【課題】リアルタイムで高速にラスタデータへ変換できる露光装置を提供する。
【解決手段】重複するデータを削除したベクタデータを格納するベクタデータメモリ１と、シーケンス制御命令に基づき、前記ベクタデータメモリに格納されたベクタデータから所望のベクタデータ情報を読み出すシーケンス制御手段４と、前記シーケンス制御手段にて読み出したベクタデータ情報をラスタデータに変換する座標演算手段５と、前記座標演算手段により変換されたラスタデータに基づき露光するドライバ１１と、を備える露光装置である。 （もっと読む）

【課題】音響光学変調器で変調される１または複数の光源アレイによるダイレクトイメージングシステムを提供する。
【解決手段】ダイレクトイメージングシステムは、複数本のビームを放射するように構成される複数の光源を有する照明ユニット１００と、複数本のビームを整形して位置または角度をそろえる光学系６０と、位置または角度の一方がそろった複数本のビームを受けるとともに、音響波が音響方向に伝搬する際に、複数本のビームの異なる部分を連続して回折させるように位置決めされる音響光学変調器７０と、音響光学変調器で変調された複数本のビームを用いて、ある走査速度で露光面を走査するように構成される走査素子８０とを備え、走査速度は、複数本のビームの上記異なる部分を非コヒーレントに一体化して単一の露光スポットを得るように選択される。 （もっと読む）

【課題】単一パス高解像度高速印刷用途に使用されることが可能な高信頼でしかも高出力である画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系１３０Ｅは、画像形成面１６２Ｅから湿し溶液を気化するに足るエネルギーを有するライン画像を発生するために、１つまたは複数の円柱／非円柱レンズ１３４Ｅにより全屈折配置に形成される、または円柱／非円柱レンズおよびミラーの組合せによって形成される工程方向サブ光学系１３７Ｅを含む。また、本アナモルフィック光学系は、変調光場１１９Ｂを工程横断方向に画像化するために１つまたは複数の円柱／非円柱レンズ１３８Ｅおよび任意選択の円柱／非円柱視野レンズにより形成される工程横断方向サブ光学系１３３Ｅも含む。本アナモルフィック投影光学系は、ライン画像の複数のピクセル画像の同時的発生を容易にし、１２００ｄｐｉ以上での印刷を容易にする。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム露光に伴う周期的なスジムラを低減する。
【解決手段】所定の走査線間隔で記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域の周囲領域である第１領域に対しては、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用いたインターレース露光をＮ×ｍ回（ｍは２以上の整数）繰り返し行うことで各走査線をｍ回露光し、前記第１領域の外側である第２領域に対しては、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いたノンインターレース露光を行うマルチビーム露光走査方法によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】回転する試料にビームを照射してパターンデータを露光する技術において、偏向による収差なく良好な長い直線が得ること。
【解決手段】円周位置補正信号生成手段（２７）は、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する。半径位置補正信号生成手段（２９）は、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する。 （もっと読む）

【課題】高い位置分解能にてパターンを描画する場合において、光軸方向における描画面の位置の許容範囲の減少を抑制する。
【解決手段】１組の固定リボンと可動リボンとの組み合わせである格子要素５を配列した回折格子型の空間光変調器にて空間変調された光を生成し、格子要素５の配列方向に垂直な方向に基板を移動することにより基板上にパターンを描画するパターン描画装置において、格子要素５が、可動反射面を経由する光路と固定反射面を経由する光路との光路長差が光の波長の０倍以上の整数倍に半波長を加えた長さとなるＯＦＦ状態、光路長差が光の波長の上記整数倍となるＯＮ状態、ＯＮ状態とＯＦＦ状態との間の中間状態、および、中間状態とＯＮ状態との間の不完全ＯＮ状態になることが可能である。パターンの描画時には、ＯＦＦ状態、中間状態および不完全ＯＮ状態の格子要素５がこの順で並ぶ。 （もっと読む）

