【課題】高出力でかつ品質の安定したパターン露光装置を提供する。
【解決手段】平行光ビームとワークとを相対的に移動させ、前記平行光ビームにより前記ワークにパターンを露光するパターン露光装置において、前記平行光ビームを主走査方向に走査させる主走査手段と、前記ワークを副走査方向に走査させるステージと、前記平行光ビームを出射するための、活性層に沿う方向が前記主走査方向に対して垂直であるマルチモードの半導体レーザとを備え、前記ワークの任意の露光箇所を前記平行光ビームで露光することを特徴とするパターン露光装置。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルな基板を用いても、高い精度で薄膜トランジスタを形成することができる薄膜トランジスタの製造装置およびその製造方法、ならびにプログラムを提供する。
【解決手段】本発明は、基板上にゲート電極、ゲート絶縁層、半導体層、ソース電極およびドレイン電極が少なくとも設けられた薄膜トランジスタの製造方法である。ソース電極およびドレイン電極を形成する工程において、基板の歪み、または基板の伸縮率に基づいて、露光データを、スケーリング処理を用いて薄膜トランジスタのチャネル長を固定した状態で補正して第１の補正データを作成する。この第１の補正データに基づいて、ソース電極およびドレイン電極の形成領域にレーザ光を照射し、その形成領域を親液性にする。この形成領域に、ソース電極およびドレイン電極となる液滴を、打滴データに基づいて打滴する。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システムを提供する。
【解決手段】照明システムは、ミラー配列１４０によって反射される光の角度分布を変更するための互いに独立に変位可能な複数のミラーユニット１４１，１４２，１４３を有するミラー配列１４０と、異なるミラーユニット上に入射する少なくとも２つの異なる偏光状態を生成するために、光伝播方向にミラー配列１４０の前に配置された少なくとも１つの要素１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】 光学ヘッドの位置が設計時の位置から位置ずれを起こしている場合でも描画処理ごとに光学ヘッドのステージに対する位置ずれを取得することができるパターン描画装置およびパターン描画方法。
【解決手段】 ステージ上の蛍光材６１が塗布された第１基準マーク６０上に、第２基準マーク６２を描画し、該描画によって生じる第１基準マーク６０上からの第２基準マーク６２の形状に対応した励起光を受光することで第１基準マーク６０および第２基準マーク６２の像を取得する。第１基準マーク６０と第２基準マーク６２の相対位置関係を算出することで、光学ヘッドのステージに対する位置ずれを取得することができる。相対位置関係に基づき描画される所定のパターンの位置を制御して、所定のパターンの描画を実行することで、光学ヘッドが設計時の位置からずれている場合でも、該位置ずれを補正して所定のパターンを描画することができる。 （もっと読む）

【課題】描画対象物におけるパターンの形成位置の制御を簡便な構成で可能として、コストの低減を図る。
【解決手段】基板Ｗを支持するステージ１０に固定的に形成された複数の基準線Ｌrが副走査方向Ｘに並んでいる。また、光学ヘッド４２、４３との相対位置関係が固定された状態で基準線Ｌrに対向するラインカメラ５０が設けられており、このラインカメラ５０によって基準線Ｌrを撮像する。このように、副走査方向Ｘに並んで形成された基準線Ｌrをラインカメラ５０で撮像するといった構成を備えることで、エンコーダを用いた従来技術と比較してより簡便な構成によって、基板Ｗに形成されるパターンの副走査方向Ｘへの位置を制御することができる。その結果、コストの低減を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】電気光学結晶への電荷の残留を解消することで、電気光学結晶の内部に形成される回折格子の回折効率のオフセットを抑え、回折格子による適切な光変調の実現する。
【解決手段】交流信号をデータ信号によって振幅変調させた振幅変調信号を電気光学結晶に印加する。これによって、電気光学結晶には正側負側の両側に振動する信号が印加されることとなり、電気光学結晶への電荷の残留が解消することができる。その結果、電気光学結晶の内部に形成される回折格子の回折効率のオフセットを抑えて、回折格子による適切な光変調の実現が可能となる。 （もっと読む）

【課題】下地パターンに対して描画パターンを高精度に重ねて描画する。
【解決手段】描画パターンを記述した露光量情報を有する設計データに対して２種類のラスタライズ処理を実行して２種類の描画データＤ２Ａ，Ｄ２Ｂを生成している。つまり、上記設計データがラスタライズ開始位置Ａよりラスタライズされて第１の描画データＤ２Ａが生成されるのみならず、ラスタライズ開始位置Ａに対し、画素ＰＸのＸ方向の画素サイズよりも小さなシフト量だけＸ方向にシフトしたラスタライズ開始位置Ｂより上記設計データがラスタライズされて第２の描画データＤ２Ｂが生成される。そして、各ブロックパターンの位置ズレを補正するための補正量に応じた描画データによりブロックランレングスデータを補正し、当該ブロックランレングスデータに基づき描画処理が実行される。このように、画素サイズよりも細かいシフト量で描画位置が補正される。 （もっと読む）

