説明

Fターム[2H096HA07]の内容

感光性樹脂・フォトレジストの処理 (33,738) | 現像後の処理 (2,818) | 画像の転写 (128)

Fターム[2H096HA07]に分類される特許

61 - 80 / 128


【課題】製造工程が簡単な表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による表示装置の製造方法は、ベースフィルム上に感光性表面活性剤をコーティングする工程と;表面活性剤上に有機層を形成する工程と;有機層上に所定のパターンの開口部が形成されたマスクを整列配置した後に露光して、表面活性剤と有機層の間の界面粘着力を減少させる工程と;ベースフィルム上の有機層を絶縁基板に付着させる工程と;熱を加えて有機層と絶縁基板の間の粘着力を増加させる工程と;ベースフィルムを絶縁基板から分離し、露光された表面活性剤に対応する有機層を絶縁基板に転写する工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 レジスト剥離処理後にシード層の上に残渣物が残っている場合はシード層をエッチングする工程にて所定領域のシード層が除去されずパターン回路が相互に短絡する。また隣接するパターンの間隔が狭くなる等の欠陥となる。
【解決手段】 パターンの形成方法において、下地金属層上にパターンに対応したレジスト層を形成し、該パターンにメッキにより導体回路を設け、前記レジスト層をアルカリ性のレジスト剥離液により剥離し、剥離した後に残る残渣物である2 、2'- ビス(o- クロロフェニル)-4 、4'、 5、5'- テトラフェニル-1、2'- ビイミダゾールを酢酸 、クエン酸、蟻酸、乳酸の内の少なくとも1つを含む有機酸とベンゾトリアゾール、2-エチルベンゾイミダゾール、3-ヒドロキシ-2- ピロンの内の少なくとも1つとを含む含窒素化合物を含有する除去液で前記残渣物を除去する工程を有することを特徴とするパターンの形成方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】正確な形状を有するマイクロレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に形成したレジスト層を現像して円柱形状のレジストパターンを形成し、その後、熱フローにより前記レジストを溶融してレンズ形状とし、さらに、残った前記レジストと前記基板をドライエッチングして前記レジストの形状を前記基板に転写する工程を有するマイクロレンズの製造方法であって、前記ドライエッチングの開始時点において、熱フローにより形成された前記レンズ形状4のレジストの高さ(SAG量)が、レジストパターンが形成されない領域5に形成されているレジスト層の高さより低くされていることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。 (もっと読む)


【課題】マイクロレンズアレイ、マイクロレンズ、及び表示装置の効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】 シリコン基板1、SiO層2、シリコン層3に設けられた穴は、切り込み7によって分離され、各穴には、比重と屈折率の異なる非導電性液体8と導電性液体9が封入されるようにする。パイレックス(登録商標)ガラス5には電極6が設けられ、パイレックス(登録商標)ガラス10には電極11が設けられている。電極11は、各穴に共通であり、電極6は各穴毎に設けられている。これによりマイクロレンズアレイが形成される。電極11と各電極6との間にかける電圧を個々に調整することにより、個々のマイクロレンズの焦点距離を調整することができる。 (もっと読む)


【課題】 多層レジストプロセス用、特には二層レジストプロセス用又は三層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、すなわち透明性が高く、最適なn値、k値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、ビスナフトール基を有する化合物、およびこのノボラック樹脂を含むことを特徴とするレジスト下層膜材料を提供する。 (もっと読む)


【課題】基板上に形成されたパターンをマスクとしてエッチングを行うパターン形成方法において、パターン表面に、低温で、耐エッチング性が高い金属酸化物膜を、パターン表面に選択的に形成するために好適に用いられる下層膜形成用材料、積層体およびパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板と、加水分解により水酸基を生成し得る金属化合物(W)が溶剤(S)に溶解してなる膜形成用材料を用いて形成される金属酸化物膜との間に下層膜を形成するための下層膜形成用材料であって、多環式の炭化水素環を有し、該炭化水素環の環上の少なくとも1つの炭素原子が主鎖を構成する構成単位(a)を有し、前記金属化合物(W)と反応する官能基を有さず、かつ前記溶剤(S)に溶解可能な樹脂(A1)を含有することを特徴とする下層膜形成用材料。 (もっと読む)


