【課題】ｐＨ１２以下の現像液を用いて良好な現像特性を示し、高い耐刷性及び良好な耐傷性を有し、インキ着肉性が向上した平版印刷版前駆体を提供する。
【解決手段】基体と、該基体上に形成された、水不溶性且つアルカリ性水溶液に可溶性又は分散性の樹脂を含む画像形成層とを含んで成るポジ型平版印刷版前駆体であって、前記画像形成層が、少なくとも下層及び上層を含んで成り、前記下層及び前記上層の一方、又は前記下層及び前記上層の両方の前記樹脂が、酸性水素原子を有する置換基を含む単位及び側鎖にフッ素化されたアルキル又はポリエーテル基を有するジオール残基で表される単位を有するポリウレタンを含むことを特徴とするポジ型平版印刷版前駆体。 （もっと読む）

【課題】金属層の下方に配置されたレジストが、種々の要因によって劣化する。
【解決手段】半導体装置形成方法は、基板上に、第１波長の光で感光する下層レジストおよび第１波長と異なる第２波長の光で感光する上層レジストがこの順序で配された加工対象を準備する段階と、第２波長の光によるフォトリソグラフィを用いて、上層レジストにパターンを形成する段階と、上層レジストのパターンを用いて金属層のパターンを形成する段階と、第１波長の光を金属層のパターンに照射して、近接場光を発生させることにより、金属層のパターンよりも微細なパターンを下層レジストに形成する段階と、下層レジストのパターンを基板上に転写する段階とを備える。 （もっと読む）

【課題】現像ラチチュードに優れ、耐刷性の良好な平版印刷版を作製しうる平版印刷版原版、それにより得られた平版印刷版及びその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、水不溶且つアルカリ可溶性樹脂を含む下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性又はアルカリ分散性のポリウレタン及び下記一般式（１）で表される複素環化合物を含む上層と、を順次備えてなり、下層及び上層の少なくとも一方に赤外線吸収剤を含有する赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版である。一般式（１）中、ＡはＮ又はＣＲ^２を表し、ＢはＮ又はＣＲ^３を表す。Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はアリル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はアリル基を表す。
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【課題】平版印刷における高い耐刷性を実現し、しかも露光部の良好な現像性をも達成する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上側に、画像記録層を有してなる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版であって、前記画像記録層が、ポリ（ビニルアセタール）と、両性界面活性剤および／またはアニオン性界面活性剤と、赤外線吸収剤とを含有する平版印刷版原版、ならびに、平版印刷版原版の画像記録層を画像露光する露光工程、アルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含む平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】平版印刷における高い耐刷性を実現し、しかも露光部の良好な現像性をも達成する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上側に、下層及び上層をこの順に配設した記録層を有してなる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版であって、前記上層および／または下層が、特定のマレイミド樹脂Ａと、両性界面活性剤および／またはアニオン性界面活性剤と、赤外線吸収剤とを、同じ層に、あるいはそれぞれ別々に層に含有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】所望の形状のレジストパターンを高精度に形成することができるレジストパターンの形成方法、立体構造の製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンの形成方法は、支持部１０上に、多層レジスト２０を形成する工程と、多層レジスト２０に第１の波長の第１の光による露光を施す工程と、多層レジスト２０に第１の波長と異なる第２の波長の第２の光による露光を施す工程と、露光が施された多層レジスト２０に現像処理を施すことによって、レジストパターンを形成する工程とを有し、複数のレジスト層は、第１の光による露光によって第１の現像可溶領域２３が形成される第１のレジスト層２１と、第２の光による露光によって第２の現像可溶領域２４が形成される第２のレジスト層２２とを含み、レジストパターンを形成する工程は、多層レジスト２０から第１及び第２の現像可溶領域２１，２２を除去する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ベーキング後においても、良好な画像コントラストを有するＣＴＰポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】基板上に、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂及び光熱変換材料を含有する画像形成層を有して成るポジ型平版印刷版原版であって、
前記画像形成層が、着色剤として酸性染料を含有することを特徴とするポジ型平版印刷版原版。 （もっと読む）

