【課題】高速移動時においてもステージの位置精度を向上する。
【解決手段】パターン描画装置１では、ステージ移動機構２が、定盤１１の定盤面１２に平行に伸びるとともにそれぞれの先端部がステージ３に接続される第１シャフト２１１および第２シャフト２２１、第１シャフト２１１および第２シャフト２２１を進退させる第１シャフト進退機構２１２および第２シャフト進退機構２２２、並びに、第１シャフト進退機構２１２を回動するシャフト回動機構２３を備える。これにより、複数のリニアガイドや支持台が上下方向に積み重ねられたステージ移動機構に比べて、ステージ移動機構２の重心を低くすることができる。その結果、ステージ３の高速移動時においても、ステージ３のピッチングを防止してステージ３の移動制御における位置精度を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】 基板上にすでに配置されている、サブ半導体チップの電極パッドを検出して生成した電極接続データで描画処理を行う技術を提供する。
【解決手段】 パターン描画装置１００の光学ヘッド部５０に対して相対移動する基板Ｗを光学ヘッド部５０により直接露光する直接露光方法で、アライメントカメラ６０で基板Ｗをモニターし基板Ｗの電極パッドの位置を検出し、パターン描画装置１００に入力された配線パターンデータと、電極パッドの検出位置からパターン描画装置１００内の制御部７０が、電極接続データを生成する。生成された電極接続データで光学ヘッド部５０が、移動する基板Ｗを電極接続データに基づいて直接露光することで電極パッドの位置がずれていても配線パターンを正確に描画することができる。 （もっと読む）

【課題】高さ方向の長さが底辺の長さの２倍よりも大きくかつ４５度の角度をもつ平行四辺形について端部に小図形を残さないようにする。さらに、分割される図形数をより少なくする。
【解決手段】描画装置１００は、高さ方向の長さが底辺の長さの２倍よりも大きくかつ４５度の角度を有する第１の平行四辺形について、底辺の長さを分割長さとし、高さ方向と平行する上下両方向から平行四辺形を残りの分割方向長さが底辺の長さよりも短くなるまで分割長さで分割するｙ方向分割部１１６と、底辺の長さで分割されて新たに形成された複数の第２の平行四辺形をそれぞれ２つの直角２等辺三角形に分割するｘ方向分割部１１４と、新たに形成された複数の直角２等辺三角形になるように荷電粒子ビームを可変成形して、成形された荷電粒子ビームを用いて、第１の平行四辺形を試料に描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】駆動回路３５３の発熱量変化に依らず、光変調素子３５２周囲の雰囲気温度を安定させることで、光路変化を抑制して、光変調を適切に実行できる技術を提供する。
【解決手段】光変調素子３５２や駆動回路３５３が配置された基板３５１に、発熱部３５４bを配置して、この発熱部３５４bにより光変調素子３５２周囲を加熱可能に構成する。駆動回路３５３の発熱量が減少したときには、これに応じて発熱部３５４bの発熱量が増大する一方、駆動回路３５３の発熱量が増大したときには、これに応じて発熱部３５４bの発熱量が減少する。つまり、駆動回路３５３の発熱量の変動傾向に対して反対の傾向で、発熱部３５４bの発熱量を増減させることで、光変調素子３５２周囲の雰囲気温度をある程度の範囲内に維持して、当該雰囲気温度を安定させている。 （もっと読む）

