【課題】優れたスループットを実現できる導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面および第２の波面を有する基体と、第１の波面上に形成された導電層とを備える。導電層は、導電パターン部を形成し、第１の波面および第２の波面が、０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

【目的】描画装置の計算機の過負荷状態を引き起こさない、或いは緩和することが可能な装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、第１のモジュールと、実行周期で動作を実行する第２のモジュールとを並行して実行するＣＰＵ１１２と、ＣＰＵ使用率を監視し、使用率に応じて増減する新たな実行周期を演算し、出力する負荷制御部１１６と、第１のモジュールの実行によって制御される、試料にパターンを描画する描画部１５０と、を備え、ＣＰＵ１１２は、新たな実行周期が出力された際に、以降は当該新たな実行周期で第２のモジュールを実行することを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】高精度パターンの寸法精度を向上させながらより高速な描画を可能とし得る方法を提供することを目的とする。
【構成】描画データの作成方法は、電子ビームを用いて描画される描画精度の異なる複数のパターンが定義された描画データを記憶する記憶装置から各パターンのデータを読み出し、描画精度が低精度側のパターンのうち、描画精度が高精度側のパターンの領域端から近接効果の影響範囲内に位置する部分パターンを切り出す工程（Ｓ１０６）と、切り出された低精度側の部分パターンと当該高精度側のパターンとをマージ処理する工程（Ｓ１１０）と、マージ処理されたパターンのデータと切り出されずに残った低精度側の残部分パターンのデータとを出力する工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 マスクレス露光工程で仮想のマスクを用いてレイヤ別にオーバーレイする方法を通してマスクレス積層露光を行うことができる整列方法を提案する。
【解決手段】 マスクレス露光で既存のマスク露光のマスクと同一の役割をする仮想のマスクという概念を導入し、既存のマスク露光の整列マークと同一の役割をする仮想のターゲットマークという概念を導入してレイヤ別にオーバーレイを行うことによって、マスクレス露光でも積層露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの歪みを防止して、描画精度を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０から照射される光ビームを受光する受光装置（ＣＣＤカメラ５１）を、チャック１０に設ける。検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給し、チャック１０に設けた受光装置により、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光する。光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置を検出し、受光装置により受光した光ビームの受光装置上の位置を検出し、光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置と、光ビームの受光装置上の位置とから、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームの歪みを検出し、検出結果に基づき、露光用の描画データの座標を補正して、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】基板への直接書込みシステムでは解像度は高いもののスループットが低く、改善が求められている。
【解決手段】走査方法において複数の独立してアドレスし得るサブビームからなる走査ビームを生成し、この走査ビームで複数回にわたり表面を走査し、その際、前記サブビームが横並び状でクロス走査方向に前記表面を走査すると共に、各サブビームを書き込むべき情報を反映するように変調しており、少なくとも二回の走査で表面の書込みエリアに書込みがなされるようにビームを重ねることよりなる表面にパターンを書き込む。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの強度分布を均一にして、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビームを受光して、受光した光ビームの強度を検出する検出装置（レーザーパワーメータ５１）を、チャック１０に取り付け、検出装置により、光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの照射領域２６ａの一部の同じ面積の複数の検査領域２６ｂへ照射された光ビームを、検査領域２６ｂ毎に受光して、各検査領域２６ｂの光ビームの強度を検出する。そして、検出装置が検出した各検査領域２６ｂの光ビームの強度の違いに応じて、各検査領域２６ｂの光ビームの強度が同じになる様に、描画データを補正する。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体発光素子から発生した露光光により基板を露光する際、半導体発光素子の寿命を延ばし、また消費電力を抑えながら、露光光の強度の変化を抑制して、パターンの露光を均一に行う。
【解決手段】基板の露光が行われないとき、光源制御装置５０は、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ駆動電流を供給しないで、各半導体発光素子８２を消灯させる。基板の露光が行われる間、光源制御装置５０は、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ駆動電流を供給して、各半導体発光素子８２を点灯させる。そして、光源８０の複数の半導体発光素子８２の温度変化に伴う光量の変化を検出し、光源制御装置５０は、検出された光量の変化を補う様に、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ供給する駆動電流を増減させる。 （もっと読む）

【課題】高い回折効率で光を回折することができる干渉縞が複数記録されたホログラムを安定して製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】ホログラム製造方法は、一つのレーザ光源４０から発生されたレーザ光Ｌ４０を、二以上の数の参照光Ｌｒ１〜Ｌｒ３および二以上の数の物体光Ｌｏ１〜Ｌｏ３として、ホログラム記録材料に同時に照射する工程を含む。レーザ光源から発生されたレーザ光は、分岐手段４５によって二以上の数の分岐光ＢＬ１〜ＢＬ３に分岐され、その後、各分岐光が、分離手段５０によって、それぞれ参照光および物体光に分離される。任意の二つの分岐光の、レーザ光源から当該分岐光に対応する各分離手段までの、光路長の差は、レーザ光のコヒーレント長より長い。 （もっと読む）