【課題】ワークピース上に正確かつ迅速にナノメートル構造パターンを形成する。
【解決手段】複合プラットフォームはベースに据えられ、長ストローク移動ステージ１２と、圧電被駆動マイクロ・ステージ１３とを有する。長ストローク移動ステージは基準セット１４と、駆動装置１５とを有し圧電被駆動マイクロ・ステージは長ストローク移動ステージに接続され、作業プラットフォームを有する。測定フィードバック組立体２０はプラットフォーム組立体１０に堅固に据え付けられ、レーザ干渉計と、反射装置と、信号受信装置とを有する。レーザ作業組立体３０は、プラットフォーム組立体に据えられ、測定フィードバック組立体に電気的に接続され、レーザ直接書き込みヘッド３１と、制御インタフェース装置と、位置決めインタフェース装置３３とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板露光時、偏心発生を最小化することができるとともに、基板製品毎の変形量を予測して、適切な露光領域分割数を予め適用して露光することができる露光システム及び露光方法を提供する。
【解決手段】本発明による露光システム１００は、基板１２０に形成された整列マーク１２０ａを検出するための検出部１３０と、基板１２０に配置される基準露光マスクに関する基準座標データ及び基板変形量毎にマッチされる露光領域分割数が保存されている保存部１６０と、検出部１３０により検出された整列マーク１２０ａに関する実際座標データを算出し、前記算出された実際座標データと前記基準座標データとを比較して基板変形量を演算し、前記基板変形量とマッチされる露光領域分割数を保存部１６０から抽出して、前記露光領域分割数だけ分割された露光マスクを生成する制御部１５０と、制御部１５０により生成された露光マスクを利用して露光を行う露光部１４０と、を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高解像度、高精度のレーザー露光装置による継ぎ目のないシームレスなシリンダータイプのホログラム版の製造方法、製造装置を提供することを課題とするものである。
【解決手段】シリンダーロールに直接描画によるホログラム母型版の製造方法に関して絵柄パターンにレーザー光を照射してできる干渉縞や回折格子パターンのデータを、描画データに変換するデータ変換装置と、その描画データをレーザービームとして出力する半導体レーザービーム高解像度描画装置とによって前記描画データをシリンダー上の感光性樹脂塗膜に露光、照射する工程と、その後、現像工程、水洗工程、エッチング工程、水洗工程、メッキ工程そして水洗工程をこの順に行うことによって継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版が製造できるものである。 （もっと読む）

【課題】パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供する。
【解決手段】本発明のパターン形成方法は、Ｓｎを主成分とした導電性粉末、有機バインダー及び溶剤を含むペーストを基材上に塗布する塗布工程と、塗布された前記ペーストを乾燥し、乾燥塗膜を形成する乾燥工程と、レーザーの照射により、前記乾燥塗膜に導電パターンを描画するレーザー照射工程と、前記乾燥塗膜のうち、前記レーザーの未照射部分を、現像液を用いて除去する現像工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器にて反射された描画に寄与しない光が周辺部材に与える熱的影響を確実に排除して高い描画精度を担保する。
【解決手段】光学ユニットのヘッド部は、レーザ発振器から出射された光を空間変調させて、パターンの描画に寄与させる必要光Ｌ１と、パターンの描画に寄与させない不要光Ｌ０とを、互いに異なる方向に反射させる空間光変調器を備える。光学ユニットは、さらに、必要光Ｌ１を通過させつつ不要光Ｌ０を遮断する第２遮断板２３２と、第２遮断板２３２を冷却する冷却部を備える。第２遮断板２３２における不要光Ｌ０の入射領域を含む対象領域部分には、入射した光を乱反射させる乱反射面４２が形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスクレス加工装置に関する。
【解決手段】本発明のマスクレス加工装置は、基板に照射される光を提供する照明光学系と、多数の光変換素子で構成され、前記照明光学系から照射された光を加工パターンに応じて選択的に反射または透過するように当該光変換素子を調節して光量を変換する空間光変調器と、前記多数の光変換素子が前記基板の一つのピクセルに対応して集光するように配列され、前記空間光変調器により変換された光が入射されると、当該ピクセルに前記多数の当該光変換素子によって提供された高エネルギーの光を投射する投射光学系と、前記加工パターンの入力を受け、入力された加工パターンに応じて、前記光源から照射された光を前記多数の光変換素子によって選択的に変換されるように前記空間光変調器を制御する制御部と、を含み、デジタルマスクを用いることにより、マスク使用によるコストが低減し、加工しようとする対象のスケール変形に対する能動的な対応が容易であるだけでなく、前記装置の活用度及び利用度が拡大される。 （もっと読む）

【課題】マップデータを高速かつ高精度に表示することが可能なマスク製造用装置を提供する。
【解決手段】マスク製造用装置は、メッシュ値を有する複数のメッシュからなるマップデータを取得するマップデータ取得部（２２１）と、マップデータを表示するための表示画面を有する表示部（２０４）と、表示画面のピクセルサイズよりも大きい擬似ピクセルサイズを設定する設定部（２２２）と、表示画面上のピクセルを擬似ピクセルにグループ化するグループ化部（２２３）と、表示画面上におけるメッシュのメッシュサイズが、擬似ピクセルサイズのα倍（αは正の定数）よりも小さい場合に、各擬似ピクセル内のメッシュのメッシュ値の平均値を算出する平均値算出部（２２４）と、擬似ピクセル内の各ピクセルを、平均値に対応する表示色で表示することにより、表示画面上にマップデータを表示する表示処理部（２２５）とを備える。 （もっと読む）

