【課題】アブレーション速度に優れ、薄膜でありかつ容易に剥離できるレジスト被膜を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板の上にレジスト被膜を形成する工程と、前記レジスト被膜にレーザー光線を照射してレーザーアブレーションにより前記レジスト被膜の所定部分を除去する工程を含むレジストパターン形成方法であって、前記レジスト被膜を、アルカリ可溶性基がアルキルビニルエーテルを用いてブロックされているモノマー単位を有するビニル系重合体（Ａ）、及び、ニグロシン（Ｂ）を含有するレジスト組成物から形成することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】描画ブロックの描画位置を高精度に調整して描画パターンを下地パターンに一致させながら描画対象物に描画することができるパターン描画方法、描画データ生成方法、ならびにパターン描画装置を提供する。
【解決手段】描画ブロック９１の周囲が非描画領域であることを示すデータが付加された拡張ラスターデータ８１３を形成するとともに、下地パターンとの位置ズレを考慮しながら拡張ラスターデータ８１３から描画ブロック９１を抽出し、当該描画ブロック９１を描画している。これによって、描画パターン９２を下地パターンと高精度に重なり合わせながら基板Ｗに描画パターン９２を描画することが可能となっている。 （もっと読む）

【課題】無端状モールド等に適用し得るＳＯＧの無端状パターンを電子ビーム又はイオンビームの照射により作製する方法の提供。ＳＯＧ無端状モールドを用いる樹脂パターン成形品の製造方法の提供。ＳＯＧ無端状モールド及び光学素子の提供。
【解決手段】本発明のＳＯＧの無端状パターン作製方法は、円周方向において無端のアルミニウム基板上に、ＳＯＧ（Spin-On-Grass）レジスト液膜を付与する工程と、前記ＳＯＧレジスト液膜を有するアルミニウム基板を加熱してＳＯＧレジストを焼成する工程と、前記焼成後、ＳＯＧレジストを有するアルミニウム基板を冷却する工程と、前記冷却後、ＳＯＧレジストを有するアルミニウム基板を回転方向に回転させる工程と、前記基板上のＳＯＧレジストに電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、前記照射により又は前記照射後の現像により、前記ＳＯＧレジストの一部を除去する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】鋭いフィールドエッジおよび最小の光路長差を有するパターンを生成する干渉型リソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】レーザにより発生される空間的かつ時間的にコヒーレントな光ビーム１０２は、ビームスプリッタ１０４に入射する。ビームスプリッタ１０４はビーム１０２を第１および第２のビーム１０６Ａおよび１０６Ｂに分離する。続いて２つのビーム１０６Ａおよび１０６Ｂは、それぞれ基板１１０に向けて第１および第２の反射表面１０８Ａおよび１０８Ｂにより再指向される。干渉パターン１１２は基板１１０の頂部表面に形成される。干渉パターン１１２は書き込み用イメージでフォトレジスト層を露光する。 （もっと読む）

【課題】高い消光比を有する空間光変調器および該空間光変調器を装備して優れた描画品質でパターンを描画することができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】５本の第１電極３３３が電気光学結晶基板３３１の周期分極反転構造内を進む入射光ＬＩの進行方向Ｚと略垂直なＸ方向に互いに離間して電気光学結晶基板３３１の一方主面３３２上に配列されている。各第１電極３３３は電位付与部３３６と電気的に接続されており、電位付与部３３６が第１電極３３３に印加する電圧を制御して第１電極３３３の各々と第２電極３３５間での電界発生を制御し、第１電極３３３ごとに周期分極反転構造内での回折効率を変調する。周期分極反転構造内で生じる回折格子がブラッグ回折の条件を満足するように、各第１電極３３３は電気光学結晶基板３３１に対して傾斜して配置されており、上記制御によりブラッグ回折光ＢＬまたは０次光を出射する。 （もっと読む）

