【課題】ネガ現像において得られる親水性有機化合物で形成されるレジストパターンに適用出来るだけでなく従来のポジ現像で得られる疎水性化合物からなるレジストパターンにも適用出来るレジスト下層膜を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される有機ホウ素化合物及びその縮合物からなる群から選ばれる化合物（Ａ）一種以上と、下記一般式（２）で示されるケイ素化合物（Ｂ）一種以上とを含む混合物の縮合物及び／又は加水分解縮合物を含有するものであることを特徴とするケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。
Ｒ^１_ｍ０Ｂ（ＯＨ）_ｍ１（ＯＲ）_{（３−ｍ０−ｍ１）} （１）
Ｒ^１０_ｍ１０Ｒ^１１_ｍ１１Ｒ^１２_ｍ１２Ｓｉ（ＯＲ^１３）_{（４−ｍ１０−ｍ１１−ｍ１２）} （２） （もっと読む）

【課題】多層レジストプロセスにおいて、有機溶媒現像の場合に、パターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成させることができるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、（１）レジスト下層膜形成用組成物を用い、基板上にレジスト下層膜を形成する工程、（２）フォトレジスト組成物を用い、上記レジスト下層膜上にレジスト膜を形成する工程、（３）上記レジスト膜を露光する工程、及び（４）上記露光されたレジスト膜を、有機溶媒を８０質量％以上含有する現像液を用いて現像する工程を有し、上記レジスト下層膜形成用組成物が、［Ａ］ポリシロキサン鎖を含み、カルボキシル基、酸の作用によりカルボキシル基を生じうる基及び酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有する成分を含有するレジストパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】金属層の下方に配置されたレジストが、種々の要因によって劣化する。
【解決手段】半導体装置形成方法は、基板上に、第１波長の光で感光する下層レジストおよび第１波長と異なる第２波長の光で感光する上層レジストがこの順序で配された加工対象を準備する段階と、第２波長の光によるフォトリソグラフィを用いて、上層レジストにパターンを形成する段階と、上層レジストのパターンを用いて金属層のパターンを形成する段階と、第１波長の光を金属層のパターンに照射して、近接場光を発生させることにより、金属層のパターンよりも微細なパターンを下層レジストに形成する段階と、下層レジストのパターンを基板上に転写する段階とを備える。 （もっと読む）

【課題】ネガ現像において得られる親水性有機化合物で形成されるレジストパターンに適用できるだけでなく、従来のポジ現像で得られる疎水性化合物からなるレジストパターンにも適用できるレジスト下層膜形成用組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：下記繰り返し単位を有するフェノール性水酸基発生可能な重合体、該重合体の加水分解物、及び前記重合体の加水分解縮合物のうち少なくとも一つ以上、及び


（Ｂ）成分：特定の加水分解性ケイ素化合物を含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物を含むものであることを特徴とするケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】ハンプのない半導体装置の製造方法と、半導体装置と、露光装置とを提供する。
【解決手段】被加工膜２の上に下層レジスト膜となる感光性のネガ型のレジスト材料が塗布される。下層レジスト材料膜に露光光を照射することにより酸を発生させる。ベーク処理を施すことによって下層レジスト膜３ｂが形成される。現像処理を施すことにより、架橋した下層レジスト膜３ｂを残して、未架橋の下層レジスト材料膜の部分が除去される。中間層レジスト膜となる感光性のネガ型のレジスト材料を塗布し、同様の露光処理と現像処理を施すことにより、架橋した中間層レジスト膜４ｂを残して、未架橋の中間層レジスト材料膜の部分が除去される。 （もっと読む）

【課題】現像性が良好で、膜減りのない良好な重合硬化膜を形成できる重合性組成物、および現像性及び耐汚れ性が良好で、かつ充分な耐刷性を有する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】（ａ）１分子中に、スルホベタイン構造を少なくとも２つ有し、かつエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する重合性ベタイン化合物、及び（ｂ）重合開始剤を含有する重合性組成物。該重合性組成物を含有する画像形成材料。該重合性組成物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】近接配置される少なくと２つの微細ホールパターンを、ドライエッチング耐性が十分得られる膜厚に形成する。
【解決手段】光酸発生剤を含む第１レジストにスリット状開口部３ａを形成し、第１レジスト上に酸の作用により架橋反応を生じさせる架橋剤を含む第２レジストを形成し、第１レジストのスリット状開口部と交差する開口パターンを備えたマスクを介して露光することで、露光領域に酸を発生させ、第２レジストを架橋させ、架橋した第２レジスト５Ａによりスリット状開口部を少なくとも２つに分断する。 （もっと読む）