【課題】平網画像領域や小点画像領域を含む各種画像に対して安定した印刷濃度を得ることができる印刷用凸版を作成するための印刷用凸版作成装置、システム、方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】ラスタ画像データＩｒに基づいて２値画像データＩｂを生成し、各網点突起部２０４の高さを決定するための高さ変換マトリクスＭｈをラスタ画像データＩｒに基づいて生成し、生成された２値画像データＩｂに基づき形成される平網部Ａで網点突起部２０４の高さが複数の高さレベルからなる印刷用凸版Ｃを作成するため、生成された高さ変換マトリクスＭｈと２値画像データＩｂとに基づいて露光量データＤｅを生成し、生成された露光量データＤｅに基づいて版材Ｆを露光する。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム露光に伴う隣接ビームの熱の影響を効果的に低減し、微細形状など所望の形状を高精度に形成する。
【解決手段】出射口が副走査方向に間隔Ｐで配置された出射口列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）有する露光ヘッドであって、各出射口を主走査方向に投影したときに各投影出射口が間隔Ｐ／Ｎとなるように各段が配置された露光ヘッドから、記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、前記露光ヘッドと前記記録媒体とを主走査方向にＮ回走査させる工程と、前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出する工程とを含むマルチビーム露光走査方法によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 回転精度が高いことに加えて、モータ等で発生した熱が主軸を経由してモータと反対側の回転テーブルへ伝わりにくく、かつ主軸の熱膨張を抑えることができ、さらに、不導体材料を使用しながら静電容量タイプの非接触計での測定を可能にした静圧気体軸受スピンドルを提供する。
【解決手段】 静圧気体軸受スピンドルは、主軸２と、この主軸２を回転自在に支持する静圧気体軸受３と、主軸２の一端がモータ軸と２ｃなり主軸２を回転駆動するモータ４と、主軸２の他端に固定された回転テーブル５とを備える。主軸２における静圧気体軸受３により回転自在に支持される部分である主軸被支持部２ａ、および主軸２における主軸被支持部２ａよりも回転テーブル５側の部分である主軸テーブル側部２ｂをセラミックス材で形成し、主軸被支持部２ａにおけるラジアル軸受部３ｂに導電性のメッキを施す。 （もっと読む）

【課題】彫刻により発生するガス、アブレーションカスを吸込フードに誘導し、回収効率を上げることができる。
【解決手段】吹付ノズル８０は、一列に並んだ吹き出し口８０ａからの空気を吹き出し、略四角錐台形のエアーフローＡ１を形成する。吹付ノズル８０は、エアーフロー中心面ＡＭ１が、光軸Ｌと露光面ＦＡとの交点Ｉにおけるドラム５０の接線と平行となるように、かつエアーフローＡ１の方向がドラムの回転方向Ｒと同方向となるように配設される。エアーフローＡ１の延長上には、エアーフローＡ１を覆う大きさで形成された吸込フード８１が配設される。これにより、ガス、アブレーションカスを含むエアーフローＡ１を吸込フード８１から確実に吸い込むことができる。 （もっと読む）

【課題】複数の光変調素子のそれぞれと光検出器からの出力とを高精度に対応づけ、複数の光変調素子からの出力光量を高精度に補正する。
【解決手段】画像記録装置は、素子配列方向に配列された複数の光変調素子を有する空間光変調器、および、空間光変調器からの光を受光するフォトセンサを備える。画像記録装置では、空間光変調器の複数の光変調素子において複数の目印素子１２３を決定し、目印素子１２３以外の補正対象素子１２５に補正前の光量指示信号を送るとともに、目印素子１２３に補正対象素子１２５からの出力光量と区別可能な光量を出力させる目印指示信号を送る。そして、複数の目印素子１２３からの光を目印とすることにより、複数の補正対象素子１２５とフォトセンサからの出力とを高精度に対応づけ、複数の光変調素子のそれぞれに送られる光量指示信号に対する補正量を高精度に決定することができる。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成でピント調節が迅速に行われる露光装置および画像形成装置を提供する。
【解決手段】 走査光学系と、走査光学系によって感光面に導かれる各光を感光面上に集光させる、光の集光位置を光の進行方向に調整する機能も有した集光部と、走査光学系による走査に伴って移動する光の移動範囲の一部から光源が互いに異なる複数の光が導かれて照射されて複数の光を個別に受光する、各光の受光量を検知する複数の受光部分を有する、該複数の受光部分上を該複数の光が該走査に伴って通過する、該複数の光のうちの一部の光については、該受光部分までの光路長が前記感光面までの光路長よりも長く、他の一部の光については、受光部分までの光路長が感光面までの光路長よりも短い受光器と、受光器で検知された受光量に基づいて集光部による光の集光位置を、集光部の機能を使用して調整する集光位置調整部とを備えた。 （もっと読む）