【課題】所望のパターン寸法とパターン精度を実現することが可能な電子銃および荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子源であるカソードと、前記カソードからの荷電粒子ビーム放出方向に順次、前記カソード以下の電位が印加されたウェネルトと、前記カソードより高い電位が印加されたアノードとを配置し、前記荷電粒子ビームを、前記ウェネルトの具備する開口部分を通過させて収束し、クロスオーバを形成するよう構成された電子銃について、前記ウェネルトと前記クロスオーバとの間の距離ｂを、前記カソードと前記ウェネルトとの間の距離であるギャップａにより除して算出される倍率Ｍ（＝ｂ／ａ）が１以下であり、かつ前記ギャップａが０．９ｍｍ以上となるように構成し、荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法で使用する。 （もっと読む）

【課題】ＬＤＩ露光方式を用いて積層基板を製造する際に、積層による位置ずれの累積を抑えて、製品の歩留まりを向上させることができる積層基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板１２を挟んで一方の側のランド部１４と接続するビアホール１５、及び他方の側のランド部１４を形成する。フレキシブル基板等の絶縁基板１２を挟んで、一方のランド部１４に対する他方のランド部１４の、所定の基準位置からのずれ量に対して、前記ずれ量を減少させる方向に、他方のランド部１４の位置を移動させる位置補正を行って、レーザ光による回路パターンの描画を行う。この後、絶縁基板１２を挟んで、一方の側のランド部１４と接続するビアホール１４、及び他方の側のランド部１４を形成する。 （もっと読む）

【課題】より小径かつ小ピッチのナノパターンを形成することができるナノ金型の製造方法の提供。
【解決手段】ナノインプリント法に用いられるナノ金型の製造方法であって、Ａｌ_２Ｏ_３基板２０上に非晶質炭素材料のＤＬＣから成る被エッチング層２１を形成する第１の工程と、集束イオンビーム援用化学気相成長により、被エッチング層２１上に薄膜パターン２２を形成する第２の工程と、薄膜パターン２２をマスクとして、酸素ガスを用いたドライエッチングにより被エッチング層２１をエッチングし、複数のナノ凸パターン２００が形成された成型転写面を形成する第３の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】良品質の露光像を短いタクト時間且つ低コストな装置構成で実現することのできる露光装置及び露光方法を提供すること。
【解決手段】光源装置５と、基板Ｋを載置するステージ３と、ステージに対し等速度で相対移動可能に設けられ且つステージの上部に平面視が相対移動の方向Ｘについて段違いに斜め列となる様に配置され各々ＤＭＤ７２により形成されるマーキング表示７２Ｍをレーザ光により基板上に照射するように構成された複数の露光ユニット７と、隣合う露光ユニットにおける一方の露光ユニットの露光終了位置Ｐ０から他方の露光ユニットの露光開始位置Ｐ１までの距離Ｄ１をステージと露光ユニットとが相対移動する毎に、基板上を最初に通過する露光ユニット７Ａから基板上を最後に通過する露光ユニット７Ｃへ向かう順序で、各露光ユニットが基板上に照射するレーザ光を切り替える切替手段６５，７５とを設ける。 （もっと読む）

【課題】プリント基板毎に異なる識別パターンを含んだ露光パターンを速やかに作成することができる描画装置を提供する。
【解決手段】配線パターンをビットマップ画像に変換する処理と、識別パターンの描画命令から露光に使用するすべての組み合わせの文字もしくは図形をそれぞれビットマップ画像に変換し、配線パターンと識別パターンの解像度の比によって圧縮する処理とを事前に実施しておく。そして、識別パターンの描画命令に従って、圧縮しておいた文字もしくは図形のビットマップ画像を用いて識別パターンのビットマップ画像を生成する処理と、識別パターンのビットマップ画像を伸長する処理と、前記配線パターンのビットマップ画像と前記識別パターンのビットマップ画像とを合成する処理とをプリント基板１枚毎に実施する。 （もっと読む）

