【課題】光源から供給された光ビームを空間的光変調器により変調して基板にパターンを描画する際に、光源から供給された光ビームの強度の低下を容易に検出して、不良の発生を防止する。
【解決手段】光ビームの強度を検出する検出装置（レーザーパワーメータ５１）をチャック１０に取り付け、光ビームの強度を検査するための検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路２７へ供給し、チャック１０と光ビーム照射装置２０とを相対的に移動して、チャック１０に取り付けた検出装置（レーザーパワーメータ５１）により光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、検出装置（レーザーパワーメータ５１）により検出した光ビームの強度に応じて、光源の出力を調整する。 （もっと読む）

【課題】レジスト層の下に導電化層を形成してレジスト層にパターンを描画する際の電子線の散乱を低減することにより、パターンの高さ不良やパターン幅のばらつきを低減し、以ってより微細なパターン形状を精度よく形成可能なスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンへのドーパントのドープ又はポリシリコンの成膜により基板上に導電化層を形成する導電化層形成工程と、前記導電化層上にレジスト層を形成して電子線により描画し、前記導電化層の表面が凹部に露出するレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記導電化層を電流シード層として電鋳により前記レジストパターン上に金属めっき層を形成する電鋳工程とを備え、前記基板、導電化層及びレジストパターンを除去して前記金属めっき層をスタンパとする。 （もっと読む）

【目的】より短時間で基板を配置する配置室の温度調整が可能な描画装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、基板１０１を配置して電子ビームを用いて基板にパターンを描画する描画室１０３と、自身の温度変化を測定する温度センサ内蔵基板１０を用いて、描画室１０３が平衡温度に保持されている状態で温度センサ内蔵基板１０が搬入され、温度センサ内蔵基板１０で測定される温度が描画室内で平衡状態になる前に温度センサ内蔵基板１０が搬出されるように、温度センサ内蔵基板１０を描画室１０３に搬送する搬送系と、温度センサ内蔵基板で測定された温度変化のデータを用いて、描画室の平衡温度を演算する制御計算機１１０と、演算された平衡温度に基づいて、描画室１０３の温度を制御する温度制御回路１１８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】サーボエリアおよびデータエリアの微細パターンの描画が基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に実行でき、一定ドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。
【解決手段】レジストが塗布された基板上に、電子ビームＥＢの照射をブランキング手段２４に対するオン・オフ信号によって制御し、ビーム偏向動作を偏向手段２２に対する偏向信号の出力によって制御し、サーボエレメント１３およびグルーブパターン１６またはドットパターンを走査して描画する際に、パターン形状を描画するためのパターン形状偏向信号に加えて、ビームスポットの周方向の相対線速度を調整する相対線速度偏向信号を偏向手段に出力し、サーボエリアでの相対線速度＞基板線速度＞データエリアでの相対線速度に設定して描画する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大型サイズの円筒表面に、直接ナノメートル大きさのパターンを大面積で刻むための円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置に関する。
【解決手段】本発明は、磁気浮上原理で円筒を浮上し、非接触で回転及び軸方向に移送しながら円筒表面に直接ナノメートル大きさのパターンを刻むことができる新しい形態のステージと、円筒表面に光を照射する光源とを具現することにより、ナノメートル大きさの誤差で位置を能動制御できるなど、機械加工による誤差及び外乱を実時間的に補正することができて、結局、大型サイズの円筒表面にナノメートル大きさのパターンを効率的に加工できると共に、ステージと組み合わされ、光源と円筒表面との間を、部分的に真空環境が保持されるようにする差動真空手段を具現することにより、Ｘ線や電子ビーム、極紫外線(EUV)のような光源を適用することができる円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】光ビームにより基板にパターンを描画する際、露光量を均一にして、パターンの描画を精度良く行う。
【解決手段】露光パターン解析装置８０の光量データメモリ８２は、予め、光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの光量を、所定の面積の露光領域毎に記憶する。描画制御部７１は、光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ描画データを供給する。露光カウンタ８５は、チャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な位置、及び光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給される描画データから、光ビームの照射回数を所定の面積の露光領域毎に数える。演算回路８７は、予め記憶した光ビームの光量と、光ビームの照射回数とから、所定の面積の露光領域毎に露光量を算出する。露光パターン解析装置８０は、算出した露光量に基づいて、露光量を補正する。 （もっと読む）