【課題】低コストで半導体素子または表示素子を製造することができる、パターンの製造法とそれにより形成されるパターンの提供。
【解決手段】基板上に形成された感光性樹脂組成物層の上に疎液性の高い表面被覆層を形成させ、パターンを形成させる。基板上に残留する表面被覆層は疎液性が高く、一方、被覆が除去された部分は相対的に親液性が高いので、被覆が除去された部分に選択的に導電性材料含有組成物を付着させることができ、所望の配線パターンを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】解像限界を超えるパターン形成を可能にする半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体素子の微細パターンの形成方法において、シリコンが含まれた感光膜を形成した後、酸素プラズマ工程を行なうことにより感光膜を除いたコーティング及び食刻工程を1回のみ行なうようにして工程を単純化させ、時間及び費用を低減させる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られるインクジェット方式による材料パターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、化学増幅型ノボラック樹脂組成物からレジストモールドパターンを形成し、該レジストモールドパターン内に金属材料または有機材料をインクジェット方式によって塗布する材料パターン形成方法を提供する。
本発明のインクジェット方式による材料パターン形成方法は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られる。 (もっと読む)


【課題】フォトレジスト膜に対してエッチング選択比が高く、かつ無機性の緻密な膜を形成することにより上層のフォトレジスト膜が良好なパターンを形成でき、またウエットストリップが可能であり、さらに、保存安定性が高く、下層膜のエッチング時に優れたドライエッチング耐性を示して多層レジスト膜のレジスト中間層膜として好適な反射防止膜材料、及び、この反射防止膜をレジスト中間層膜として有する基板を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト中間層膜として用いる反射防止膜材料であって、少なくとも、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物をキレート化剤と反応させて得られる高分子化合物と、有機溶剤と、酸発生剤とを含有することを特徴とする反射防止膜材料。
(もっと読む)


【課題】凹版転写法で形成するカラーフィルタ用のブラックマトリクスにおいて、上表面が撥インク性であるブラックマトリクスを形成する。
【解決手段】感光性を有し、層状物上表面が、カラーフィルタの色材層用のインクジェットインクに対して撥インク性を有するブラックマトリクス材層状物4を仮支持体1に配してなる感光性転写部材5を凹版転写法用凹版jに、熱、圧を加えた状態の下で貼り合わせ、裏面露光し、仮支持体1を剥がした後、ブラックマトリクス材層状物を現像し、所望のパターンにして凹版転写法用凹版の凹部にブラックマトリクス材を得て、カラーフィルタ用基板dと現像後の凹版転写法用凹版jとの間に無溶剤感光硬化型接着材を挟み込み、露光して接着剤を硬化させ、凹版転写法用凹版jをカラーフィルタ用基板から引き剥がした。 (もっと読む)


【課題】剥離強度、及び導電性に優れたエポキシ樹脂組成物、導電膜形成方法、導電性パターン形成方法、多層配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、該エポキシ基と反応する官能基を1分子中に2個以上有する硬化剤、及び光重合開始剤を必須成分として含有するエポキシ樹脂組成物を用いて、導電膜及び導電性パターンを形成すると共に、多層配線板を製造する。 (もっと読む)


【課題】高い電磁波シールド性と高い透光性とを同時に有する透光性電磁波シールド膜、及びプリント基板として使用可能な導電膜を提供すること。
【解決手段】支持体上に設けられた、銀塩乳剤を含有する乳剤層を含む感光材料を露光し、現像処理することにより金属銀を形成した後、(カレンダー処理を行うなどの)平滑化処理をする。 (もっと読む)


【課題】 本発明はフォトレジスト組成物及び前記フォトレジスト組成物を用いた薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト組成物はノボラック樹脂及びアクリル樹脂を含む混合樹脂100重量部及びナフトキノンジアゾスルホン酸エステル10〜50重量部を含む。前記ノボラック樹脂の重量平均分子量は30000以上であり前記アクリル樹脂の重量平均分子量は20000以上である。前記アクリル樹脂の含量は全体混合樹脂の1〜15重量%である。前記フォトレジスト組成物は薄膜トランジスタ基板の製造工程のパターン形成の際、リフローによるプロファイルの角度変化を最小化し、パターンの構造の安定性及び残膜厚さ均一性を向上させることで配線のショート及びオープン不良を減少させることができる。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンを有する無機物層を作業性良く形成できる製造方法を備えたプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】(I)基板1上に無機物粒子を有する樹脂組成物層2を圧着、(II)感光性樹脂組成物層3を積層圧着、(III)活性光線5を照射、(IV)現像によりパターンを形成、(V)パターンの上部から圧力をかけ、樹脂組成物層に、パターンを埋め込む工程、(VI)パターンを除去して凹凸パターンを形成、(VII)焼成して凹凸パターンを有する無機物層を形成する工程、を少なくとも含む凹凸パターンを有する無機物層の製造法。 (もっと読む)