【目的】多重描画する場合の描画時間の低減を図ることを目的とする。
【構成】本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画装置は、試料を載置し、描画の際に連続移動するＸＹステージ１０５と、多重描画する際の第１回目の描画用にＳＦ分割し、第２回目の描画用として改めてＳＦ領域に分割するＳＦ分割部１１２と、少なくともステージの移動方向と直交する方向に並ぶ複数のサブフィールド領域で構成されるサブフィールド領域群単位で第１回目の描画と第２回目の描画とを交互に繰り返すように描画動作を制御する順序制御部１１４と、ステージが所定の方向に連続移動している状態で、荷電粒子ビームを用いて、サブフィールド領域群単位で第１回目の描画と第２回目の描画とを交互に繰り返す描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】緩く傾斜する傾斜形状を有する微細構造体を良好に製造する方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂へレーザ光を照射して微細構造体を得る微細構造体の製造方法であって、基板に感光性樹脂を塗布する塗布工程と、感光性樹脂に照射するレーザ光の光量を設定する光量設定工程と、感光性樹脂に、前記設定した光量に応じて、レーザ光の光量を変調させつつスキャニングする露光工程と、露光された前記基板を現像する現像工程と、を備える。製造する微細構造体は、角度が１０度以下の傾斜形状を含む。感光性樹脂は、感光性樹脂を感光、現像した後のレジスト残膜量と露光量とを対応づけたレジスト感度曲線のうち、レジスト残膜量の上限値の３０％から７０％までの範囲において、レジスト感度曲線の傾きが０．２８（μｍ／ｍＷ）より小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、各光ビーム照射領域の各ミラーの描画中心点位置をデジタル値に変換する際に、周期的な偏りが生じないよう分散させて、均一に近い露光量で基板全面に亘って描画することができる露光装置または露光方法或いは前記露光装置または露光方法を適用し、高画質な表示用パネルを製造できる表示用パネル製造装置または表示用パネル製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器により描画データに基づいてフォトレジストが塗布された基板に光ビームを照射して描画する光ビーム照射装置と前記基板とを相対的に走査し、前記走査の位置をデジタル的に検出して行う際に、前記基板に描画する一定の描画領域内の露光量が均一に近づくように前記一定の描画領域内の前記各ミラーの描画中心点位置を分散させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイをより使いやすくするシステム及び方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイを較正するために使用される装置及び方法。較正ユニットは、変調された放射ビームを基板に投影する投影系に変調放射ビームが入射する第１状態と、変調された放射ビームの一部が較正ユニットにより検査される第２状態とを切り替えることができる。較正ユニットは、変調された放射ビームの検査結果に基づいて較正データを生成または更新する。アレイコントローラは、個別制御可能素子アレイの素子に制御信号を供給するために較正データを使用する。これらの素子はその制御信号に応答するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】分割露光のオーバラップ部分において、分割露光した場合の相反則不軌を補償できるダイレクト露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】複数のマイクロミラーを有するデジタルマイクロミラーデバイスと、光を照射する光源部と、前記デジタルマイクロミラーデバイスを主走査方向及び前記主走査方向と交差する副走査方向に移動させる走査部と、前記各マイクロミラーを操作して、前記被露光面にパターンを露光する画像制御部と、前記光源部、前記走査部、前記画像制御部を制御するシステム制御部と、を備え、前記システム制御部は、前記デジタルマイクロミラーデバイスの前記主走査方向に沿った走査で被露光面の同一箇所を複数回にわたって走査して分割露光する場合に、前記分割露光の各走査ごとに、あらかじめ記憶させた分割露光に起因する相反則不軌を補償する露光条件で露光を行うように、前記光源部、前記走査部、前記画像制御部を制御する。 （もっと読む）

【課題】複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器を用い、多重露光を行って基板にパターンを描画する際、多量の描画データを空間的光変調器の駆動回路へ高速に供給する。
【解決手段】多重露光を行って基板１にパターンを描画する際、描画データを、光ビームによる基板１の走査方向と直交する方向において、光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）の隣接するミラー２５ａの中心点間の距離に応じた等間隔の座標毎に分けて、等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２に記憶し、光ビームによる基板１の走査に伴い、描画データを等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２から読み出して光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給する。 （もっと読む）

【課題】基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送手段２０と、被処理基板Ｇに対する露光処理空間を形成するチャンバ８と、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子Ｌを有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段３０と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光ビーム方式において発生する被描画体の描画パターンの変形を簡単な方法で、短時間で補正できる露光装置及び露光方法を提供する、あるいは、本発明の露光装置または露光方法を用いることでスループットの高い表示用パネル基板製造装置または表示用パネル基板製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、光ビームを光ビーム照射装置で照射し、前記基板へ描画する描画データを作成し、前記基板にパターンを描画するに際し、前記基板に設けられた複数のアライメントマークを撮像し、前記描画データの作成は、前記描画する描画点に対応して前記複数のアライメントマークで結ぶ辺に対して予め規定される前記描画点の座標比率に基づいて前記描画点の位置を決め、前記描画データを作成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子ビーム描画装置の描画方法及び電子ビーム描画装置に関し、ビーム漏れとビームプロファイルのすそ野（レジスト中に蓄積するエネルギーのすそ野を含む）によるパターン寸法への影響を照射時間で補正することにより、より高精度の描画方法を提供することを目的としている。
【解決手段】ビーム漏れ、ビームプロファイルのすそ野を含んだ近接効果補正では、入射エネルギーと解像しきい値の関係を表わす係数に基づいた入射エネルギーと、後方散乱による蓄積エネルギーと、ビームオフ時に発生するビーム漏れによる蓄積エネルギーと、ビームオン時に発生するビーム漏れによる蓄積エネルギーと、ビームプロファイルのすそ野による蓄積エネルギーの和が一定となるように、ビーム漏れ、ビームプロファイルのすそ野補正を含んだ近接効果補正による補正量Ｓｍｏｄを求める、ように構成する。 （もっと読む）

