【課題】エアロゾルデポジション法を用いることにより、精度良くパターニングされた膜を形成する。
【解決手段】 基板、又は、該基板に形成された電極上に、軟質材料により形成された少なくとも１層の軟質マスク層と、硬質材料により形成された少なくとも１層の硬質マスク層とを含む複数のマスク層を配置する工程Ｓ１１及びＳ１２と、基板のマスク形成面に向けて脆性材料により形成された粉体を吹き付け、該粉体を下層に衝突させて堆積させることにより、脆性材料層を形成する工程Ｓ１３と、複数のマスク層を除去する工程Ｓ１４とを含む。 （もっと読む）

【課題】基板と所望のパターンを有する凸部との密着性が良く耐久性に優れ、正確にパターン形成可能なパターン形成用モールドの製造方法およびパターン形成用モールドを提供すること。
【解決手段】本発明のパターン形成用モールドの製造方法は、基板表面に、無機微粒子とヒドロキシスチレン系樹脂と光酸発生剤とを含むレジスト組成物で所望のパターンを有する凸部を形成する工程と、凸部を形成した基板表面に、ポリシラザンを含有する塗布液を塗布してハードコート層を形成する工程と、ハードコート層を形成した基板を焼成する工程とを含む。前記ヒドロキシスチレン系樹脂の配合量は、前記無機微粒子１００重量部に対して５〜２５重量部である。 （もっと読む）

【課題】 金属パターン等のパターンに何等影響を与えることなく、鍍金用マスク材を容易に剥離することを可能にし、又、その鍍金用マスク材を再利用することを可能にするパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 基板上に厚膜レジストを塗布して厚膜レジスト母型とし該厚膜レジスト母型にパターン形成を施して厚膜レジストパターンを形成する工程と、厚膜レジストパターン上にＰＤＭＳのプレポリマー混合液を流し込んで硬化させてＰＤＭＳシートを形成する工程と、上記ＰＤＭＳシートを上記基板及び厚膜レジストパターンから剥離させて別の基板に貼り付ける工程と、を具備してなるパターン形成方法において、上記ＰＤＭＳのプレポリマー混合液を流し込んで硬化させる前に貫通孔を形成するための加圧処理を施すようにしたもの。 （もっと読む）

【課題】オゾン水による基板上残留有機物の除去方法の改良。
【解決手段】受台に保持された基板３の、レジストＲが残留している面に対してオゾン水用ノズル１と、それと独立した過熱水蒸気用ノズル２ａ、２ｂとを、それぞれから供給されるオゾン水と過熱水蒸気とが、そのレジストＲの直上で混合されるような姿勢に配設し、かつ、基板３のレジストＲが存在する全領域にわたってその除去ができるよう、基板３の受台との間で相対移動可能とする。 （もっと読む）

【課題】種々の用途に適用可能なエレクトロニクス用洗浄液の提供。
【解決手段】下記一般式（ｓ−１）で表される化合物（ｓ−１）を含むエレクトロニクス用洗浄液と、これを用いたパターン形成方法。
［化１］


［式中、Ｒ^２１〜Ｒ^２３はそれぞれ独立に水素原子、または直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であって、Ｒ^２１〜Ｒ^２３のうち少なくとも２つはアルキル基であり、該アルキル基は、シクロヘキサン環における当該アルキル基が結合した炭素原子以外の炭素原子と結合して環を形成していてもよい。］ （もっと読む）

【課題】 電気泳動を利用した粒子の堆積方法において、レジストの開口部に均一に粒子を堆積させる技術を提案する
【解決手段】 本発明は、粒子を堆積させるための開口部を有するレジストが被覆された基材を、粒子を分散させた懸濁液に浸漬し、電圧を印加することで電気泳動により粒子を開口部に堆積させる粒子堆積方法において、開口部に粒子を堆積させた基板を、前記懸濁液と同じ組成で粒子を含まない洗浄液中に、開口部を上方に向けた状態で浸漬し、当該基板を、振り子運動などの揺動させることによりレジストに残留する粒子を除去するものとした。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、不要画線部上に塗設して印刷汚れを修正する簡便な方法を提供することにある。特に、周辺部汚れを伴わず、不要画線部のみを修正することが可能な修正方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも１種の親水性樹脂を含有する第１の修正液を平版印刷版の不要画線部およびその周辺に塗布、乾燥後、少なくとも１種の疎水性樹脂を含有する第２の修正液を該不要画線部の上に塗布乾燥して該不要画線部の消去修正を行うことを特徴とする平版印刷版の不要画線部の消去修正方法。 （もっと読む）