【課題】ロールを被覆するレジスト層上で隣接する露光マークの露光開始点を正確に制御し２次元的に自在な配置に大面積の露光パターンを作製可能な露光装置及び露光方法を提供することを目的の一とする。
【解決手段】レジスト層がロール表面を被覆してなるロール状の部材にレーザー光でパルス露光してレジスト層に複数の露光部からなる露光パターンを形成する露光装置において、ロール状部材をロールの中心を軸に回転させる回転制御部と、ロール状部材の回転方向における露光パターンをロール状部材の回転と同期した基準信号に基づいて制御し、ロール状部材の回転方向と垂直なロール長手方向に露光を繰り返す露光部とを設ける。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる投影装置を提供する。
【解決手段】投影装置は、第１面からの露光光を第２面に照射して第１面の像を第２面に投影する。投影装置は、第１面に沿って並設され、それぞれ第１面の一部の像を第２面に形成可能な第１及び第２の投影光学系と、第１及び第２の投影光学系に対応して配置され、露光光の光路の外側から第１及び第２の投影光学系に検出光を導入する第１光学系と、第１及び第２の投影光学系に対応して配置され、検出光が第２面を経由しないように第１及び第２の投影光学系から検出光を導出する第２光学系と、検出面を有し、第２光学系が導出し、検出面に入射する複数の前記検出光を検出する検出装置とを備える。 （もっと読む）

【目的】荷電粒子ビーム描画技術を使って、断面形状がなだらかな曲線或いは傾斜した線で構成されるような凹凸面となるパターンが形成されたナノインプリント用のテンプレートを製造する方法を提供することを目的とする。
【構成】ナノインプリント用のテンプレートの製造方法は、電子ビーム２００を用いて、レジスト膜にパターン寸法を変更しながら多重描画する工程（Ｓ１０４）と、パターン寸法を変更しながら多重描画されたレジスト膜を現像する工程（Ｓ１０６）と、現像された結果得られたレジストパターンを用いて、テンプレートの型を形成する工程（Ｓ１０８）と、形成された型に、樹脂を充填する工程（Ｓ１１６）と、充填された樹脂を硬化させた後に、型を外す工程（Ｓ１１８）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する際に、光ビームにより描画されるパターンの走査毎のずれを抑制して、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０と光ビーム照射装置２０とを相対的に移動しながら、描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路２７へ供給する。チャック１０に設けられた受光手段（ＣＣＤカメラ５１）により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、受光した光ビームから、予め、光ビームにより描画されるパターン２の走査毎のずれを検出し、検出結果に基づき、描画データの座標を補正する。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークを複数のマークの集合体から構成した場合にも、アライメントマークの正確な基準点を算出することができる、マーク認識装置を提供する。
【解決手段】アライメントマークが形成された基板を撮像し、撮像画像を取得する。次に、テンプレートマッチングにより撮像画像から個々のマークを検出する。次に、投票空間を利用して投票により仮重心の位置を決定する。次に、仮重心の決定に寄与した検出マークＭを抽出する。次に、検出マーク群の各マークに対応するモデルのマークを抽出する。次に、検出マーク群の重心と抽出したモデルマーク群の重心とを一致させる。次に、最小二乗法によりモデルマーク群の回転角度ｔ及び拡縮係数ｋの最適値を算出する。次に、姿勢を調整した後のモデルマーク群の重心Ｇの位置座標を「真の重心」の位置座標として算出する。 （もっと読む）

【課題】パターンのエッジを滑らかに描画して、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０を、光ビームによる基板１の走査方向に複数設け、走査方向の各光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）を、走査方向に対して互いに異なる角度に傾けて配置し、基板１に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０の内の１つ又は２つ以上を用いて、パターンのエッジを描画する。パターンのエッジを構成する線の角度が、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０のいずれの空間的光変調器（ＤＭＤ２５）の角度とも大きく異なるときは、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０を用いてパターンのエッジを描画すると、互いに異なった傾きの光ビーム照射領域が重なり合って、１つの光ビーム照射装置２０だけを用いるときよりもパターンのエッジが滑らかに描画される。 （もっと読む）

【課題】画像形成装置に露光装置を挿入しながら露光装置の位置決めをする。
【解決手段】装置本体４０のフレームのうち、画像露光装置５が挿入される空間のＹ（＋）側およびＹ（−）側にあるフレームには、板金等で形成された２つのガイド８９がそれぞれ固定されている。第１支持ピン７１の長手方向の両端突出部は、画像露光装置５の挿入時において、各ガイド８９の下側（Ｚ（−）側）の表面に接触しながらＸ（−）方向に移動する。このため画像露光装置５の筐体５０は、第１支持ピン７１がガイド８９の下側面よりも上側（Ｚ（＋）側）に上昇しないようにガイド８９によって下方向（Ｚ（−）方向）に押さえつけられた状態で、画像形成装置１に挿入される。画像形成装置１への画像露光装置５の固定は、位置決め突起６８を支持板８０に設けられた挿入溝に挿入した後、第１支持ピン７１を固定し、第２支持ピン７５を固定するという順序で行われる。 （もっと読む）