【課題】高精度のパターンを形成しながら、スループット向上を実現する。
【解決手段】基板に直接描画パターンを形成することが可能な露光装置の投影光学系に画像分割光学系２７を設ける。画像分割光学系２７により、第一結像光学系によって形成されたパターン像ＭＰを第１結像光学系の結像面ＦＳにおいて３分割し、３つの分割パターン像を、主走査方向Ｘに関して互いに間隔を空けながら、副走査方向Ｙに沿って並ぶように形成する。 （もっと読む）

【課題】画像記録装置において、複雑な制御を必要とすることなく、記録ヘッドの両端部における記録強度の低下を防止する。
【解決手段】画像記録装置１は、複数のレーザ出射部が列設された記録ヘッド４と、副走査方向に記録ヘッドを移動させるリニアモータ５と、記録ヘッドによるレーザ光の出射および移動手段による記録ヘッドの移動を制御する装置制御部１２とを備え、装置制御部は、ドラムの回転に応じて刷版の主走査方向に対する記録ヘッドの１回の走査が完了する毎に、複数のレーザ出射部から出射されるレーザ光による副走査方向の記録幅よりも小さい移動量にて記録ヘッドを副走査方向に移動させる構成とする。 （もっと読む）

【目的】データ処理領域内のパターン面積密度を計算するまでの計算時間の短縮を図る描画装置を提供する。
【構成】描画装置１００は、チップ領域を複数のデータ処理領域に分割する分割部７０と、複数のセルから、データ処理領域毎に、当該データ処理領域にセルの基準位置が位置するセルを抽出するセル抽出部７８と、データ処理領域毎に、当該データ処理領域と抽出されたセルとを取り囲む枠を作成する外接枠作成部８０と、枠毎に、当該枠内を複数のメッシュ領域に分割して、各メッシュ領域に配置される図形パターンの面積密度を算出する面積密度算出部８６と、異なる複数の枠間における重なるメッシュ領域同士の面積密度を合成する合成部９０と、面積密度を用いて、荷電粒子ビームの照射量を演算する照射量演算部９４と、得られた照射量になるように荷電粒子ビームを照射することによって、試料にパターンを描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの歪みを抑制して、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０に第１の画像取得装置（ＣＣＤカメラ５１）を設け、光ビーム照射装置２０のヘッド部と第１の画像取得装置との間に、検査用パターンが設けられたレチクル２を配置する。検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給し、第１の画像取得装置により、レチクル２の検査用パターン２ａの画像及び光ビーム照射装置２０から照射された光ビームの像２ｃを取得する。第１の画像取得装置により取得したレチクル２の検査用パターン２ａの画像及び光ビームの像２ｃから、光ビームの位置ずれを検出して、光ビームの歪みを検出する。光ビームの歪みの検出結果に基づき、露光用の描画データの座標を補正して、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】リカバー処理に掛かる時間を短縮することでスループットの向上を図ることのできる荷電粒子ビーム描画装置及び描画方法を提供する。
【解決手段】移動可能なステージ６１上に載置される試料にパターンを描画する描画部２と、荷電粒子ビームの偏向を制御する偏向制御部３２と、ステージの移動を制御するステージ制御部３６と、両者に対する制御を行う制御計算機３１、から構成される制御部３と、を備え、偏向制御部３２は、描画データを格納するバッファメモリ３２ｂと、バッファメモリ３２ｂから転送される描画データを格納するＦＩＦＯ３２ｃと、ＦＩＦＯ３２ｃへの描画データの転送量を判断した結果、バッファメモリ３２ｂへの描画データの格納が設定量に足りない場合に、ステージ制御部３６に対してステージ６１の停止を指示するとともに、ステージ６１を前記試料に対する描画の対象とされる位置にまで戻すリカバー処理を行う判定部３２ｄとを備える。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置の空間的光変調器の傾きとヘッド部の傾きとを容易に判別して、光ビームの歪みを抑制し、描画精度を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０から照射される光ビームを受光する受光装置５１をチャック１０に設け、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａを回転する回転機構２８を設ける。回転機構２８によりヘッド部２０ａを回転する前と回転した後に、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光装置５１により受光する。ヘッド部２０ａを回転する前後の、受光装置５１により受光した光ビームの位置の変化から、光ビーム照射装置２０の空間的光変調器２５の傾きとヘッド部２０ａの傾きとを判別し、判別結果に基づき、空間的光変調器の傾き又はヘッド部２０aの傾きを補正する。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢまでの時間の遅れによる寸法変動を補正し描画された微細パターンに応じたレジストパターンを得ることができるように電子ビーム描画を行う。
【解決手段】サーボパターンと、グルーブパターンとを含む微細パターンを描画する電子ビーム描画方法において、電子ビームEBの照射のタイミングを、電子ビームEBを遮断するブランキング手段26に対するオン・オフ信号により制御する際に、それぞれのパターン毎の露光後経過時間に対するレジスト11の感度変動データに基づいて、パターン毎に、描画半径毎のオン・オフ信号による電子ビームEBの照射のデューティ比を変化させて、レジスト11の露光量を調整する。 （もっと読む）