【課題】ｉ線仕様、ＫｒＦ仕様、ＡｒＦ仕様等の多種多様のホトレジストに対して幅広く適用可能で、優れた洗浄性を示す洗浄液であって、かつ、使用済みの該洗浄液を高収率で回収・再生してリサイクル洗浄液として循環使用することができるホトリソグラフィ用洗浄液、およびその循環使用方法を提供する。
【解決手段】（ａ）酢酸またはプロピオン酸の低級アルキルエステルの中から選ばれる少なくとも１種と、（ｂ）炭素数５〜７の環状若しくは非環状ケトンの中から選ばれる少なくとも１種とを、（ａ）／（ｂ）＝４／６〜７／３（質量比）の割合で含有し、かつ、（ｃ）ホトレジストに用いられる有機溶剤を０．０１質量％以上１質量％未満の割合で含有するホトリソグラフィ用洗浄液、およびその循環使用方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られるインクジェット方式による材料パターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、化学増幅型ノボラック樹脂組成物からレジストモールドパターンを形成し、該レジストモールドパターン内に金属材料または有機材料をインクジェット方式によって塗布する材料パターン形成方法を提供する。
本発明のインクジェット方式による材料パターン形成方法は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られる。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工程において硬化したフォトレジストを、半導体装置の信頼性に悪影響を与えることなく従来よりも容易に剥離することができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、支持基板１０上、あるいは、支持基板上に形成された構造体上にフォトレジスト膜２０を形成し、フォトレジスト膜をパターニングし、フォトレジスト膜をマスクとして物質を注入し、あるいはドライエッチングで加工し，フォトレジスト膜を膨潤または溶解させる有機溶剤に晒し、硫酸を含む薬液にフォトレジスト膜を浸漬することによって該フォトレジスト膜を除去することを具備する。 （もっと読む）

【課題】凹版転写法で形成するカラーフィルタ用のブラックマトリクスにおいて、上表面が撥インク性であるブラックマトリクスを形成する。
【解決手段】感光性を有し、層状物上表面が、カラーフィルタの色材層用のインクジェットインクに対して撥インク性を有するブラックマトリクス材層状物４を仮支持体１に配してなる感光性転写部材５を凹版転写法用凹版ｊに、熱、圧を加えた状態の下で貼り合わせ、裏面露光し、仮支持体１を剥がした後、ブラックマトリクス材層状物を現像し、所望のパターンにして凹版転写法用凹版の凹部にブラックマトリクス材を得て、カラーフィルタ用基板ｄと現像後の凹版転写法用凹版ｊとの間に無溶剤感光硬化型接着材を挟み込み、露光して接着剤を硬化させ、凹版転写法用凹版ｊをカラーフィルタ用基板から引き剥がした。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光を利用でき、サイズ依存性なく厚肉化可能で、エッチング耐性に優れ、露光限界を超えて微細なレジスト抜けパターン等を低コストで簡便に効率よく形成可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。
【解決手段】樹脂と、下記一般式（１）で表される化合物とを含む。


ただし、一般式（１）中、Ｒは、環状構造化合物を、Ｘは、カルボキシル基を含む一価の有機基を、Ｙは、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキル基置換アミノ基、カルボニル基、及びアルコキシカルボニル基のいずれかを表す。ｍは、１以上の整数を、ｎは、０以上の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】可視光に対する高い透過率を有し、液晶分子の配向能に優れるグレーティングの製造方法、及び該製造方法を用いて得られるグレーティングの提供。
【解決手段】〈１〉下記（１）〜（４）で示す工程を備えるグレーティングの製造方法。（１）透明基板上に、下記の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む感放射線性樹脂組成物を塗布し、溶剤を除去した塗布膜を得る工程、 （Ａ）分子内に架橋反応を担う反応基を有するアルカリ可溶性樹脂 （Ｂ）キノンジアジド化合物 （Ｃ）溶剤、（２）前記（１）で得られた塗布膜に放射線を照射し、次いでアルカリ水溶液で現像して所定のラインアンドスペースパターンを前記基板上に形成する工程、（３）前記（２）で得られたラインアンドスペースパターンを形成した基板を加熱する工程、（４）前記（３）で加熱後のラインアンドスペースパターン上に垂直配向膜を形成する工程。〈２〉前記〈１〉の製造方法で得られるグレーティング。 （もっと読む）

