１つまたは複数の書き込みマシンにおける一連の書き込みサイクルにおいて、ワークピース（２４０４）の複数の層（Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４）をパターニングするための方法。前記ワークピースは、複数のＮ個の層（Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４）を有するように適合され、前記ワークピースの層は、パターン位置についての１つまたは複数の境界状態（単数または複数）を有する。前記方法は、層１〜Ｎの境界状態を決定するステップと、前記境界状態に起因する逸脱を計算するステップと、前記境界状態に起因する逸脱の割り当て部分が付加された前記境界状態に起因する逸脱の補償を計算するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】パターンのエッジのぎざぎざを目立たなくし、またモアレの発生を抑制して、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）は、複数のミラーを直交する二方向に配列して構成されている。描画制御部７１は、露光領域の同じ位置の描画データを、光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ複数回供給し、複数回供給する描画データの一部を、露光領域の隣接する位置の描画データとして、光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給する。光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの一部が露光領域の隣接する位置へずれ、描画されるパターンのエッジがぼやけて、エッジのぎざぎざが目立たなくなる。また、パターンの繰り返し模様の規則性が乱れ、モアレの発生が抑制される。 （もっと読む）

パターン発生器は、書込ツールと校正システムとを有する。書込ツールは、ステージ上に配列されたワークピース上にパターンを発生させるように構成される。校正システムは、書込ツールの座標系と、ステージおよびワークピースのうちの１つ上の校正プレートの座標系との間の相関を決定するように構成される。校正システムはまた、校正プレートの表面上の少なくとも１つの反射パターンから反射した少なくとも１つの光ビーム状の光相関信号、またはパターンに少なくとも部分的に基づき相関を決定するように構成される。
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【課題】 基板に対するパターン形成を迅速且つ正確に行うことができるパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 基板ｗに対してパターン形成を行うパターン形成装置１であって、支持板２と、支持板２を回動する駆動手段８と、支持板２の回動により検出位置Ｄに搬送された基板ｗの位置を検出する基板位置検出手段２０と、支持板２の回動により加工位置Ｐに搬送された基板ｗに対してパターン形成を行う加工手段３０とを備え、支持板２の各装着部４，４は、基板位置検出手段２０の検出に基づいて基板ｗの位置を修正する位置修正手段５を備えており、駆動手段８は、支持板２を正逆両方向に１８０°回動して各装着部４，４が検出位置Ｄと加工位置Ｐとの間で移動するように制御される。 （もっと読む）

【課題】自己放射コントラストデバイスにより発せられる放射がその自己放射コントラストデバイスの過去の強度による影響を受けにくいリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板の目標部分にビームを投影するよう構成されている光学コラムであって、ビームを発するよう構成されている放射源と、目標部分にビームを投影するよう構成されている投影系と、を備える光学コラムと、光学コラム又はその一部を基板に対して移動させるよう構成されているアクチュエータと、放射源に駆動電力を供給するよう構成されている放射源ドライバであって、放射源に供給されるべき駆動電力を、放射源に供給された前回電力に応じて調整するよう構成されているパワー調整コントローラを備える放射源ドライバと、を備える。 （もっと読む）

【目的】１回目のパターニングにネガ型レジストを使用した場合でも２回目の描画の際にレジストに帯電する電荷を除去することが可能なマスクの製造方法を提供する。
【構成】基板上に導電性の遮光膜とネガ型の第１のレジスト膜とを順に形成する工程と、遮光膜の層まで貫通するようにアース部材を切り込ませ、電子ビームを用いて基板上に第１のパターンを描画する工程と、描画後に、基板を現像し、第１のレジストパターンを形成する工程と、第１のレジストパターンをマスクとして、遮光膜をエッチングする工程と、エッチング後の遮光膜上に第２のレジスト膜と帯電防止膜とを順に形成する工程と、第１のパターンを描画する際とは異なる位置に基板の上方側から遮光膜の層まで貫通するようにアース部材を切り込ませ、電子ビームを用いて基板上に第２のパターンを描画する工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上にパターンを効率的に作成できるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】本発明は基板支持体に保持された基板のターゲット部分上にビームを投影できる１つ以上の光学カラムを備えるリソグラフィ装置に関する。１つ以上の光学カラムは、ビームを発光する１つ以上の自発光型コントラストデバイスを備えてもよい。光学カラムは、ターゲット部分上にビームを投影する投影システムを備えてもよい。ターゲット部分は基板のスキャン方向に高さを有し、スキャン方向にほぼ垂直な正接方向の幅を有し、スキャン方向の基板のスキャン速度を前記高さで除した値は光学カラム又はその一部の回転速度をターゲット部分の正接方向の幅で除した値に実質的に対応する。 （もっと読む）