【課題】より簡単に描画装置の能力を検査し、必要があれば補正する。
【解決手段】描画装置の検査装置が、一方が他方を囲むような形状を有する第１マーク及び第２マークを含む描画データが記憶されている記憶装置と、描画データに基づいて描画装置に第１マークを描画させる第１描画部（露光制御部２０１ｄ等）と、描画された第１マークの位置を検出する第１検出部（描画位置検出部２０１ｉ）と、描画データと第１マークの検出位置とに基づいて描画データを補正する補正部（データ補正部２０１ｅ）と、補正された描画データに基づいて、描画装置に第２マークを描画させる第２描画部（露光制御部２０１ｄ等）と、描画された第２マークの位置を検出する第２検出部（描画位置検出部２０１ｉ）と、第１マークの検出位置と第２マークの検出位置とに基づいて両者の位置ずれ態様を求めるずれ取得部（データ処理部２０１ｋ）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】製品の歩留りを向上させることができる画像記録方法、および画像記録システムを提供する。
【解決手段】描画パターンが形成される被描画体の露光面の凹凸形状を形状測定器で測定する。これにより得られた凹凸形状の変位データを波形鈍化処理部８１で補正して、プリズムペアによる光ビームの焦点調節が可能となるようにする。波形鈍化処理部８１を経た変位データと、元の変位データとの差分を差分算出部８２で算出する。差分算出部８２で得られた差分の最大値と閾値とを露光可否判定部８３で比較し、この比較結果に基づいて、露光可否を判定する。露光可能であると判定された場合、波形鈍化処理部８１を経た変位データに応じて、プリズムペアの駆動を制御する。露光不可であると判定された場合は、露光記録は行わない。 （もっと読む）

【課題】 光学系の設計を複雑にせず安定した重ね合わせ描画を行うための描画装置および描画方法。
【解決手段】 撮像部５０と光照射部４０とを備え、撮像された画像と撮像時のステージ１０の移動誤差とから基板の変形に起因する下層パターンの位置ずれ量を算出する。次に撮像後から照射時までの間にステージ１０の移動誤差を検出することで、検出時の移動誤差と光ビームが照射される照射時の実際のステージの移動誤差との差分である相対誤差の変動幅を小さくすることができる。そして、検出された移動誤差と下層パターンの位置ずれ量とを加算し上層パターンの形成位置を算出する。該位置に基づいて光ビームを照射することでステージ１０の移動誤差に起因した位置ずれに対しても、光学系を複雑にすることなく安定した重ね合わせ描画を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】サーボ情報を正確に読出しできるサーボパターンを形成可能な露光パターンを描画する。
【解決手段】両位相サーボ部のパターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂの描画時に、これらを構成する露光領域Ａ１および非露光領域Ａ２のうちの回転方向で並ぶ一組の領域Ａ１，Ａ２の各半径位置毎の回転方向に沿った合計長をそれぞれ第１の長さとしたときに、両パターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂの一方の領域Ａ１における回転方向と交差する辺の半径方向に対する交差角度と、他方の交差角度との同一の半径位置における角度差が最大となる半径位置を含む領域内において、１つのサーボトラックＳＴにおける第１の長さの範囲内への描画用ビームの総照射量を第１の長さで除した第１の値が、同一の半径位置において、両パターンＰＳ５ａ，ＰＳ５ｂのうちのトラックＳＴ内の交差角度が小さい一方よりも、交差角度が大きい一方の方が大きくなるようにビームを照射する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、、製造しようとする基板に応じて補正の方法を選択できるようにして、後工程や用途等の使用形態に適合するように描画データの補正をおこなうことができる描画データの補正装置および描画装置を提供する。
【解決手段】 描画データの補正装置において、補正方法選択手段は、入力される補正情報に応じて複数のデータ補正手段を選択して使用して、位置決めマークの位置情報に基づいて描画データの補正を行う。描画装置は、その補正した描画データＤＤにより基板に描画を行う。 （もっと読む）