【課題】製造効率の向上、ひいてはコスト低減を図ることのできるフォトレジストのパターン形成方法及び同方法を用いたプローブの製造方法、並びに電子デバイス検査用プローブを提供する。
【解決手段】基板上に第１のレジスト材料を積層する下部レジスト層積層工程と、前記下部レジスト層を第１のパターンで露光する第１の露光工程と、第１の露光工程に引き続き、前記下部レジスト層上に、第２のレジスト材料を積層する上部レジスト層積層工程と、前記下部レジスト層を露光するために用いた前記第１のパターンと少なくとも一部が重合する第２のパターンで前記上部レジスト層を露光する第２の露光工程と、不要なレジストを除去して開口部が形成されたレジスト層を形成する現像工程と、を有するフォトレジストのパターン形成方法とした。 （もっと読む）

【課題】ＫｒＦレジストやＡｒＦレジストなどの液体レジストを用いて、中空構造などの複雑な三次元立体構造を有する微細な多層レジストパターンを形成することが出来るレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】第一の化学増幅型レジスト組成物を用いて第一のレジスト膜を形成し、第一のレジスト膜を選択的に露光を施す第一の工程と、第一のレジスト膜上に、第二の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成し、第二のレジスト膜を選択的に露光し、露光後ベーク処理を施す第二の工程と、第一のレジスト膜および前記第二のレジスト膜を現像して多層レジストパターンを形成する工程とを有するレジストパターン形成方法であって、第一の化学増幅型レジスト組成物が、露光によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポジ型レジスト組成物であるレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】支持体に設けられた樹脂基材に対して凸状となることなくパターンを簡便に形成するためのパターン形成方法を提供する。
【解決手段】パターン形成工程において、支持体１上にネガ型の感光性樹脂層１２を形成し、この感光性樹脂層１２上にパターン３を形成し、埋め込み・硬化工程において、感光性樹脂層１２のガラス転移温度以上の温度で熱処理を施してパターン３を感光性樹脂層１２に埋め込み、これと同時に感光性樹脂層１２を硬化させて樹脂基材２とし、これにより、支持体１上に設けられた樹脂基材２に凸状となることなくパターン３を形成する。 （もっと読む）

【課題】孤立スペースパターンやホールパターンを高い解像性で形成できるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体１上に、ポジ型の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成し、該第一のレジスト膜の一部の領域を露光し、露光後ベーク処理を施し、現像して第一のレジストパターンを形成する工程と、前記第一のレジストパターンが形成された前記支持体上に、ネガ型の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜４を形成し、該第二のレジスト膜の、前記第一のレジストパターンが形成された位置を含む領域を露光し、露光後ベーク処理を、前記第一のレジスト膜のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させ且つ前記第二のレジスト膜のアルカリ現像液に対する溶解性を減少させるベーク温度にて施し、現像してレジストパターンを形成する工程とを有することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レーザー光による描画に適し、スクリーン線数２００線以上の高精細ＡＭスクリーン印刷やＦＭスクリーン印刷、特にＦＭスクリーンを使用した中間調の平網ムラの均一性が良好であるとともに、ドットロスを抑制した印刷版を提供できる平版印刷版原版、さらに、一液による現像においても、カス分散性に優れた平版印刷版原版、そして、該平版印刷版原版を用い、一浴現像において、平網ムラとドットロスを抑制した印刷版を作製する方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、ネガ型感光層、露光波長±５０ｎｍの光を吸収可能な、染料及び顔料の少なくもいずれかを含有する保護層、をこの順に有するネガ型の平版印刷版原版を画像様露光した後、一液で現像することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】直描用として新規に開発された感光性乳剤をスクリーン印刷用メッシュに塗布し、直描装置により作製できるようにしたスクリーン印刷用製版を得る。
【解決手段】版枠の内側にスクリーン印刷用メッシュが張設され、スクリーン印刷用メッシュの中央部の印刷領域に直描用感光性乳剤が塗布されたものにおいて、直描用感光性乳剤は、スクリーン印刷用メッシュのスキージ面に塗布された高感度ＳＢＱ系乳剤と、スクリーン印刷用メッシュのプリント面に塗布された高解像性ジアゾ系乳剤と、少なくともプリント面に塗布されて表面保護層を形成するオーバーコート剤とからなる多層構造である。 （もっと読む）