【課題】光寿命が向上した露光ヘッドを提供する。
【解決手段】有機電界発光素子６０Ｂで構成された発光部６０Ａと、発光部６０Ａからの発光を光入射面から入射すると共に光出射面から出射して予め定められた位置に結像させる結像部と、を備え、有機電界発光素子６０Ｂとして、陽極層６２と、陰極層６４と、陽極層６２及び陰極層６４の間に配された発光層６３と、陰極層６４の側面及び発光層６３側とは反対側の面を覆って配された金属層６５であって、一部又は全部が露出して配された金属層６５と、の積層体で構成させる。そして、陰極層６４は、アルカリ金属及びアルカリ土類金属に属する元素の少なくとも１種を含んで構成されている。 （もっと読む）

【課題】描画速度の高速化とメインテナンス性の向上が図られた荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】内部を真空雰囲気に保持可能な真空容器１１５と、真空容器１１５の一端に設けられ、荷電粒子を発生させる荷電粒子線源１１６と、真空容器内に設けられ、荷電粒子線源１１６で発生する荷電粒子の軌道を制御する偏向電極１３２と、真空容器外に設けられ、真空容器に対し着脱可能で、偏向電極に電圧を印加する偏向アンプと、真空容器外に設けられ、偏向電極と偏向アンプを電気的に接続するための接続部と、着脱時に偏向アンプを支持し、偏向アンプの着脱を容易にするガイド部と、を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 （もっと読む）

【課題】描画処理が一時的に停止した場合に、ステージを移動して電子ビーム漏れによる試料への影響を低減することのできる電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム描画装置は、描画制御部１１２からのショット開始指示にしたがって、ショットデータ生成部１１１から供給されるショットデータの描画を行う偏向制御部１１３と、ショットデータ生成部１１１から偏向制御部１１３へのショットデータの送信が途切れた場合に、偏向制御部１１３からショット中断信号を受け取る試料面外退避制御部１１５と、描画制御部１１２からの指示を試料面外退避制御部１１５へ転送し、試料面外退避制御部１１５の指示にしたがってステージ１０２を移動させるステージ制御部１１４とを有する。 （もっと読む）

【課題】オペレータの負担を軽減する。
【解決手段】可動ステージ１０ａ２ａ上に載置された上面にレジストが塗布された試料Ｍに対し、主偏向器１０ａ１ｅおよび副偏向器１０ａ１ｆによって偏向された荷電粒子銃１０ａ１ａからの荷電粒子ビーム１０ａ１ｂを照射することにより、複数のパターンを試料Ｍの描画領域ＤＡに描画する荷電粒子ビーム描画装置１０において、スループット重視が選択された場合に、描画パラメータ準備部１０ｂ１ｂによって１通りのストライプ多重描画の多重回数Ｎおよびサブフィールド多重描画の多重回数ｎの組み合わせを決定し、描画精度重視が選択された場合に、描画パラメータ準備部１０ｂ１ｂによって１通りのストライプ多重描画の多重回数Ｎおよびサブフィールド多重描画の多重回数ｎの組み合わせを決定する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡による観察が可能な材料で構成されたレジスト層支持材３４と描画領域ＥＡにおいてレジスト層支持材３４を被覆し、且つ、内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２の少なくとも一部においてレジスト層支持材３４を被覆しないようにレジスト層支持材３４の上に形成されたレジスト層３６とを備える被加工体３０を用意し、レジスト層支持材３４におけるレジスト層３６から露出する部分を走査型電子顕微鏡により観察しこの観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】スループットを向上させる。
【解決手段】試料Mに荷電粒子ビーム10a1bを照射することによりパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置10において、処理部10b1g3内の演算部10b1g3c1,10b1g3c2,…およびメモリ10b1g3dに余裕がある時に、処理部10b1g3内のデーモン10b1g3aによって、余っている演算部10b1g3c7およびメモリ10b1g3dを用いて次のプロセスを追加起動可能である旨を描画制御ユニット10b1g1に報告すると共に、描画制御ユニット10b1g1からの起動要求に基づいて次のプロセスを先行して起動させ、処理部10b1g3内の演算部10b1g3c1,10b1g3c2,…およびメモリ10b1g3dが不足するおそれがある時に描画制御ユニット10b1g1からの次のプロセスの起動要求があった場合に、処理部10b1g3内のデーモン10b1g3aによって次のプロセスの起動を拒否する。 （もっと読む）

【課題】優れたスループットを実現できる導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面および第２の波面を有する基体と、第１の波面上に形成された導電層とを備える。導電層は、導電パターン部を形成し、第１の波面および第２の波面が、０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）