【課題】本発明の目的は、塑性変形に起因する表示ムラの抑制と、硬度あるいは機械的強度向上に伴う密着性低下に起因する表示ムラの抑制とを両立でき、表示ムラのない良好な表示品質でかつ歩留りのよい表示装置の製造が可能な表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）バインダポリマー、（ｂ）１分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、（ｃ）活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤、（ｄ）１分子中に少なくとも１個の加水分解性基含有シリル基を有するシリル基含有有機化合物を含み、（ｄ）成分の含有量が、（ａ）及び（ｂ）成分の総量１００重量部に対して０．０１〜３０重量部であることを特徴とする表示装置スペーサー用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 パターンの膜厚を均一にしつつカスレの発生を少なくすることができるスクリーン印刷版およびスクリーン印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】 ペースト通過孔４は、スキージの走行方向に平行な辺21，21’，22，22’を有する長方形状であるとともに一方の主面ｈ側の第１孔部１および他方の主面ｔ側の第２孔部２からなり、第１孔部１および第２孔部２の開口幅は、スキージの走行方向に平行な辺21，21’，22，22’間で第１孔部１より第２孔部２が大きく、スキージの走行方向に直交する辺31，31’，32，32’間で等しいスクリーン印刷版である。ペースト通過孔４の開口部においてスキージが最初に通過する部分での印刷ペーストの広がりは制限されるので、他方の主面ｔ側より吐出するペースト量が周辺部でばらつかなくなり、パターンのカスレの発生を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】高エッチングレートを有し、埋め込み特性、剥離液による剥離性および反射光吸収特性の問題を改善した反射防止膜形成用組成物、およびこれを用いた配線形成方法を提供する。
【解決手段】反射防止膜形成用組成物を、一般式Ｒ¹_4-nＳｉ（ＯＲ²）_n・・・・・（１）（ｎは、２〜３の整数を表す。Ｒ¹は親水性結合を有する有機基を表し、Ｒ²は炭素原子数１〜５のアルキル基またはフェニル基を表す。）で表されるシラン化合物と、一般式Ｔｉ（ＯＲ³）₄・・・・・（２）（Ｒ³は、炭素原子数１〜５のアルキル基またはフェニル基を表す。）で表されるチタン化合物との加水分解生成物と、溶剤と、を少なくとも含んで構成する。 （もっと読む）

【課題】 マスクの欠陥の有無を確実に検出し、マスクの欠陥により、一連のワークに不具合が発生するのを防止すること。
【解決手段】 レジストが塗布されたワークにマスクを介して露光光を照射して複数ショット露光し現像処理し、エッチング処理を行った後、形成されたパターンの検査を行うパターン形成方法において、露光・現像処理後であって、エッチング処理の前にマスクを検査する工程を設ける。ここでは、レジストパターンを少なくとも２ショット分取り出し、この内の少なくとも１ショット分のレジストパターンと、検査の基準となるマスタパターンとを比較して上記レジストパターンの欠陥の有無を検査し欠陥個所を抽出する。そして他のレジストパターンについて、上記欠陥個所と同一個所に欠陥が存在するかを検査し、同一個所に欠陥が存在する場合、露光に用いたマスクに欠陥があると判定する。 （もっと読む）

【課題】環境負荷を低減する代替溶媒技術を提供する。
【解決手段】一般式（1A）〜(1C)：
Ｒｆ−Ｘ−Ｒｈ (1A)
Ｒｈ−Ｘ−Ｒｆ^１−Ｘ−Ｒｈ (1B)
Ｒｆ−Ｘ−Ｒｈ^１−Ｘ−Ｒｆ (1C)
（ここでRfは一価のペルフルオロポリエーテル基を表し、Xは結合基であり、Rhはエーテル性酸素原子を有することのある一価の炭化水素基を表す。Rf¹は二価のペルフルオロポリエーテル基を表し、Rh¹はエーテル性酸素原子を有することのある二価の炭化水素基を表す。Rｆ、Rf¹、RｆまたはRf¹とXの間には、フッ素化されていてもよい直鎖又は分枝を有するアルキレン基を有してもよい。）で表される洗浄、乾燥剤。 （もっと読む）