【課題】 プリント基板の配線パターンを露光パターンに変換する場合に、より高精度な露光を可能にすること。
【解決手段】 基準アライメントマークＡ１〜Ａ９が格子状に配置されているプリント基板１を露光する場合は、４個の基準アライメントマークで構成される最小の格子を１個の補正領域Ｈ１〜Ｈ４として定め、指定された設計配線パターンを基本図形で構成される第１の配線パターンに分割し、第１の配線パターンのうちで隣接する２つの補正領域に跨るものがある場合は、当該第１の配線パターンをそれぞれの補正領域の境界線上で分割して第２の配線パターンとし、基準アライメントマークＡ１〜Ａ９の設計上の座標値と、計測したアライメントマークＡｈ１〜Ａｈ９の実際の座標値とから、補正領域毎に補正係数を生成して第３の配線パターンを生成し、第３の配線パターンをラスタデータである第１の露光パターンに変換して露光パターンを生成し、プリント基板１を露光する。 （もっと読む）

【課題】複数のラスタ変換処理回路のそれぞれを効率よく動作させることにより露光能率を向上させる。
【解決手段】プリント基板に描画する配線パターンを単位図形データから構成されるベクタデータとして生成し、予め指定した領域単位でプリント基板上の配置座標に基づいてソートして第二のベクタデータを生成する。第二のベクタデータをプリント基板の歪みに応じて補正して第三のベクタデータとし、第三のベクタデータをプリント基板上の配置座標の座標値をもとに単位図形データ毎に振り分けて第四のベクタデータを生成し、処理を行う処理領域を定め、第四のベクタデータに含まれる単位図形データが定めた処理領域に含まれる場合は第五のベクタデータとし、定めた処理領域と他の領域に跨る場合は、前者を分割し第五のベクタデータとし、残りを第六のベクタデータとして予め定めた処理領域内の第五のベクタデータをラスタデータに変換することを繰り返す。 （もっと読む）

【課題】従来技術に比較して簡易な構成で結像スポット径が異なる光ビームを得ることができ、通常露光及び高精細露光の両方の用途に対応できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、光を照射する光源６６と、二次元状に配列された複数のマイクロミラーを駆動して複数の光ビームを生成するミラーデバイス５０と、ミラーデバイス５０で生成された複数の光ビームの各々を集光する集光光学系と、集光光学系で集光された複数の光ビームの各々を感光材料上に結像させる結像光学系８０、８２と、を備えた複数の露光ヘッドを相対移動させて露光する。露光時には、結像スポット径に関し、通常露光の場合には第１の値を設定し、高精細露光の場合には第１の値より小さい第２の値を設定する。集光光学系及び結像光学系の少なくとも一方により結像スポット径が設定値に調整されるように、各部の一部又は全部を駆動制御する。 （もっと読む）

【課題】同じ基板について２種類以上の基準マークの位置を各々検出し、同じ種類の基準マークの検出結果から求めた補正量を、異なる種類の基準マークに適用して補正量を評価することで、同じ傾向を有する誤差を容易に検出して適正な補正を行うことができる、描画装置、プログラム及び描画方法を提供する。
【解決手段】第１基準マークに基づいて得られた第１補正量で第１基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第１ずれ量）を演算し、第２基準マークに基づいて得られた第２補正量で第２基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第２ずれ量）を演算する。第１補正量で第２基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第３ずれ量）を演算し、第２補正量で第１基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第４ずれ量）を演算する。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム・マスク描画装置で使用されるディジタル・アナログ変換／アンプ・テスト・システムを提供するにある。
【解決手段】 電子ビーム・マスク描画装置は、アナログ電圧信号を出力する多数のディジタル・アナログ変換／アンプ回路を含み、各ディジタル・アナログ変換／アンプ回路が第１の出力端子及び第２の出力端子を有し、第１の出力端子が夫々偏向電圧としての出力アナログ電圧を供給する電子ビーム・マスク描画装置の偏向プレートに連結されている。このテスト・システムは、電圧信号を加算し、受け取ったアナログ電圧信号の加算を示す加算信号を出力する加算回路及び前記加算信号をディジタル化し、このディジタル化加算信号をエラー許容値範囲と比較して少なくとも１つの前記ディジタル・アナログ変換／アンプ回路が動作エラーにあるかを検出するアナライザー回路を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】高コスト化を招くことなく、高いスループットで精度良く描画する。
【解決手段】 電子線描画装置は、電子光学鏡筒及び試料室を有する本体部、及び主制御装置２５０などを備えている。主制御装置２５０は、制御装置２５１、回転コントローラ２５２、位置コントローラ２５３、同心円演算処理装置２５４、多角形演算処理装置２５５を有している。そして、多角形演算処理装置２５５は、多角形を描画する際の基板の回転数、描画開始位置、多角形の辺の数、及び走査電極の偏向感度に基づいて、偏向周波数を演算する振幅演算調整回路、偏向周波数と同じ周波数の方形波信号から２次関数波信号を生成する第１の信号処理回路、及び２次関数波信号における基板の半径方向の外向きの偏向成分を折り返し、半径方向の内向きの偏向成分と加算して、同心円生成信号に重畳する第２の信号処理回路を有している。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィ投影露光装置においてマスクを照明するための照明系は、ミラーのアレイ（４６；１２０）又は他のビーム偏向要素（４８）を含む。各々ビーム偏向要素（４８）は、ビーム偏向要素（４８）によって生成される偏向角を変更することによって可変である位置で面上に投影光点（７３ａ，７３ｂ）を生成する。スポット形状測定ユニット（１０６）は、スポット形状測定ユニット（１０６）上にビーム偏向要素（４８）によって生成されるスポットの形状を測定する。スポット形状測定ユニット（１０６）は、アレイ（４６；１２０）とマスク（１６）との間で投影光が辿ることが許される可能な全ての経路の外側に配置される。制御ユニット（５０）は、装置（１０）の露光作動中の所定の瞬間に少なくとも１つのビーム偏向要素（４８）が投影光をスポット形状測定ユニット（１０６）上にのみ誘導し、少なくとも一部のビーム偏向要素（４８）が投影光を面（７１）上にのみ誘導するようにビーム偏向要素（４８）を制御する。 （もっと読む）

