷版用組成物の提供。
【解決手段】露光工程、現像工程を含む感光性樹脂凸版印刷版の製造方法において、露光工程後に、版面パーフルオロアルキル基鎖を２つ以上有し、水に不溶な、ノニオン系のフッ素系界面活性剤（Ａ）を付着させる工程を含む感光性樹脂凸版印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】エッジ汚れを発生することのない新聞印刷用の機上現像型平版印刷版原版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に赤外線吸収染料、ラジカル重合開始剤、ラジカル重合性化合物及びポリオキシアルキレン鎖を側鎖に有する高分子化合物を含有し、印刷機のシリンダー上で印刷インキ及び／又は湿し水により現像可能な画像記録層を有する平版印刷版原版であって、該平版印刷版原版の端部から１ｃｍ以内の領域を有機溶剤及び水溶性樹脂を含有する液で処理することにより得られた新聞印刷用平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】低温の現像液を用いた現像処理を基板面内で均一に行い、基板上に所定のパターンを適切に形成する。
【解決手段】先ず、冷却装置において、１５℃に温度調節された冷却板に基板を載置して冷却する（ステップＳ１）。その後、現像装置において、３℃のリンス液を基板に供給して、基板を冷却する（ステップＳ２）。その後、基板上に３℃の現像液を供給し、基板上のレジスト膜を現像して当該レジスト膜にレジストパターンを形成する（ステップＳ３）。その後、基板上に３℃のリンス液を供給して、基板の表面を洗浄する（ステップＳ４）。その後、基板上に３℃の処理液を供給して、基板のレジストパターン上のリンス液の表面張力を低下させる（ステップＳ５）。 （もっと読む）

【課題】表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】（ａ）表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性組成物を含有してなる光架橋性樹脂層を形成する工程、（ｂ）アルカリ水溶液によって未硬化部の光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程、（ｃ）回路パターンの露光工程、（ｄ）現像工程を含むレジストパターンの作製方法で使用される光架橋性組成物が、ジアルキルアミノベンゼン構造を有する化合物を含有してなることを特徴とする光架橋性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、１回のソルダーレジスト塗工のみで段差部を形成することが可能で、段差部が低い（浅い）場合であっても、段差部を形成できるソルダーレジストの形成方法を提供することを課題とする。
【解決手段】回路基板の表面にソルダーレジストの膜を形成する工程、少なくとも段差部に相当する領域を露光する工程、アルカリ水溶液処理によって非露光部のソルダーレジストを薄膜化する工程をこの順に含むことを特徴とするソルダーレジストの形成方法、または、回路基板の表面にソルダーレジストの膜を形成する工程、段差部に相当する領域および最終的にソルダーレジストが除去される領域以外の部分を露光する工程、アルカリ水溶液処理によって非露光部のソルダーレジストを薄膜化する工程をこの順に含むことを特徴とするソルダーレジストの形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィーに特に好適な新規のフォトレジストプロセスを提供する。
【解決手段】（ａ）基体上にフォトレジスト組成物を適用し；（ｂ）フォトレジスト組成物を活性化する放射線でフォトレジスト層を液浸露光し；（ｃ）露光されたフォトレジスト層の水接触角を調節し；および（ｄ）処理されたフォトレジスト層を現像してフォトレジストレリーフ像を提供する；ことを含む、フォトレジスト組成物を処理する方法。 （もっと読む）

画像とバックグラウンドとの間のコントラストが向上した平版印刷版を、画像化すなわち露光領域を水不溶性着色剤(染料又は顔料)と着色剤が画像化された領域内に埋め込まれるか又は拡散するように画像化領域を十分に膨潤させる有機溶媒とを含有する着色性流体を用いて着色することによって調製する。 （もっと読む）