プラズマ処理方法は、表面に有機層を有する被処理体プラズマ処理方法は、表面に有機層を有する被処理体を準備する工程と、前記被処理体に対して、Ｈ_２のプラズマを照射して前記有機層の耐プラズマ性を向上させる工程とを有する。
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【課題】 高電導度と高透光性の導電性膜を提供すること。さらに細線パターン形成された高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を提供すること。電磁波シールド能を劣化させることなく膜を安価に大量生産できる透過性電磁波シールド膜及び導電性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 黒白ハロゲン化銀写真感光材料に現像処理と定着処理を施して金属銀部を形成し、続いて該金属銀部にめっき処理して導電性を付与する工程を少なくとも含む導電性膜の製造方法に用いる定着液であって、該定着液が処理温度３０℃〜６０℃、かつ、処理時間５秒〜４０秒で用いられることを特徴とする透光性導電性膜形成用定着液。これを用いた透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜。 （もっと読む）

【課題】 所望のレジストパターンを適切に形成することができ、カラーフィルタを形成するのに好適なレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、基板上に第１のカラーフィルタ層を形成し、第１のカラーフィルタ層に熱流動性レジストを塗布し、パターンを露光及び現像し、その後、焼結加工する際に、熱流動性レジストを流動させつつ、硬化させることで第２のカラーフィルタ層を形成する。 （もっと読む）

【課題】 簡単なプロセスで必要な部分のみに金属層を析出させるめっき方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るめっき方法は，
基板１０の上方に界面活性剤層２８を形成する工程と、
基板１０を透過する光２４を、光源２６と界面活性剤層２８との間に配置されたマスク３２を介して照射し、界面活性剤層２８をパターニングする工程と、
界面活性剤層２８の上方に触媒層を形成する工程と、
触媒層の上方に金属層を析出させる工程と、を含み、
光２４は，基板１０に対して界面活性剤層２８が形成された側とは反対側から照射される。 （もっと読む）

【課題】 高電導度と高透光性の導電性膜を提供すること。さらに細線パターン形成された高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を提供すること。電磁波シールド能を劣化させることなく膜を安価に大量生産できる透過性電磁波シールド膜及び導電性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 黒白ハロゲン化銀写真感光材料に現像処理と定着処理を施して金属銀部を形成し、続いて金属銀部にめっき処理して導電性を付与する工程を少なくとも含む導電性膜の製造方法に用いる定着液であって、定着液が特定化合物を１種以上含有することを特徴とする透光性導電性膜の製造方法。これを用いた透光性導電性膜、電磁シールド膜。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、硬化膜の膜物性に優れた樹脂組成物並びに半導体装置及び表示素子に関するものである。本発明の脂組成物は、基板への低応力性に優れるという特徴を有している。
【解決手段】
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、ビスオキサゾリン誘導体とジカルボン酸との反応生成物（Ｂ）を含む樹脂組成物を用いる。ジカルボン酸１モルに対してビスオキサゾリン誘導体を０．３〜３モル反応させた反応生成物を用いることが好ましい。更に、（Ｃ）光により酸を発生する化合物を含むことにより、現像性のある樹脂組成物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】基板上のレジストパターンにイオン注入処理を行う際のレジストの変質層の生成を抑制し、基板に損傷を与えることなくレジストを除去する。
【解決手段】基板１上にレジストパターン３を形成する第１の工程の後に、不活性ガスおよび窒素雰囲気下で加熱しながら基板１を紫外線照射するか、もしくは基板１を加熱しながらアルカリ溶液に浸漬する第２の工程を実施し、その後イオン注入の処理を行う第３の工程を実施し、最後にレジストパターン３を除去する第４の工程を実施する。レジストの除去能力低下は、レジスト樹脂が注入イオンである例えばリンと架橋することにより硬化した変質層が形成されるためである。本発明では、前処理として紫外線照射またはアルカリ溶液浸漬を行うことにより、変質層の形成を抑制し、レジスト除去を容易にする。 （もっと読む）

【課題】 アッシングレートや防食性能を低下させることなく、基板上に残留する塩素成分が確実に除去され、剥離性の高い半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。
【解決手段】 基板２上に形成された絶縁層３上にＡｌ又はＡｌ合金からなるＡｌ含有層４を形成する工程と、Ａｌ含有層４上にレジスト層５を形成する工程と、レジスト層５の所望のパターン領域をパターニングする工程と、Ａｌ含有層４のうちパターン領域外のＡｌ含有層を塩素含有ガスによって除去するエッチング工程と、エッチング工程後に水素含有ガスの供給量を可変しながら基板１上に残留する塩素成分を除去するアッシング工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 撥油・撥水性のパターンを高解像度で形成することができ、親水性、もしくは親油性化合物を表面に付着させた際に、選択的にパターン非形成領域のみに付着して、ディスクリミネーションの高いパターンを得ることができるパターン形成方法、及び、パターンを応用してなる混色や白ヌケのない高解像度のカラーフィルタを提供する。
【解決手段】 （１）基板上に、重合開始能をもつ活性種を表面に有する樹脂組成物をパターン状に形成する活性種パターン形成工程、及び、（２）該パターンを形成した基板に重合性基を有する撥油・撥水性化合物を接触させ、グラフト化合物を形成する撥油・撥水性パターン形成工程、を含むことを特徴とする撥油・撥水性パターン形成方法である。さらに（３）基材上の、撥油・撥水性パターンの少なくとも一部に、選択的に物質を付着させる非撥油・撥水性領域物質付着工程を行うことで、種々の素子に応用することができる。 （もっと読む）