多層スタックの製造における直描書き込みマシン内でのワークピースののパターニング方法。決定された適合公差に従って、接続点のためのパターンを含む第１の回路パターンが、第２の回路パターンの接続点および特定のフィーチャ（例えば、前記ワークピース上または前記ワークピース内にランダム配置されたダイまたはダイ群）の回路パターン（単数または複数）に適合するように、変換される。前記第２の層は、先行して形成された層であってもよいし、あるいは、前記スタックのための同一ワークピース上または異なるワークピース上に後続して形成されるべき層であってもよい。選択されたダイと関連付けられたパターンデータは、調節された回路パターンデータへと変換される。前記変換は、前記回路パターンが前記選択されたダイ（単数または複数）に適合するように、前記変換位置によって規定された変換を用いて行われる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の光学コラムの合焦を基板に維持するよう構成されているリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基板の目標部分にビームを投影するよう構成されている光学コラムを含むリソグラフィ装置が開示される。フォーカスコントローラが基準物体に対して光学コラムの焦点位置９０６、９２０、９２４、９３０を制御するために設けられている。フォーカスコントローラは、基準物体９３８上での焦点品質を決定するよう構成されているフォーカス計測デバイス９４２と、決定された焦点品質に基づいて光学コラムの焦点位置を調整するよう構成されているフォーカスアクチュエータと、を備える。 （もっと読む）

【課題】光学コラムの公差の少なくとも一部を除去しうるリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板の目標部分にパターンを生成可能である光学コラムを備えるリソグラフィ装置に関する。光学コラムには、ビームを発するよう構成されている自己放射コントラストデバイスと、目標部分にビームを投影するよう構成されている投影系と、が設けられていてもよい。本装置には、光学コラム又はその一部を基板に対し移動させるためのアクチュエータが設けられていてもよい。投影系は、移動可能な光学コラム又はその一部に関し、移動可能な光学コラム又はその一部の少なくとも１つのレンズ９３０の位置を調整するための調整可能部材９３６をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】プログラマブルパターニングデバイスを含む柔軟で低コストなリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板の目標部分にパターンを生成可能である光学コラムを備えるリソグラフィ装置に関する。光学コラムには、ビームを発するよう構成されている自己放射コントラストデバイスと、ビームを目標部分に投影するよう構成されている投影系と、が設けられていてもよい。本装置には、光学コラム又はその一部を基板に対して移動させるためのアクチュエータが設けられていてもよい。光学センサデバイスが設けられており、これは光学コラムに対し移動可能であり、光学センサデバイス９３６が光学コラムの各々の投影領域９４０を通るよう移動し光学コラムの各々のビームを測定することを可能とする移動範囲を有する。 （もっと読む）

ダイが載置されたワークピースを直描書き込みマシン内においてパターニングする方法。前記ダイの配置および配向の位置の測定データと、前記書込器座標系に相対する前記ワークピースの配置および配向とを用いて、前記直描書き込みマシンの座標系内に規定された変換位置への前記測定された位置の変換を決定する。選択されたダイまたはダイ群と関連付けられたパターンデータを、調節された回路パターンデータに変換する。前記変換は、前記元々のパターンデータと、前記変換された位置との双方に基づいて行われる。前記調節された回路パターンデータは、前記調節された回路パターンが前記ワークピース領域の複数の小領域に適合するように前記複数のダイまたはダイ群の回路パターンを表す。前記ワークピース上に分配された前記複数のダイ間のダイまたはダイ群と各小領域が関連付けられる。その後、前記調節された回路パターンデータに従って、前記ワークピース上にパターンを書き込む。 （もっと読む）