【課題】開口部を有する基材の少なくとも片面に樹脂層を形成する工程、開口部上の樹脂厚みを表面上の樹脂層の厚みよりも薄くする工程、アルカリ水溶液によって樹脂層を薄膜化することで開口部上の樹脂層を除去する工程を含む樹脂開口方法において、樹脂層と基材の界面に混入した気泡を原因とする不要な樹脂開口を低減し、尚且つ、開口部上の樹脂開口率を低下させない樹脂開口方法を提供するものである。
【解決手段】開口部を有する基材の少なくとも片面に樹脂層を形成する工程、開口部を中心として開口部直径の４．０から５．２倍の領域以外の領域を露光する工程、開口部上の樹脂層の厚みを表面上の樹脂層の厚みよりも薄くする工程、アルカリ水溶液によって未露光部の樹脂層を薄膜化する工程をこの順に含むことを特徴とする樹脂開口方法。 （もっと読む）

【課題】 感光性材料を高い精度で３次元形状の構造体に形成する。
【解決手段】 基材に塗布された感光性材料に光を照射する光源を有する露光ユニットと、基材が配置されるテーブルとを備え、光源から感光性材料に光が照射されるときに光源または感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて光源の感光性材料に対する照射位置が変化し、感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光を光源から感光性材料に照射して感光性材料の所望の部分を選択的に露光することで３次元形状の構造体を形成する。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む固体化合物表面乃至は、予め透明性材料膜が形成されたＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む固体化合物表面に、膜厚変化を誘起せずに、微細な凹凸構造を形成する手法を確立する。
【解決手段】任意の基体１上に高分子製プライマー２を介してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む固体化合物膜３乃至は、透明性材料膜と固体化合物膜３との積層構造を形成し、その表面から波長１９０ｎｍより長く４００ｎｍ以下の光を照射することにより、固体化合物膜３乃至は、透明性材料膜とＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む固体化合物膜３の積層構造に、膜厚変化を与えることなく、露光部分のみをマイクロ／ナノオーダーで沈下させる。 （もっと読む）

【課題】複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器を用い、多重露光を行って基板にパターンを描画する際、描画データの量を増やすことなく描画品質を向上させて、高速かつ高精細にパターンの描画を行う。
【解決手段】光ビーム照射装置（２０）の空間的光変調器（２５）の１つのミラーで反射された光が基板へ照射される領域と、他のミラーで反射された光が基板へ照射される領域が、光ビームによる基板の走査に伴って部分的に重なる多重露光を行って、基板にパターンを描画する。基板に描画するパターンの図形の座標データから、描画の要否を判定するサンプリング点を解像度の大きさの露光領域（２ａ）毎に周期的に変動させて、描画データを生成し、生成した描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路（２７）へ供給する。 （もっと読む）

【課題】周方向にグルーブパターンとサーボパターンが交互に配置されてなる微細パターンを電子ビーム走査により描画する際の、各パターンの周方向描画位置の精度を向上させる。
【解決手段】回転ステージを回転させつつ、電子ビームを走査して原盤にパターン描画を行うに際して、ある所定領域へのサーボパターンの描画を開始する際に、その直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、そのデータ信号の一部を破棄して、ある所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始する。 （もっと読む）

【課題】複数枚の個別基板となる領域が形成された基板を露光する際に、短い露光タクトで高精度且つ高解像度の露光を行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、光源１１とマスク１２とを透過した露光光が入射され、正立等倍像を基板上に結像させる複数個のマイクロレンズが所定の規則性をもって配置されたマイクロレンズアレイ１３が設けられている。そして、基板２が所定位置に到達したときに、光源１１からパルス的にレーザ光を照射して、基板を順次露光し、基板の露光対象領域の全域が露光された後、マイクロレンズアレイ１３とマスク１２との相対的な位置関係を、マイクロレンズ１３１の行ピッチだけ、列方向に順次切り替えて、次順の露光を行う。 （もっと読む）

【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送路２の上方において、基板搬送方向に交差する方向に配列された複数の発光素子Ｌを有する光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記被処理基板が前記光源の下方を搬送されない状態で、前記被処理基板に対する前記光源からの光照射位置に沿って基板幅方向に進退可能に設けられ、前記光源により照射された光の照度を検出する照度検出手段３１と、前記照度検出手段が検出した照度と前記発光素子の駆動電流値との関係を相関テーブルＴ２として記憶すると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【目的】レジストヒーティングによる影響を抑制することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、レジストが塗布された描画対象となる試料の描画領域が仮想分割された複数の小領域のそれぞれの小領域内に配置される複数の図形パターンの各パターンデータであって、図形パターン毎に、当該図形パターンが所属する小領域内でさらに複数のグループの１つに振り分けられるための振り分け識別子が定義された各パターンデータを記憶する記憶装置１４０と、グループ毎に描画順序が並ぶように、各小領域に当該小領域に配置される各パターンデータを割り当てるＳＦ割当部５６と、電子ビームを用いて、グループ毎に、各小領域に当該小領域に配置される各図形パターンを描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）