【解決手段】ナフタレン、フルオレン、フルオレノン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンゾクマリン、フェナレン-1-オン、アセナフテンから選ばれる芳香族基含有繰り返し単位を有し、酸によりアルカリに溶解する高分子化合物を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第1のレジスト膜を形成する工程と第1のレジスト膜上にアルキルアルコールを溶剤とする第2のポジ型レジスト材料を塗布して第2のレジスト膜を形成する工程と高エネルギー線で露光、ベーク後現像液を用いて前記第1,2のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】第2層のレジスト膜を第1層レジスト膜と組み合わせることにより第2層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したりイオンを打ち込んだりするときの耐性を高くできる。 （もっと読む）

【解決手段】芳香族基を繰り返し単位の２０〜１００モル％の範囲で有し、かつ酸によってアルカリに溶解する高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第１のレジスト膜を形成する工程と、第１のレジスト膜上に第１のレジスト膜を溶解させない炭素数３〜８のアルキルアルコールを溶媒とする第２のポジ型レジスト材料を塗布して、第２のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光し、ベーク後、現像液を用いて前記第１と第２のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、現像後に基板面を開口させることができる。
本発明では、第２層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したり、イオンを打ち込んだりするときの耐性を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】露光波長に対して強い吸収を持ち、上層のレジスト膜とのインターミキシングを起こさず、さらに上層のレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するための組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは直接結合又はフェニレン基を表し、Ａはナフチル基又はアントラセニル基を表す。）で表される構造単位を有するポリマー、少なくとも２つのビニルエーテル基を有する化合物、光酸発生剤及び溶剤を含むレジスト下層膜形成組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】現像槽におけるカスの発生が抑制され、経時安定性に優れた平版印刷版の製版方法、及び、前記製版方法により製版された平版印刷版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（成分Ａ）（メタ）アクリロニトリルに由来する構成単位と、スチレンに由来する構成単位とを含むコポリマー、（成分Ｂ）水不溶性かつアルカリ可溶性の樹脂、及び、（成分Ｃ）赤外線吸収剤、を含有し、露光又は加熱によりアルカリ水溶液に対する溶解性が向上するポジ型記録層を設けた赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、並びに、ノニオン系界面活性剤を含有し、かつｐＨが８．５〜１０．８のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含むことを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】第一に、現像ラチチュード、溶解識別性に優れ、高い耐刷性を有し、第二に、露光後の経時による現像性の低下が少なく、焼きだめ性が良好な赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、アルカリ可溶性基を有するグラフト共重合体を含む下層と、露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する上層と、を順次積層してなり、下層及び／又は上層に赤外線吸収剤を含み、下層の前記グラフト共重合体がエチレン性不飽和単量体に由来する構成単位をグラフト鎖として有するポリウレタンであることを特徴とする赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】現像ラチチュード、溶解識別性及び耐刷性に優れ、露光後の経時による現像性の低下が少ない赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版、並びに、前記赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版を使用した平版印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含む下層と、スルホンアミド基、活性イミド基及び／又はアミド基を有するグラフト共重合体を含む上層と、を順次積層してなり、前記グラフト共重合体が、エチレン性不飽和単量体に由来する構成単位をグラフト鎖として有するポリウレタン樹脂であることを特徴とする赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版、並びに、前記赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版を使用した平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】水性アルカリ性現像剤中で現像が可能な光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物及び、このような組成物の使用方法を提供する。
【解決手段】光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物であって、発色団基、ヒドロキシル及び／またはカルボキシル基、及び酸不安定基を含むポリマー、及び末端ビニルエーテル基を有する架橋剤を含み、更に光酸発生剤を含むかまたは含まない、上記組成物及び、このような組成物の使用方法。 （もっと読む）

