【課題】基板に描画するパターンの図形の円の弧で構成された部分を複数の直線で近似する際、円の半径に応じた分割角度を簡単な処理で高速に決定する。
【解決手段】基板に描画するパターンの図形の円の弧で構成された部分について、当該円の半径と、所定の半径の円において、円の弧を複数に分割し、分割した各弧の始点と終点を直線で結んで、円の弧を複数の直線で近似したときの近似誤差を、分割角度毎に予め求めたデータとから、近似誤差が許容値以下となる様に最大分割角度を決定し、決定した最大分割角度以下の分割角度で分割し、分割した各弧の始点と終点を結んだ複数の直線で近似して、基板に描画するパターンの図形のベクターデータを作成する。作成したベクターデータから、基板に対し光ビームの照射を開始する位置と、光ビームの照射を終了する位置とを演算で求めて、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データを生成する。 （もっと読む）

【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】被露光体４を一定方向に一定速度で搬送する搬送手段１と、被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に並べられた複数の光スイッチにより、一方向に拡幅されたレーザ光Ｌを一定の配列ピッチで一列に並んだ複数のレーザビームＬbに分割して射出するパターンジェネレータ６と、パターンジェネレータ６から射出し、被露光体４に照射する複数のレーザビームＬbを互いに隣接するレーザビームＬbの間の領域を同時に往復走査する光走査手段７と、往復走査される複数のレーザビームＬbを被露光体上に集光するｆθレンズ８と、パターンジェネレータ７の複数の光スイッチのオン・オフ駆動を制御する制御手段３と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】ブロック共重合体自己組織化方法、パターン化基板およびパターン化テンプレートを提供する。
【解決手段】リソグラフィを行ない、基板上に第１のパターンを形成する工程と、ブロック共重合体自己組織化を行ない、基板上に第２のパターンを形成する工程とを含む方法、パターン化基板テンプレート、およびリソグラフィ技術と自己組織化技術との組合せを含む方法が提供される。パターン化基板は、第１および第２のパターンを含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】対象物に対するパターンの描画位置を高い精度でコントロールできる技術を提供する。
【解決手段】描画装置は、光学ヘッド部から、光学ヘッド部に対して相対的に移動する対象物（例えば、基板）に対して光を照射して、基板Ｗにパターンを描画する。ここで、光学ヘッド部が、光源からの光を、パターンデータに基づいて空間変調する空間変調ユニット４４と、空間変調ユニット４４において空間変調された光の経路を、空間変調ユニット４４の空間変調の単位（具体的には、例えば、空間光変調素子４４１１の画素単位）よりも細かい精度でシフトさせる光路補正部４５とを備える。 （もっと読む）

【課題】プログラマブルアレイを用いたリソグラフィ装置において均一な放射線量で露光する方法を提供する。
【解決手段】個々に制御可能な素子を使用してパターンを形成した放射線のパターン形成ビームを、基板の目標部分に投影する場合、（ａ）各ピクセルが、予め決定した標準的最大線量を超えない放射線線量を、露光ステップで目標部分に送出するように、素子を通常通りに制御し、（ｂ）少なくとも１つの選択されたピクセルが、標準的な最大線量より多い増加した放射線線量を送出するように、素子を例外的に制御する。増加した線量は、アレイの既知の位置にて欠陥がある素子が選択されたピクセルに隣接するピクセルに及ぼす効果を補償するように送出する。さらに、既知の欠陥がある素子の影響を受けたピクセルによって、その位置の露光で生じた選択ピクセルの位置での目標部分の露光不足を補償する。 （もっと読む）

【課題】インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板１上に、ハフニウムおよびジルコニウムのうちの少なくとも一方の元素を含有する材料で形成された下層３と、該下層の酸化を抑制する材料で形成された上層４の積層膜からなる薄膜を有するマスクブランクを用いて、前記薄膜をエッチング加工して薄膜のパターンを形成する工程と、該薄膜のパターンをマスクとして透光性基板１をエッチング加工してモールドパターンを形成する工程と、該モールドパターンを形成した後、薄膜の下層を、塩素、臭素、ヨウ素、およびキセノンのうちいずれかの元素とフッ素との化合物を含む非励起状態の物質に接触させて除去する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】高精度送りを実現できる光ディスク原盤露光装置等を提供すること。
【解決手段】露光装置は、第１の信号処理工程による２次関数波信号とゼロ電位との交点を検出するゼロクロス検出手段の選択パルス出力信号に基づいて、２次関数波信号とその反転信号から半径方向外向き偏向成分を折り返した信号と、半径方向内向き偏向成分信号とを連接した２次関数波信号を出力調整手段により増幅して同心円偏向信号に重畳する第２の信号処理工程とからなる多角形信号処理手段の出力信号を偏向手段に印加する。 （もっと読む）