【課題】光学コラム又はその一部の公差に影響されにくいリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板９２８を保持するよう構成されている基板テーブル９０２と、基板の目標部分にパターンを生成可能である光学コラムと、を備えるリソグラフィ装置に関する。光学コラムは、複数の放射ビームを与えるよう構成されているプログラマブルパターニングデバイスと、複数のビームを基板に投影するよう構成されている投影系と、を備えてもよい。本装置には、光学コラム又はその一部９２４、９３０を基板に対して移動させるためのアクチュエータが設けられていてもよい。光学コラムは、複数のビームのうち少なくとも２つのビームを投影系の複数のレンズのうちある同一のレンズを通じて基板の目標部分に一度に投影するよう構成されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】マスクレス露光装置において、幅方向にも厚さ方向にも窪みのない直線性の良い描画パターンを得るためのマイクロミラーデバイス選別装置を提供する。
【解決手段】マイクロミラーデバイス選別装置において、マイクロミラーデバイス２のマイクロミラー２１に照明光を照射する照明系と、マイクロミラー２１で発生した回折光を撮像素子７９に入射させる光学系と、撮像素子７９で撮像された回折光分布画像を処理し、マイクロミラーデバイス２の良品または不良品の判定を行う処理系９とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 クーロン効果の影響の低減に有利な荷電粒子線装置を実現すること。
【解決手段】 複数の荷電粒子線を生成し、該複数の荷電粒子線の各々に微小フィールドを走査させる荷電粒子線装置であって、上記走査の方向において、上記微小フィールド内のピクセルサイズの偶数倍にならないように、上記微小フィールドのサイズを設定する設定手段を有する、ことを特徴とする荷電粒子線装置とする。 （もっと読む）

【課題】走査速度の低下、露光ピッチの長さ拡張等することなく、高解像度パターンを形成しながらスループットを向上させる。
【解決手段】ラスタデータ変換部は、実際の露光エリアよりもデータサイズの大きい４つの拡大ラスタデータＥＬＡ〜ＥＬＤをブロックとして生成し、時間間隔ＴＭに従って第１、第２バッファメモリへ交互に格納する。一方、アドレス制御回路は、露光ピッチに応じた露光タイミングに合わせて、第１、第２バッファメモリから露光用ラスタデータＥＬＡ１〜ＥＬＤ１を交互に読み出す。このとき、露光エリアＥＡの相対移動に合わせながらブロック毎の露光用ラスタデータ抽出を３回繰り返し、露光用ラスタデータＥＬＡ１〜ＥＬＤ１、ＥＬＡ２〜ＥＬＤ２、ＥＬＡ３〜ＥＬＤ３を、４つの拡大ラスタデータＥＬＡ〜ＥＬＤから順に抽出する。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターンの描画を高速に行う。
【解決手段】光ビーム照射装置２０に、複数のミラーを直交する二方向に配列した複数の空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）と、描画データに基づいて各空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）を駆動する駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）と、各空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）により変調された光ビームを合成して照射する光学系とを設ける。複数の光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃから発生した光ビームを光ビーム照射装置２０へ供給し、描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給し、描画データに基づき、複数の光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃから供給した光ビームを、複数の空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）により変調して、チャック１０に支持された基板１へ照射する。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの歪みが基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。
【解決手段】下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板１の表面を複数の区画に分割し、分割した区画毎に下地パターンの歪みを検出し、検出結果に基づき、分割した区画毎の下地パターンの歪みに応じて、描画データを補正する。基板１をチャック１０に搭載し、チャック１０と、光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】パターンのエッジのぎざぎざを目立たなくして、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０の空間的光変調器２５は、複数のミラーを直交する二方向に配列して構成され、光ビームによる基板１の走査方向に対して傾いて配置される。描画制御部は、光ビーム照射装置２０の空間的光変調器２５の傾きに応じて、描画データの座標を変更する。エッジ修正回路は、描画データの座標を変更する位置を不規則に変動させて、基板１に描画されるパターンのエッジの変化を不規則にする。パターンのエッジが階段状に規則的に変化する場合に比べて、パターンのエッジのぎざぎざが目立たなくなる。パターンのエッジを修正するための描画データを新たに作成する必要が無く、リアルタイムにパターンのエッジが修正される。 （もっと読む）

【課題】光源から供給された光ビームを空間的光変調器により変調して基板にパターンを描画する際に、光源から供給された光ビームの強度の低下を容易に検出して、不良の発生を防止する。
【解決手段】光ビームの強度を検出する検出装置（レーザーパワーメータ５１）をチャック１０に取り付け、光ビームの強度を検査するための検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路２７へ供給し、チャック１０と光ビーム照射装置２０とを相対的に移動して、チャック１０に取り付けた検出装置（レーザーパワーメータ５１）により光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、検出装置（レーザーパワーメータ５１）により検出した光ビームの強度に応じて、光源の出力を調整する。 （もっと読む）