【課題】印刷版、特に、クッション性を有することにより、硬質な被印刷物に対してブランケットロールを用いないダイレクトなグラビア印刷が可能であり、段ボール印刷等、粗面に対するグラビア印刷が良好に行えて、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのに好適であるクッション性を有するグラビア版の製造方法を提供する。
【解決手段】ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層11bを表面に設けた中空ロール11aと、該クッション層11bの表面に設けられかつ表面に多数のグラビアセル14が形成された銅メッキ層12と、該銅メッキ層12の表面に設けられた金属層16と、該金属層16の表面に設けられた当該金属の炭化金属層18と、該炭化金属層18の表面を被覆するダイヤモンドライクカーボン被膜20とを含むようにした。 (もっと読む)


【課題】基板と有機膜とを備えた積層体の前記有機膜上に形成されたパターン上に、低温で、高い耐エッチング性を有する膜を、有機膜に対して高い被覆選択性で形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】加水分解により水酸基を生成し得る金属化合物(W)が溶剤(S)に溶解しており、前記溶剤(S)が、前記金属化合物(W)と反応する官能基を有さない溶剤(S1)を含有する膜形成用材料を用いてパターンを形成する方法であって、基板と有機膜とを備えた積層体の前記有機膜上に形成されたパターン上に、前記金属化合物(W)と反応する官能基を有さない溶剤(S1’)を塗布し、該溶剤(S1’)が完全に揮発する前に、前記パターンを前記膜形成用材料を用いて被覆し、前記膜形成用材料を用いて被覆されたパターンをマスクとして前記有機膜のエッチングを行う。 (もっと読む)


【課題】
エッチャントとして特定のガスを使用して、その添加量を厳密に制御することなく、膜の加工両端部を基板から離間するにつれて両端部間の距離が短くなるようなテーパー形状とし、当該テーパーの角度を所望の角度とすることが可能な膜のパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】
本発明に係る一の態様の膜のパターン形成方法は、基板上に膜4、5を形成し、膜4、5の上層に、第1マスキング層10とその上層の第2マスキング層11とを、当該第2マスキング層11が第1マスキング層10端から突出する庇部を有するようにパターン形成し、膜4、5の上層に第1マスキング層10及び第2マスキング層11のパターンが形成されている状態において、膜4、5をエッチングしてパターニングする。
(もっと読む)


【課題】水系現像液で現像でき、また、水性インキに対する耐性があり、且つ現像速度を早くすることができ、高速印刷に耐え得る機械的強伸度を有する新聞用フレキソ印刷原版。
【解決手段】(1)なくとも支持体、感光性樹脂層、IRアブレーション層およびカバーフィルムを有する感光性樹脂積層体において、前記支持体が金属であって、かつ前記感光性樹脂層の厚みが1000μm以下であることを特徴とする感光性樹脂積層体。(2)感光性樹脂積層体が新聞印刷用原版である前記(1)記載の感光性樹脂積層体。(3)感光性樹脂層に水分散ラテックスから得られる疎水性重合体が含有されていることを特徴とする前記(1)記載の感光性樹脂積層体。(4)IRアブレーション層とカバーフィルムとの間に、有機高分子層を有する前記(1)記載の感光性樹脂積層体。(5)IRアブレーション層が、IR吸収性金属層のみからなる、前記(1)記載の感光性樹脂積層体。 (もっと読む)


【課題】基板上に形成された金属膜のウェットエッチング時において、孔食の発生を抑制し得るレジストパターンを与える感光性レジスト組成物、及び該感光性レジスト組成物を用いた品質の良好なパターン化金属膜を有する基板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)感光剤、(C)イオノホア化合物及び(D)溶剤を含む、酸水溶液によるウェットエッチング用感光性レジスト組成物、並びに(a)基板上に形成された金属膜に前記感光性レジスト組成物を塗布して感光層を形成する工程、(b)前記感光層にパターン露光したのち、現像してレジストパターンを形成する工程、及び(c)前記レジストパターンをマスクとして、金属膜を酸水溶液によりウェットエッチングする工程を含む、パターン化金属膜を有する基板の製造方法である。 (もっと読む)


61 - 80 / 128