【課題】 寸法安定性に優れ、高精細で側面が滑らかな隔壁を形成することができ、かつ製造工程において、使用する材料の損失が少なく、高い歩留まりが得られ生産効率が高いプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法を提供すること。
【解決手段】 基板上に厚みが５０〜２５０μｍであって、アルカリ可溶性バインダー、光重合開始剤、重合性化合物及び熱重合禁止剤からなり、前記アルカリ可溶性バインダーと重合性化合物の合計量１００質量部に対し、熱重合禁止剤を０．０１〜０．５質量部含有した感光層を形成する感光層形成工程と、前記感光層を青紫色レーザ光照射装置により露光した後、現像して型を形成する型形成工程と、該型により得られた開口部にガラスペースト材料を充填した後、前記型を消失させて隔壁を形成する隔壁形成工程とをこの順に行うプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、電気デバイスおよび電子デバイスの製造方法に関する。ポリマーフィルムが、基板上にパターン化される。厚いフィルムペーストが、パターン化ポリマーの上に付着される。厚いフィルムペーストが、ポリマーの、厚いフィルムペースト中への拡散を可能にする条件下で乾燥される。これにより、拡散領域がアルカリ現像溶液に不溶性となる。
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【課題】レジストパターンのパターニング時に既存の露光装置におけるＡｒＦエキシマレーザー光等の光源をそのまま使用可能であり量産性に優れ、レジスト抜けパターンを前記光源の露光限界を超えて微細に製造可能なレジストパターンの製造方法、半導体装置の製造方法等の提供。
【解決手段】本発明のレジストパターンの製造方法は、レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うようにレジストパターン厚肉化材料を塗布することを含み、前記レジストパターン厚肉化材料が、樹脂と、架橋剤と、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、並びに、アルコキシレート系界面活性剤、脂肪酸エステル系界面活性剤、アミド系界面活性剤、アルコール系界面活性剤、及びエチレンジアミン系界面活性剤から選択される非イオン性界面活性剤から選択される少なくとも１種とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

少なくとも２つの異なる画像領域を有する露光基体を作製する方法である。形成すべき画像領域の種類に適応した少なくとも２つのフォトレジスト層を基体に設ける。
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【課題】平版印刷版を処理する過程で発生した泡を、安価で極めて簡単な機構で効率的に除去、消泡し、泡やスラッジによる製版上やメンテナンス上の悪影響を解消した平版印刷版処理装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも現像工程部と水洗工程部を有する平版印刷版処理装置であって、少なくとも平版印刷版搬送機構、水洗液吐出手段、水洗液回収手段、版面洗浄促進手段からなる水洗処理部と、処理液が貯留される貯留槽、及び前記水洗処理部から前記貯留槽への送液管を少なくとも有する水洗工程部を含む平版印刷版処理装置において、該貯留槽の液面より上部となる空間と液回収手段とを結ぶ泡誘導管を設けることを特徴とする平版印刷版処理装置によって達成された。 （もっと読む）

【課題】層が存在しない領域を有する層が、高いレベルの精度と安い費用で正確な重なり関係で適用される、多層体及び多層体の製造プロセスを提供する。
【解決手段】部分的に形成された第一の層（３ｍ）を有する多層体（１００、１００´）の製造プロセスであって、特定の構造エレメントの高い深さ幅比、特に０．３を超える高い深さ幅比を有する回折性の第一の凹凸構造（４）が前記多層体（１００、１００´）の複製層（３）の第一の領域（５）に形成され、第一の層（３ｍ）が、前記第一の領域（５）と、前記複製層（３）に凹凸構造が形成されていない第二の領域（４、６）の前記複製層（３）に、前記複製層（３）により規定される平面に対して均一な表面密度で適用され、前記第一の凹凸構造により確定する方法で、前記第一の層（３ｍ）が前記第一の領域（５）または前記第二の領域（４、６）で除去されるとともにそれぞれに対して前記第二の領域（４、６）または前記第一の領域が除去されないように、前記第一の層（３ｍ）が部分的に除去される。 （もっと読む）