【課題】高い耐パワー性能と短波長光での光損傷性能が高く、かつ高速な変調が可能な光変調デバイスおよび当該光変調デバイスを用いた露光装置を提供する。
【解決手段】両端面１１ａ、１１ｂを露出させたまま電気光学結晶層１１の周囲が結晶部１４（電気光学結晶層１２、１３）で取り囲まれて四角柱形状の外観を有する電気光学結晶基板１５が形成されている。また、電気光学結晶基板１５の上面および下面に電極１６ａ、１６ｂがそれぞれ形成される。電極１６ａ、１６ｂは電位付与部１７と電気的に接続されており、電位付与部１７から電極１６ａ、１６ｂに正電位および負電位を与えると、電気光学結晶層１１および結晶部１４の屈折率がそれぞれ増加および減少して入射光Ｌinを電気光学結晶層１１に封じ込めて伝搬する。逆電位を付与すると、入射光Ｌinが結晶部１４に吸い込まれるように広がる。 （もっと読む）

【課題】刷版を加工するための装置に刷版を準備して渡す方法であって、少なくとも２つの刷版スタックを、別々に少なくとも２つの刷版準備エレメント内または少なくとも２つの刷版準備エレメント上に形成し、刷版準備エレメントは相互に位置変化可能であり、個別化装置によって、個別化装置の作用範囲内に存在するそれぞれ１つの刷版スタックから刷版を個別化する方法を改良して、先行技術の欠点を解消する。
【解決手段】少なくとも１つの第１の刷版準備エレメント２を、少なくとも１つの旋回軸５ａ，５ｂを中心に旋回させ、刷版準備エレメント２の刷版スタック４０を、個別化装置５０により刷版スタック４０から刷版４２を個別化するための取出位置、または静止位置に移動させる。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクパターン等の微細パターンの描画が、簡易な制御により基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に描画可能とする。
【解決手段】レジストが塗布された基板１０を一方向に回転させつつ、電子ビームＥＢを描画オン・オフ制御により基板の回転に依存して描画するについて、半径方向にｎ分割したエレメントの第１区画を描画した後、電子ビームを基板回転方向および半径方向に偏向させて第２区画の描画開始位置へ移動させて描画するのを当該エレメントに対し１回転にｍ回（ｍ≧２）行った後、次のエレメントの描画に移行し順次描画する。 （もっと読む）

【課題】刷版を加工するための装置に刷版を準備して渡す方法であって、少なくとも１つの刷版準備エレメントに少なくとも１つの刷版スタックを準備し、刷版準備エレメントは位置変化可能であり、個別化装置によって、個別化装置の作用範囲内に存在する刷版スタックから刷版を個別化する方法を改良して、先行技術の欠点を少なくとも部分的に解消する。
【解決手段】刷版準備エレメント２を、静止位置から取出位置に移動させ、取出位置への移動が少なくとも鉛直方向の成分を有し、刷版準備エレメント２を、取出位置で、個別化装置５０の作用範囲内で停止させ、刷版準備エレメント２を、強制手段７，９によって、個別化装置５０に対して少なくとも１方向で位置決めする。 （もっと読む）

【課題】露光領域における半径方向に沿った辺のＬＥＲを良好にする。
【解決手段】情報記録媒体製造用の凹凸パターンを形成するための樹脂層が形成された基材を回転させた状態において樹脂層に描画用ビームを照射することによって、凹凸パターンを形成するためのサーボパターンＰＳａを含む露光パターンＰａを樹脂層に描画する描画方法であって、露光パターンＰａにおけるサーボパターンＰＳａのうちの少なくとも一部のパターン（プリアンブルパターンＰＳ１等）の描画に際して、基材の回転方向と交差する方向（同図における上下方向）に描画用ビームを往復動させて、そのパターンにおける基材の半径方向の一部を描画する第１の部分描画処理を、第１の部分描画処理において描画用ビームのビーム中心を移動させる第１の移動範囲の半径方向に沿った長さＬａよりも短く規定した長さＬｂだけ半径方向に沿って第１の移動範囲を移動させて複数回に亘って実行する。 （もっと読む）