【課題】微細なシリコーン層のパターンを有する印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に少なくとも感光層または感熱層と、シリコーン層をこの順に有する印刷版原版を、露光または加熱した後、シリコーン層を選択的に除去してシリコーン層のパターンを形成する印刷版の製造方法であって、現像液の存在下において、見掛比重が０．１５以上の編物布、織物布または不織布でシリコーン層表面を摩擦することにより前記シリコーン層の選択的除去を行うことを特徴とする印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】現像液を基板に均一性高く供給して、歩留りの低下を抑えることができる現像装置を提供すること。
【解決手段】表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を水平に保持する基板保持部と、現像液の前記基板への濡れ性を高めるための表面処理液を霧化させる表面処理液霧化手段と、霧化した前記表面処理液を前記基板に噴霧する第１の噴霧ノズルと、前記表面処理液が噴霧された基板に現像液を吐出して現像を行うための現像液吐出ノズルと、を備えるように現像装置を構成する。霧化した表面処理液は、液状のままの表面処理液に比べて、基板に対する表面張力が低いので、基板上で凝集することが抑えられるため、容易に基板全体に供給することができ、基板の濡れ性を高めることができる。その結果として、現像液を均一性高く基板に供給することができ、歩留りの低下を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】酸の拡散が被パターン化樹脂膜の全面に均一に十分な精度をもって行うことができ、その結果、被パターン化樹脂膜の全面に均一優れた寸法安定性が得られる酸転写用膜を得ることができる酸転写用組成物、これを用いてなる酸転写用膜、及びこの酸転写用膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）感放射線性酸発生剤、（Ｂ）含窒素基を有する重合体、及び、（Ｃ）ケトン系溶剤、を含有する組成物。（Ｂ）重合体は特定の(メタ)アクリルアミド構成単位を有することが好ましい。この組成物を用いてなる酸転写用膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、前記酸転写用膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】画像形成層に版面処理液を付与した際に画像が消色することがなく、且つ、画像部の刷り出し時のインキ乗りに支障を与えることなく、印刷汚れが改善された感熱型平版印刷版の印刷方法を提供する。
【解決手段】耐水性支持体上に少なくとも熱可塑性樹脂、水溶性高分子化合物、顕色剤及び発色剤を含有する画像形成層を有する感熱型平版印刷版を、画像様に加熱または光照射することにより画像部を形成した後、印刷開始前に下記（ｉ）及び（ｉｉ）の化合物を含有する版面処理液を付与した後に印刷を行うことを特徴とする感熱型平版印刷版の印刷方法。
（ｉ） 無機微粒子
（ｉｉ） 沸点が１８０℃以上の炭素数４以下のポリオール化合物 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の露光工程後かつ現像工程前に用いられ、レジスト膜の疎水性を低下させることが可能なレジスト表面改質液、及びそのレジスト表面改質液を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンを形成する際には、まず、基板上に形成されたレジスト膜を選択的に露光し、次いで、露光後のレジスト膜に酸性アニオン性界面活性剤と水とを含有するレジスト表面改質液を接触させることにより、レジスト膜の疎水性を低下させる。その後、レジスト表面改質液に接触させたレジスト膜を現像する。 （もっと読む）

【課題】酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】イミノスルホネート系感放射線性酸発生剤、及び式（１）に示す構成単位を有する重合体、を含有する組成物。この組成物を用いてなる酸転写樹脂膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。
【化１】
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【課題】液浸リソグラフィによる溶解コントラストを向上して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板２０１の上にレジスト膜２０２を形成する。続いて、レジスト膜２０２の上に、ハロゲン化アダマンタンを含むバリア膜２０３を形成する。続いて、バリア膜２０３の上に液体２０４を配した状態で、バリア膜２０３を介してレジスト膜２０２に対して露光光２０５を選択的に照射してパターン露光を行なう。パターン露光を行なった後に、バリア膜２０２を除去し、さらに、パターン露光が行なわれたレジスト膜２０２に対して現像を行なってレジストパターン２０２ａを形成する。 （もっと読む）