【課題】空間光変調器の使用可能時間をより長く延ばすことによって、空間光変調器の交換の頻度を低減させる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１００は、光学ユニット４０を備えている。光学ユニット４０が備えるレーザ発振器４１から出射された光は照明光学系４３を介して導入された空間光変調器４４１に導入される。空間光変調器４４１は、全体反射面４２０ｆの一部である有効反射面ＥＲに入射した入射光Ｌ１を空間変調する。パターン描画が一定時間行われると、制御部９０の指示により、照明光学系４３が備える照明系フォーカスレンズ４３５の設置位置を変位させる。これによって、有効反射面ＥＲ上に入射する入射光Ｌ１の入射位置が変位して、有効反射面ＥＲ上に形成されていた入射領域ＮＲ１が、光が未照射である有効反射面ＥＲ上の領域にシフトされる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数の投影対物レンズ（１０）のうち各々が１つの物体視野（５０）を像視野（６０）の中に結像する投影対物レンズを備える投影露光装置（１）に関する。
【解決手段】像視野（６０）は基板領域（４０）において１つの基板平面の中に配置されており、基板領域（４０）が所定の走査方向（５）で複数の投影対物レンズと相対的に移動可能であり、前記投影対物レンズの少なくとも１つが前記基板平面に対して垂直に延びない該投影対物レンズの光軸の部分区間を有し、かつ前記部分区間の投影が基板平面の中へ走査方向（５）と平行に延びない。 （もっと読む）

【課題】基板の形状やサイズにかかわらず、光源から基板に至る照射光路に設けられた光学部品及び空間光変調器の交換作業の作業性を向上させる技術を提供する。
【解決手段】露光装置１００は光学ユニット４０ａ，４０ｂを備えている。光学ユニット４０ａ，４０ｂが備えるレーザ発振器４１ａ，４１ｂから出射された光が、照明光学系４３ａ，４３ｂを介して導入された空間光変調器４４１ａ，４４１ｂで空間変調されて基板Ｗ上に照射される。レーザ発振器４１ａ，４１ｂから照明光学系４３ａ，４３ｂに至る光路には光源からの光を通過又は遮断するシャッタ部４９ａ，４９ｂが設けられている。シャッタ部４９ａ，４９ｂの開閉制御を行うことにより、各光学ユニット４０ａ，４０ｂから照射された光がシャッタ部４９ａ，４９ｂよりも下流に設けられた光学部品を照射する時間は、各光学ユニット４０ａ，４０ｂで同一となる。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の長寿命化を図るとともに、空間光変調器で空間変調された光が空気のゆらぎによる影響を受けることを抑える技術を提供する。
【解決手段】描画装置１００は、光学ユニット４０を備えている。光学ユニット４０は、主にレーザ発振器４１、照明光学系４３、三角プリズム４７、投影光学系４６、および空間光変調ユニット４４を備えている。レーザ発振器４１からの光が三角プリズム４７に入射し、光学面４７３で三角プリズム４７の内部に向けて全反射される。このとき、光学面４７３の外側で生成されたエバネッセント光を空間光変調器４４１が空間変調して、光学面４７３で反射される光の空間変調が行われる。空間変調された光は、大気圧よりも低い圧力環境に調節されたチャンバ５０に導入され、光は投影光学系４６を通って基板Ｗ表面に照射される。 （もっと読む）

【課題】 パターンの形成にかかる時間を短縮するパターン形成方法、磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 ハードマスクが成膜された基板にレジストを塗布し、レジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして前記ハードマスクをエッチングしてハードマスクパターンを形成し、前記ハードマスク上にレジストを塗布し、電子ビーム描画を行って第２のレジストパターンを形成し、前記第２のレジストパターンをマスクとして前記ハードマスクをエッチングして第２のハードマスクパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】熱の影響を緩和させつつパターンを微細化すること。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、複数の表示素子を用いて前記パターンを形成するパターン形成ステップと、前記対象面のうち複数の単位領域に区画された投影領域に前記パターンを投影する投影ステップとを含み、前記パターン形成ステップは、前記投影ステップにおいて前記投影領域のうち前記単位領域ごとに前記パターンが投影されるように複数の前記表示素子のうち一部ずつを順に駆動させて前記パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤ光源において使用するＬＥＤ素子数を削減し、小型で低コストで、短時間に十分な光量を獲ることができる露光用光源を提供する。
【解決手段】
露光装置を、露光光を発光する露光用光源手段と、露光用基板を載置して平面内で移動可能なテーブル手段と、テーブル手段と露光用光源手段とを制御する制御手段とを備えて構成し、露光用光源手段は複数の発光素子を２次元に配列した光源部を備え、制御手段は、露光用光源手段でテーブル手段に載置された露光用基板を所定の時間内に所定の露光総光量で露光するときに、光源部を制御してこの光源部から複数のパルス光を順次照射条件を変えながら発光させて露光用基板に照射するように構成した。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いることなく、１つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する。
【解決手段】光ビーム照射装置（２０）から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板（１）を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する。光ビーム照射装置に、それぞれ異なる入射角度の光ビームを空間的光変調器（２５）へ供給する複数の照明光学系を設け、各照明光学系から供給した異なる入射角度の光ビームを空間的光変調器によりそれぞれ変調して、照射光学系（２６ａ，２６ｂ）からチャックに支持された基板へ複数の異なる入射角度の光ビームを照射する。 （もっと読む）