【課題】照射光学系に含まれる光学部品の歪みによる露光量のばらつきを補正して、描画精度を向上させる。
【解決手段】描画制御部７１は、光ビーム照射装置の照射光学系に含まれる光学部品の歪みに応じて、光ビームが照射される領域が収縮又は拡張する様に描画データを補正して、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する。第１のメモリ７６ａは光ビームが照射される領域を収縮する位置を指定するデータを記憶し、第２のメモリ７６ｂは光ビームが照射される領域を拡張する位置を指定するデータを記憶する。変換回路７７ａは第１のメモリに記憶されたデータに従って描画データを変換し、変換回路７７ｂは第２のメモリに記憶されたデータに従って描画データを変換する。選択回路７８は、変換回路７７ａにより変換された描画データ、変換回路７７ｂにより変換された描画データ、または変換前の描画データのいずれかを選択する。 （もっと読む）

【課題】反射電子ビームリソグラフィ装置のパターン生成器の画素素子の革新的なレイアウトを提供する。
【解決手段】一実施形態は、対象基板上にパターンを書き込むための装置に関する。この装置は、画素素子の複数の配列を含み、各配列は、互いにオフセットされている。加えて、この装置は、複数の配列上に合焦させる入射ビームを生成するための発生源１２０２およびレンズと、パターン化ビームを形成するために、画素部分が入射ビームを選択的に反射するように各配列の画素素子を制御するための回路と、を含む。さらに、この装置は、対象基板上にパターン化ビームを投射するための投射器１２１４を含む。また、他の特徴、態様および実施形態も開示される。 （もっと読む）

【課題】基板の位置を容易に検出可能にする。
【解決手段】本発明の露光装置ＥＸは、露光対象の基板Ｐに回路パターンを露光する露光部と、基板Ｐを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークＡＭに光を通して基板Ｐの位置を検出するアライメント系４を備える。アライメント系４は、光を射出する光学部材と、光学部材から射出されてアライメントマークＡＭを通った光を反射させる反射部とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線を偏向するための電極対の数の多さ、偏向の高速性、および製造の容易性の点で有利な電極対アレイ板を提供すること。
【解決手段】 複数の荷電粒子線をそれぞれ偏向するための複数の電極対（３０３）を含む電極対アレイ板（１２３）は、複数の配線層を含む積層体（３００ａ、３００ｂ）と、該積層体に形成されて前記複数の荷電粒子線がそれぞれ通過する複数の貫通孔（３０２）と、を含み、積層体は、複数の貫通孔にそれぞれ１対ずつ形成された複数の電極対を含み、複数の電極対は、積層体の異なる複数の層にわたって、その各層に電極対のアレイを含み、複数の層のアレイは、複数の配線層のうち互いに異なる一部の配線層にそれぞれ接続されている、ものとする。 （もっと読む）

【課題】 照射光学系で光量が適正に変更される高精度の露光描画を行うことができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】 光量調節部５５０は、入射したレーザ光が光透過量変更手段５５１による透過率傾向が反映されるが、光透過分布調整手段５５２によって逆の透過率傾向が反映される。その結果、相殺され位置によるバラツキが低減された透過率がラインビーム全体で得られる。パターン描画装置１００によれば、光量調節部５５０によって、位置によるバラツキが低減されたラインビームが変調素子５３７に導入されることとなり、結果、画素間の光量バラツキが低減された露光を実現できる。 （もっと読む）

【課題】複数の合焦位置のうちの所望の位置で合焦可能にする
【解決手段】本発明の態様の合焦装置４は、光学系３の焦点をステージ１上の対象物に合焦する合焦装置である。複数の合焦位置が得られたときに、光学系３からステージ１までの距離と合焦の判定パラメータ値との対応情報に基づいて、複数の合焦位置の中からいずれに合焦するかを制御する制御部５を有する。 （もっと読む）

【課題】描画パターンを下地パターンに一致させながら描画対象物に描画するパターン描画を短時間で開始することができ、しかも安定して実行する。
【解決手段】ベクトル形式の設計データ２１１が描画処理前にラスタライズ処理（ＲＩＰ処理）されてランレングスデータ２１２が生成される。一方、描画処理ではストリップ、つまり分割パターン単位でランレングスデータ２１２が直接補正されてストリップデータ２１２ａが再構築される。そして、そのストリップデータ２１２ａに基づき分割パターンが基板に描画される。したがって、描画処理中にＲＩＰ処理を行っていた従来技術に比べてパターン描画を短時間で開始することができる。また、各分割パターンを描画するための時間も、描画パターンの内容にかかわらず、ほぼ同一であり、パターン描画を安定して実行することができる。 （もっと読む）