【課題】高精細画像の再現性、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】表面粗さ（Ｒａ）が０．４５〜０．６０である親水性支持体上に、側鎖にアリールスルホンアミド基を有するフェニルアクリルアミド単位を有するポリマーと、フェノール樹脂と、赤外線吸収剤とを含む記録層を備える平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ｐＨ２〜１０の現像液で現像可能であり、耐汚れ性および耐刷性が共に良好で、経時による耐汚れ性の低下が抑制された平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法を提供すること
【解決手段】支持体上に、特定の繰り返し単位を有する重合体を含有する中間層と、画像形成層とをこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版及びこの平版印刷版原版を用いる平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】感光性導体ペースト中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題のない積層チップ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 導体層転写シート２２によれば、感光性導体ペースト１８は転写支持体１２の一面にビヒクル層１０を介して塗着されていることから、所定のパターンの導体層１８を形成するための露光および現像時において、必ずしも十分な露光・現像性能を必要とせず、感光性樹脂、重合開始剤等の樹脂成分である樹脂量の少ない導体ペーストを用いることができる。したがって、感光性導体ペースト１８中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題が生じない。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、形成するホトレジスト膜の特性に関係なく利用できる保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】ホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、（ａ）アルカリ可溶性ポリマー、及び（ｂ）フッ素系溶剤を含有することを特徴とする保護膜形成用材料。本発明の保護膜形成用材料を用いてホトレジスト膜上に保護膜を形成した場合、保護膜形成用材料中に含まれる成分が各種ホトレジスト膜を溶解することがない。このため、ホトレジスト膜の種類に関係なく、液浸露光プロセスを用いて微細で良好なホトレジストパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。
【解決手段】樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋成分と、溶媒とを含み、レジストパターンを微細化するための微細パターン形成用樹脂組成物であって、上記樹脂が下記式（１）で表される繰り返し単位（Ｉ）を含有することを特徴とする。
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【課題】
下層に感光性絶縁ペーストの塗布膜を形成し、上層に感光性導電ペーストの塗布膜を形成した後、露光、現像、焼成を行う方法において、下層の感光性絶縁ペーストの塗布膜が厚くなっても剥がれが生じないパターン形成方法を提供する。
【解決手段】
基板上に無機粉末、感光性ポリマー、感光性モノマーおよび重合開始剤を含み、該無機粉末が絶縁性である感光性絶縁ペーストを塗布して感光性絶縁ペースト塗布膜を形成し、該該感光性絶縁ペースト塗布膜上に無機粉末、感光性ポリマー、感光性モノマーおよび重合開始剤を含み、該無機粉末が導電性である感光性導電ペーストを塗布して感光性導電ペースト塗布膜を形成した後、パターン化された透光部を有するフォトマスクを介して露光し、現像する工程を含むパターン形成方法であって、前記感光性絶縁ペースト中のポリマーと感光性モノマーの含有量の比率が質量比で３／７〜６／４の範囲内、前記感光性導電ペースト中のポリマーと感光性モノマーの含有量の比率が質量比で７／３〜９／１の範囲内であることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、水系現像が可能で、解像度、難燃性、密着性、耐湿性、電気信頼性、取扱い性に優れた感光性ドライフィルムレジスト及びその製造方法、並びにこれらの利用方法を提供することである。
【解決手段】第一感光層がバインダーポリマー、（メタ）アクリル系化合物、光反応開始剤、難燃剤、並びに、染料及び／又は顔料を必須成分として含有し、第二感光層がバインダーポリマー、及び、（メタ）アクリル系化合物を必須成分として含有し、第二感光層は難燃剤と、染料及び／又は顔料とを実質上含有しない少なくとも二層以上の感光性ドライフィルムレジストを用いることにより、上記課題を解決し得る。 （もっと読む）