本発明は、対象物上に配置された感光層において露光された構造を作り出すための露光システムに関し、該露光システムは、対象物を受容する対象物キャリアと露光装置とを備え、対象物キャリア及び露光装置は相互に変位可能であり、露光装置から出る露光ビームの各々によって露光ユニットが露光スポットを感光層上に形成可能となるように、露光装置は露光スポットを制御された位置で感光層上に形成することができる。本発明の提案によれば、一連の第１露光ビームを発生させる少なくとも一つの第１露光ユニット及び一連の第２露光ビームを発生させる少なくとも一つの第２露光ユニットが、少なくとも一つの偏向要素に関連付けられ、その第１露光ビーム又は第２露光ビームは、変位中に同偏向要素によって偏向可能であり、第１露光ビームに対する反射領域及び第２露光ビームに対する反射領域が、連続方向にて相互にオフセットして偏向要素に配置される。
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フレキソ印刷要素を熱現像して表面上にレリーフ像を形成する装置、及び前記フレキソ印刷要素を現像する方法。前記方法は、フレキソ印刷要素の画像形成及び露光表面上の架橋フォトポリマーを軟化又は溶融させることを含む。前記装置は、フレキソ印刷要素の画像形成表面と接触し、且つ前記フレキソ印刷要素の画像形成表面上を移動して、前記フレキソ印刷要素の画像形成及び露光表面上の軟化又は溶融した非架橋フォトポリマーを除去するロールを含む。前記非架橋フォトポリマーは、フレキソ印刷要素の画像形成表面に隣接するヒータを用いて、又は前記印刷要素の表面と接触する１つのロールを加熱することによって軟化又は溶融する。任意で、前記装置は、熱現像前にフレキソ印刷要素の画像形成表面を硬化させる装置である。 （もっと読む）

【課題】 加工対象物に、複数の加工跡がランダムに形成されるようにする。
【解決手段】 加工対象物ＯＢをセットしたテーブル２１を回転させるとともに、加工ヘッド３０から出射されたレーザ光により加工対象物ＯＢに形成されたレーザスポットを、テーブル２１に対して相対的にテーブル２１の半径方向に移動させた状態で、レーザ光源３１からパルス列状の加工用レーザ光が出射されるようにレーザ光源３１を駆動して、加工対象物ＯＢに、テーブル２１の半径方向に沿うとともに、テーブル２１の回転方向に沿った複数の加工跡を形成する。そして、テーブル２１の半径方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔、テーブル２１の回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔、及び形成される複数の加工跡の大きさのうちの少なくとも１つの要素を、ランダムに変化させる。 （もっと読む）

【課題】基板が変形した場合において、描画データで想定している基板の形状と実際の基板の形状とのずれを低減して、より実際の基板の形状に合った描画を可能にする。
【解決手段】描画データ補正方法は、描画領域を規定する位置座標と、描画領域に設けられた基準点の位置を示す基準位置座標と、を有する描画データを準備すること（ステップＳ１２）と、被描画体の位置座標の変位態様を求めること（ステップＳ１４）と、被描画体の位置座標の変位態様に基づいて基準位置座標を補正すること（ステップＳ１５）と、補正後の基準位置座標に基づいて、描画領域の形状を維持したまま描画領域の位置座標を補正すること（ステップＳ１６）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの位置ずれ量が基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。
【解決手段】下地パターンの基板１内での位置を、基板１全体に渡って検出し、検出した下地パターンの基板１内での位置に応じて、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する描画データを作成する。基板１をチャックに搭載し、チャック１０と、光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターンを形成することができるレーザーを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、基材上に形成した無機粉末を含む塗膜に対し、パターンを描画するレーザー照射と同時にそのレーザー照射部を冷却する冷却工程と、前記パターン以外の部分を除去する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 マスクレス露光を利用して櫛歯形状の画素電極を形成する液晶表示装置の製造方法において、当該画素電極の歯に相当する部分の端の形状不良を低減する。
【解決手段】 描画データを用いた数値制御により露光パターンを生成する空間光変調素子を備える露光装置で前記感光性レジストを露光する工程を有する液晶表示パネルの製造方法であって、当該工程は、一度に露光可能な領域を露光対象領域の第１の方向に移動させながら露光する第１の動作と、前記一度に露光可能な領域を前記第１の方向と直交する方向に移動させる第２の動作とを繰り返して前記露光対象領域全体を露光し、前記描画データは、前記露光対象領域のうちの光を照射する領域の位置と露光量とが指定された数値データであり、前記描画データのうちの前記露光量は、前記感光性レジストを感光させるのに必要十分な標準露光量、または当該標準露光量よりも多い露光量のいずれかが指定される。 （もっと読む）