【課題】光ビームにより基板を走査して、新たなパターンを下地パターンに合わせて精度良く露光する。
【解決手段】チャック１０に位置検出用マークを設け、チャック１０の位置を検出しながら、ステージによりチャック１０を移動して、各画像取得装置５１によりチャック１０の位置検出用マークの画像を取得し、検出したチャック１０の位置及び画像処理装置５０が検出したチャック１０の位置検出用マークの位置から、各画像取得装置５１の位置ずれを検出して、各移動機構により各画像取得装置５１の位置ずれを修正する。各画像取得装置５１により基板１の下地パターンの位置検出用マークの画像を取得し、画像処理装置５０が検出した基板１の下地パターンの位置検出用マークの位置に応じて、ステージによりチャック１０を移動して、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査する前の基板１の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】焦点距離が等しい光ビームで多重焦点露光を行うことで、高い解像度を維持し且つ深い焦点深度を得ることができる露光ヘッド及び露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、光を照射する光源６６と、二次元状に配列された複数のマイクロミラーを駆動して複数の光ビームを生成するミラーデバイス５０と、ミラーデバイス５０で生成された複数の光ビームの各々を集光する集光光学系と、集光光学系で集光された複数の光ビームの各々を感光材料上に結像させる結像光学系８０、８２と、集光光学系と結像光学系との間の複数の光ビームの光路上に光軸と直交するように配置された厚さの異なる複数の部分を有する平行平板１０と、を備えた複数の露光ヘッドを有する。これら複数の露光ヘッドを感光材料に対して所定方向に相対移動させて、感光材料の略同じ位置を焦点位置の異なる光ビームで重ねて露光する。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置における周期的な画質のむらを低減する。
【解決手段】 絶縁基板の上に形成された感光性材料膜を露光、現像して、あらかじめ定められた基本パターンを前記絶縁基板上の複数箇所に形成する工程を有し、前記感光性材料膜の露光は、露光対象領域を複数の小領域に分割し、小領域毎に露光することで前記露光対象領域全体を露光し、かつ、空間光変調素子を数値制御することで各小領域に照射する光のパターンを生成する直描露光装置を用いて行う表示装置の製造方法であって、前記感光性材料膜の露光は、前記複数箇所に形成される前記基本パターンの寸法の変動量が０．２μｍ以下になるように、前記空間光変調素子で生成される前記光のパターンの光量分布を補正した前記直描露光装置を用いて行う表示装置の製造方法。 （もっと読む）