【課題】近接配置される少なくと２つの微細ホールパターンを、ドライエッチング耐性が十分得られる膜厚に形成する。
【解決手段】光酸発生剤を含む第１レジストにスリット状開口部３ａを形成し、第１レジスト上に酸の作用により架橋反応を生じさせる架橋剤を含む第２レジストを形成し、第１レジストのスリット状開口部と交差する開口パターンを備えたマスクを介して露光することで、露光領域に酸を発生させ、第２レジストを架橋させ、架橋した第２レジスト５Ａによりスリット状開口部を少なくとも２つに分断する。 （もっと読む）

本発明は、水性アルカリ性現像剤中で現像可能なポジ型底面光像形成性反射防止コーティング組成物であって、発祥団基を有する少なくとも一つの繰り返し単位とヒドロキシル及び／またはカルボキシル基を有する少なくとも一つの繰り返し単位とを含むポリマー、末端にビニルエーテルを有する構造（７）の架橋剤、任意に及び光酸発生剤及び／または酸及び／または熱酸発生剤を含み、ここで構造（７）は、
【化１】


［式中、Ｗは、（Ｃ_１−Ｃ_３０）線状、分枝状もしくは環状アルキル部分、置換されているかもしくは置換されていない（Ｃ_３−Ｃ_４０）脂肪環式炭化水素部分及び置換されているかもしくは置換されていない（Ｃ_３−Ｃ_４０）シクロアルキルアルキレン部分から選択され； Ｒは、Ｃ_１−Ｃ_１０線状もしくは分枝状アルキレンから選択され； そしてｎは≧２である」
である、前記ポジ型底面光像形成性反射防止コーティング組成物に関する。本発明は、更にこのような組成物を使用する方法にも関する。
（もっと読む）

【課題】本発明は、印刷時に良好なインキクリーンアップとリスタートトーンニング特性を示す平版印刷版前駆体を提供する。
【解決手段】基板上に、順に、Ｋ単位およびＬ単位からなるコポリマーを含む中間層、ならびに画像形成層を有して成る平版印刷版前駆体であって、
前記Ｋ単位が次式Ｉ：


（上式中、Ｒ₁、Ｙ_１は、明細書中に規定するものである）
のモノマー、または
ＣＨ_２＝ＣＨＰＯ（ＯＨ）_２
から誘導され
前記Ｌ単位が次式ＩＩ：
ＣＨ_２＝ＣＲＣＯＮＨ_２ （ＩＩ）
（上式中、Ｒは、Ｈ、またはＣＨ₃である）
のモノマーから誘導され、
前記コポリマー中、前記Ｋ単位が３％超且つ４０％未満、前記Ｌ単位が６０％超且つ９７％未満であることを特徴とする平版印刷版前駆体。 （もっと読む）

【課題】良好な耐刷性を発揮しつつ、且つ、良好な汚れ防止性を発揮でき、更には良好な機上現像性を達成しうる平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、画像記録層を有する平版印刷版原版であって、該画像記録層が下記一般式（Ｉ）で表される化合物を０．０１〜１０質量％含有することを特徴とする、平版印刷版原版。


（式中、Ｒ^１は炭素数２〜１０の有機置換基を表し、Ｒ^２〜Ｒ^７はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜１０の有機置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】ＫｒＦレジストやＡｒＦレジストなどの液体レジストを用いて、中空構造などの複雑な三次元立体構造を有する微細な多層レジストパターンを形成することが出来るレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】第一の化学増幅型レジスト組成物を用いて第一のレジスト膜を形成し、第一のレジスト膜を選択的に露光を施す第一の工程と、第一のレジスト膜上に、第二の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成し、第二のレジスト膜を選択的に露光し、露光後ベーク処理を施す第二の工程と、第一のレジスト膜および前記第二のレジスト膜を現像して多層レジストパターンを形成する工程とを有するレジストパターン形成方法であって、第一の化学増幅型レジスト組成物が、露光によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポジ型レジスト組成物であるレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料の溶解性に優れたポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを、沸点１５０℃以上のアルコール系有機溶剤を含有する有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるポジ型レジスト組成物；第一のレジストパターンが形成された支持体上に、前記ポジ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成する工程と、前記第二のレジスト膜を選択的に露光し、アルカリ現像してレジストパターンを形成する工程とを含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）