【課題】位置精度よく混色等のない画素を形成し、表示装置に搭載したときに表示ムラがなく、かつ低コスト及び高効率にカラーフィルターを製造可能なカラーフィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に遮光性を有する隔壁を形成し、該隔壁により区切られた凹部にインクジェット方式によって、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）のインクを吹き付けて凹部に前記Ｒ、Ｇ、及びＢインクを堆積させて着色層を形成するカラーフィルターの製造方法において、前記各インクが、着色剤と、重合性化合物と、重合開始剤とを含有し、実質的に溶剤を含まない重合性インクからなり、各色のインクを用いた着色層の形成後に活性エネルギー線による硬化を行い、全色の着色層の硬化後に、さらに熱による硬化を行うことを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高精度の微細パターンを有するインプリント用テンプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１１にシリコン系の薄膜１５を形成する。薄膜１５の表面に感光性樹脂層１７を形成する。透明基板１１に光Ａを照射し、透明基板１１の表面にレジストパターン２１を形成する。レジストパターン２１をマスクとして、薄膜１５にエッチングを行い、シリコンパターン２３を形成する。シリコンパターン２３を酸化処理し、透明基板１１の表面に酸化シリコンパターン１３を形成する。 （もっと読む）

【課題】高い電磁波シールド性と高い透光性とを同時に有する透光性電磁波シールド膜、及びプリント基板として使用可能な導電膜を提供すること。
【解決手段】支持体上に設けられた、銀塩乳剤を含有する乳剤層を含む感光材料を露光し、現像処理することにより金属銀を形成した後、(カレンダー処理を行うなどの)平滑化処理をする。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンを有する無機物層を作業性良く形成できる製造方法を備えたプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】（Ｉ）基板１上に無機物粒子を有する樹脂組成物層２を圧着、（ＩＩ）感光性樹脂組成物層３を積層圧着、（ＩＩＩ）活性光線５を照射、（ＩＶ）現像によりパターンを形成、（Ｖ）パターンの上部から圧力をかけ、樹脂組成物層に、パターンを埋め込む工程、（ＶＩ）パターンを除去して凹凸パターンを形成、（ＶＩＩ）焼成して凹凸パターンを有する無機物層を形成する工程、を少なくとも含む凹凸パターンを有する無機物層の製造法。 （もっと読む）

【課題】解像度及び密着性が良好であり、テンティング性、めっき性及び耐サンドブラスト性に優れる特性を有する、感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体を提供する。
【解決手段】下記（a-1）〜（a-3）を反応させ、次いで（a-4）を反応させて得られ、か
つ酸価が１〜１５ｍｇＫＯＨ／ｇの（a）ポリウレタンプレポリマーと、（ｂ）アルカリ
可溶性高分子と、（ｃ）光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
（a-1）分子中に少なくとも２個の酸無水物基を有する多塩基酸無水物
（a-2）少なくとも二つの水酸基を有する化合物
（a-3）イソシアネート
（a-4）活性水素を有する官能基とエチレン性不飽和結合を分子内に共に有する化合物 （もっと読む）

【課題】現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、硬化膜柔軟性に優れ、テンティング性、良好なエッチング液耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、共重合成分としてベンジル（メタ）アクリレートを含有し、かつ、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂：１０〜９０質量％、（ｂ）光重合性不飽和化合物：５〜７０質量％、及び（ｃ）光重合開始剤として特定の化合物：０．１〜２０質量％含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ工程時に入射光の進行方向及び透過度を調節する方法で、多様な傾斜及び形状を有するポリマー又はレジストパターン及びこれを利用した金属薄膜パターン、金属パターン、ポリマーモールド並びにこれらの形成方法に関する。
本発明に係るポリマー又はレジストパターンの形成方法は、基板上に所定の形状にポリマー又はレジストパターンを形成する方法において、（ａ）前記基板上に感光性ポリマー又はレジストを塗布して、ポリマー又はレジスト膜を形成するステップと、（ｂ）前記ポリマー又はレジスト膜上にフォトマスクを位置させて、露光部分を決定するステップと、（ｃ）露光される光の経路上に光調節膜を位置させるステップと、（ｄ）前記光調節膜を調節して、前記ポリマー又はレジスト膜に照射される光の進行方向及び透過度を調節するステップと、を含むことを特徴とする。本発明に係るポリマー又はレジストパターンの形成方法によれば、多様な傾斜及び形状の３次元構造のポリマー又はレジストパターン、金属薄膜パターン、金属パターン構造、ポリマーモールドを簡便に形成できる。
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