【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】一定方向に一定速度で搬送される被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に平行に並んだ複数のレーザビームに強度変調を与えて射出するパターンジェネレータ６と、パターンジェネレータ６から射出した複数のレーザビームを被露光体４上に一定間隔に並べて集光するｆθレンズ７と、ｆθレンズ７を射出した複数のレーザビームを被露光体４の搬送方向と交差する方向に回折させて、互いに隣接するレーザビームの間の領域を同時に往復走査する音響光学素子８と、を備え、音響光学素子８は、レーザビームの回折方向の軸が光軸を中心に被露光体４の搬送方向と直交する方向に対して一定角度だけ回転した状態に配設され、音響光学素子４の光射出側には、複数のレーザビームの０次回折光を遮断する遮光マスク２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いることなく、１つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する。
【解決手段】光ビーム照射装置（２０）は、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器（２５）、空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節する調節装置（５０）、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路（２７）、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系（２６ａ，２６ｂ）を有する。調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、空間的光変調器により変調された光ビームを照射光学系へその光軸に対して斜めに入射させ、照射光学系からチャックに支持された基板（１）へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する。 （もっと読む）

【課題】溝付きレジスト板の溝の内部に溝又はピットを正確に形成することができる電子線描画装置及び電子線描画方法を提供する。
【解決手段】描画処理後の原盤をターンテーブルから外した後再度ターンテーブルに載置したときの原盤の中心座標と、ターンテーブルの回転中心との差を検出し、ターンテーブルの停止時に検出手段からの検出信号に基づいて吸着前の原盤を径方向に移動させ、前記ターンテーブルを所定の角度だけ回転させて得られた検出手段からの検出信号に基づいて移動手段により吸着前の原盤を径方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】投影領域の形状に応じて容易に露光を行うこと。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光装置であって、パターンを形成するパターン形成部と、パターンを対象面に投影する投影光学系と、対象面のうちパターンが投影される投影領域の露光光の光軸方向の形状に応じて投影光学系の開口数を調整する開口数調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 露光装置の設置床面積を小さくすることができる露光装置を提供すること。
【解決手段】 光学エンジン３１と、軌道９Ｒｂと軸受け９Ｒａとからなる直線案内装置９Ｒにより第１のＸテーブル５Ｒ上をＹ方向に移動自在な第１のＹテーブル２０Ｒとからなり、該軸受け９Ｒａが該第１のＹテーブル２０ＲのＹ方向の長さの１／２未満を支持する第１のＸＹテーブルＲと、光学エンジン３１のＹ方向の左側に配置され、光学エンジンのＹ方向に垂直な対称面Ｐに関して第１のＸＹテーブルＲと構成が対称である第２のＸＹテーブルＬと、を設け、第１のＹテーブル２０Ｒ又は第２のＹテーブル２０Ｌを露光位置に位置決めしたときに第１のＹテーブル２０Ｒ又は第２のＹテーブル２０Ｌを支持する、実質的な支持端（端面９Ｒａ１ｆ）が、対称面Ｐから１０ｍｍ以下になるように配置する。 （もっと読む）