【課題】 感光性絶縁膜を露光、現像して形成された絶縁層を有する液晶表示パネルにおける周期的な外観むらを低減する。
【解決手段】 感光性絶縁膜を露光、現像してなる絶縁層を形成する工程を有し、あらかじめ用意された数値データに基づく数値制御により生成される複数の露光パターンを前記感光性絶縁膜の異なる位置に同時に照射し、当該複数の露光パターンを排他的に走査することで当該感光性絶縁膜の全体を露光する表示装置の製造方法であって、前記数値データに基づき感光させないと判定される領域には、光を照射しない条件のときに前記感光性絶縁膜の各位置に照射される漏れ光の光量の総量のうちの最大値と同じ光量、または当該最大値より大きい光量の光を均一に照射する。 （もっと読む）

【課題】ステージ送りの駆動系の速度変動の影響を抑制し、効率よく露光し、露光基板の露光工程の生産性の向上を図る。
【解決手段】露光対象物を露光ステージ上に固定し、ステージ送りに露光光学系の空間的光変調器のパターン切り替えを同調させて露光するマスクレス露光方法であって、前記露光ステージの移動に伴って取得されるスケールパルス信号のパルス間隔と予め設定された標準のスケールパルス信号のパルス間隔を比較し（Ｓ８）、前記取得されたスケールパルス信号間隔が前記標準のスケールパルス間隔よりも短い場合に、当該短くなったスケールパルスの出力タイミングが前記標準のスケールパルス間隔の出力タイミングになるように補正し（Ｓ９）、前記空間的光変調器のパターン切替パルスが描画データ転送時間以上となるようにする（Ｓ１０，１１）。 （もっと読む）

【課題】対象面に対して光を照射し、その反射光を検出することによって当該表面の位置を検出するにあたって、適切な出射光量の値を簡易に決定できる技術を提供する。
【解決手段】光源から、光源に対して相対的に移動する対象面（基板Ｗの上面）に対して、出射光量を変化させながら間欠的に光を照射させるとともに、その反射光の光量分布データを受光部に取得させて、対象面内の異なる位置Ｐ（１），Ｐ（２），・・・Ｐ（Ｎ）で反射した反射光の光量分布データをサンプルデータとして次々と取得していく。続いて、取得された複数のサンプルデータのうち、受光量が許容範囲内にあるものを有効データとして抽出し、有効データを与えた最大の出射光量を、位置検出を行う位置検出用光源の出射光量の最適値とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、消費電力が少なく長寿命で、かつ必要な波長域の光を必要な光量で効率よく出射して露光することができる露光装置および光源装置が得られる。。
【解決手段】 光源ユニット４１は、第１のＬＥＤアレイ４１１、第１のレンズアレイ４１２、第２のＬＥＤアレイ４１３、第２のレンズアレイ４１４、ダイクロイックミラー４１５、第３のレンズアレイ４１６、第１の結像光学系４１７を備える。第１のＬＥＤアレイ４１１は、中心波長３８５ｎｍの光を出射する。第２のＬＥＤアレイ４１３は、中心波長３６５ｎｍの光を出射する。ダイクロイックミラー４１５は、第１のＬＥＤアレイ４１１の発光部４１１ｃの像に第２のＬＥＤアレイ４１３の発光部４１３ｃの像を重ねて合成する。
（もっと読む）

【課題】パターンのＣＡＤデータを補正する複雑な処理を行うことなく、基板に描画されるパターンの走査方向への伸びを効果的に抑制して、描画精度を向上させる。
【解決手段】描画制御部（７１）は、描画するパターンの走査領域における走査方向の長さよりも短い走査範囲の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路
（２７）へ供給する。演算回路（８５）は、メモリ（８２）に記憶された座標データから、基板に対し光ビームの照射を開始する位置と、光ビームの照射を終了する位置とを決定する。補正回路（８７ａ）は、演算回路により決定された光ビームの照射を終了する位置を補正して、走査範囲を短くする。描画データ生成回路（８６）は、演算回路により決定された光ビームの照射を開始する位置と、補正回路により補正された光ビームの照射を終了する位置との間の描画データを生成する。 （もっと読む）

【課題】高速移動時においてもステージの位置精度を向上する。
【解決手段】パターン描画装置１では、ステージ移動機構２が、定盤１１の定盤面１２に平行に伸びるとともにそれぞれの先端部がステージ３に接続される第１シャフト２１１および第２シャフト２２１、第１シャフト２１１および第２シャフト２２１を進退させる第１シャフト進退機構２１２および第２シャフト進退機構２２２、並びに、第１シャフト進退機構２１２を回動するシャフト回動機構２３を備える。これにより、複数のリニアガイドや支持台が上下方向に積み重ねられたステージ移動機構に比べて、ステージ移動機構２の重心を低くすることができる。その結果、ステージ３の高速移動時においても、ステージ３のピッチングを防止してステージ３の移動制御における位置精度を向上することができる。 （もっと読む）