【課題】 情報データを適宜変更しながら回路パターンも転写できる露光装置を提供する。
【解決手段】 紫外線を含む第１光を放射する第１光源（２０）と、第１光を使ってフォトマスクに描かれた第１パターン情報を基板に転写する投影露光ユニット（７０）と、第１パターン情報を転写するように投影露光ユニットに対して基板を載置して移動する基板ステージ（６０）と、基板ステージを配置する架台（１１）と、第１光源とは異なって配置され紫外線を含む第２光を放射する第２光源（４１）と、第２光を使って電子的に作成された第２パターン情報を基板に転写する空間光変調ユニット（４０）と、架台に配設され空間光変調ユニットを基板ステージの移動方向に平行な方向に移動させる空間光変調ユニット移動手段（５０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】残留応力を有する薄膜を用いて電極の静電引力による変形を低減し、収差を少なくすることが可能な荷電粒子線レンズを提供する。
【解決手段】荷電粒子線レンズは、荷電粒子源から放射された荷電粒子線の光学特性を制御する。光軸方向に沿って空隙を介して複数の対向電極２Ａ、２Ｂ、２Ｃが設けられ、対向電極２Ａ、２Ｂ、２Ｃは、光軸方向に対向電極を貫通する少なくとも１つの荷電粒子線通過用の開口３Ａ、３Ｂ、３Ｃを有すると共に、少なくとも１つの表面に薄膜４を有する。薄膜４は、光学特性を制御するための電圧を対向電極に印加することで生じる対向電極の変形を低減する残留応力を有するように形成されている。 （もっと読む）

【課題】複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきによる光ビームの回折光の強度分布のばらつきを補正して、描画品質を向上させる。
【解決手段】チャックと、光ビームを供給する照明光学系２０ｃ、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器２５、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路２７、及び空間的光変調器２５により変調された光ビームを照射する照射光学系２０ｂを有する複数の光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する。各光ビーム照射装置の空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきに応じて、各光ビーム照射装置の空間的光変調器へ供給する光ビームの入射角度を調節する。 （もっと読む）

【課題】マスクを透過した線状の露光光により基板を走査して、基板上の配向膜に配向領域を形成する際、タクトタイムを短縮してスループットを向上させる。
【解決手段】露光光照射装置内３０において、ラインジェネレータ３４により作成した線状の露光光を、ポリゴンミラー３６の複数の反射面で反射して、ポリゴンミラー３６とマスク２との間に配置した、線状の露光光が伸びる方向に細長い開口を形成する遮光板３９へ照射する。ポリゴンミラー３６を回転して、ポリゴンミラー３６の複数の反射面で反射されて遮光板３９の開口を通過し、マスク２を透過した線状の露光光により、基板１の一部の領域を繰り返し走査しながら、チャック１０及びマスクホルダ２０と、露光光照射装置３０とを相対的に移動して、基板１の走査領域を移動する。 （もっと読む）

【課題】複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきによる光ビームの回折光の強度分布のばらつきを補正して、描画品質を向上させる。
【解決手段】各光ビーム照射装置２０の照射光学系２０ｂより前の光ビームの光路内に補正用ミラー５３を設け、各光ビーム照射装置２０に補正用ミラー５３の角度を調節する調節手段を設け、各光ビーム照射装置２０の空間的光変調器のミラー２５ａの動作角度のばらつきに応じて、各光ビーム照射装置２０の調節手段により各光ビーム照射装置２０の補正用ミラー５３の角度を調節して、各光ビーム照射装置２０の照射光学系２０ｂへ入射する光ビームの光路を補正する。 （もっと読む）

【課題】空間光変調素子の劣化を防止することができるパターン投影装置およびレーザ加工装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかるレーザ加工装置１００は、レーザ光源４１から出射されたレーザ光を複数のミラーによって空間変調する空間光変調素子４５と、基板１を照明する照明系３６を含む照明光学系と、空間光変調素子４５に空間変調された変調光を対象物に投影する結像レンズ３８と、空間光変調素子４５から出力されたレーザ光の進行方向を結像レンズ３８の光軸と一致する方向に偏向させる偏向素子４６と、を備え、空間光変調素子４５は、空間光変調素子４５に入射するレーザ光の進行方向が該空間光変調素子４５の基準面の法線とおおよそ平行である。 （もっと読む）

【課題】個別に制御可能な要素のアレイ及びデータ処理パイプラインを備えるリソグラフィ装置を提供すること。
【解決手段】個別に制御可能な要素のアレイは、放射線のビームを変調する。データ処理パイプラインは、要求された線量パターンの第１の表現を個別に制御可能な要素のアレイを制御するのに好適な制御データのシーケンスに変換し、基板上に要求された線量パターンを実質的に形成する。データ処理パイプラインは、オフライン前処理デバイス及びオンライン・ラスタライザを備える。オフライン前処理デバイスは、要求された線量パターンの第１の表現を、第１の表現よりも少ないオペレーション回数でラスター化できる中間表現に変換する。 （もっと読む）