【課題】被照射体を傾ける必要がなく、通常の密着露光装置または近接露光装置に被照射体と平行に設置して、１度の露光で複数の異なる角度の斜め露光を、被照射体に対して行うことができるフォトマスクを提供すること。
【解決手段】露光装置より照射されたフォトマスクに垂直な平行光を、被照射体に傾斜させて出射するフォトマスクであって、透明基板の照射面側に、回折光学素子が形成され、透明基板の出射面側に、回折光学素子からの回折光を選択的に透過する光透過部のパターンが形成される。 （もっと読む）

【課題】基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送手段２０と、被処理基板Ｇに対する露光処理空間を形成するチャンバ８と、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子Ｌを有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段３０と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光工程時において専用のマスク板を必要としないパターン形成方法を提案する。
【解決手段】配線パターン状にニッケル膜２６を含むクロム・ニッケル積層体２７が形成された石英ガラス基板１１の表面１１ａ側にネガレジスト３１をコーティングする。その後、ガラス基板１１の裏面１１ｂ側から露光光３２を照射して、クロム・ニッケル積層体２７をマスクとして利用してネガレジスト３１を露光する。その後、露光されなかったネガレジスト３１を除去してニッケル膜２６を露出させる。そして、ニッケル膜２６の上に金を積層し、ネガレジスト３１を剥離して金めっき配線を得る。なお、クロム・ニッケル積層体２７のうちクロム膜２５は省略できる。 （もっと読む）

【課題】機械強度に優れた微細パターンを有するナノインプリント用スタンパ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態のナノインプリント用スタンパは，金属および筒状炭素分子を含む突起部を有し，前記金属を含む基体である。ナノインプリント用スタンパの製造方法では，基板上への金属から成る触媒層の形成工程，及び触媒層をエッチングして凹凸パターンを形成する工程を経て，ナノインプリント用スタンパが製造される。 （もっと読む）

【課題】 パターンの形成にかかる時間を短縮するパターン形成方法、磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 ハードマスクが成膜された基板にレジストを塗布し、レジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして前記ハードマスクをエッチングしてハードマスクパターンを形成し、前記ハードマスク上にレジストを塗布し、電子ビーム描画を行って第２のレジストパターンを形成し、前記第２のレジストパターンをマスクとして前記ハードマスクをエッチングして第２のハードマスクパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】多段構造の寸法精度を向上したインプリントモールドの製造方法およびインプリントモールドを提供することを課題とする。
【解決手段】３次元の多段構造パターンを有するインプリントモールドの製造方法において、第１基板１１を選択的に除去して第１凹部パターン１４を形成する工程と、この工程で第１凹部パターン１４が形成された第１基板１１に、第２基板１５を貼り合わせる工程と、第２基板１５を選択的に除去して第２凹部パターン１６を形成する工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れたスループットを実現できる導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面および第２の波面を有する基体と、第１の波面上に形成された導電層とを備える。導電層は、導電パターン部を形成し、第１の波面および第２の波面が、０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

直接書込機械中で加工物に描画するための整列方法。ボード参照造形物を備えた参照ボードを利用して、共通の参照に対する、計測ステーション及び書込ステーションの較正を整える。加工物上に書き込まれる調節パターンは、参照ボードの位置に対して算出される。 （もっと読む）

【課題】大型のフォトマスクを用いることなく精度よく配向処理を行うことができる配向処理方法および配向処理装置を提供する。
【解決手段】基板上に形成した配向膜に、フォトマスクを介して光エネルギを照射して前記配向膜表面に配向特性を与える配向処理方法であって、前記フォトマスクを、前記基板に形成された線状パターンに沿って相対的に移動させると共に、前記線状パターンと、前記フォトマスクに形成された基準パターンとの位置関係からズレ量を検出し、前記フォトマスクを、前記基板の移動方向と直交する方向に移動させてズレ量を補正させる。 （もっと読む）

【課題】中間層を用いることなく、回折格子の寸法誤差を大きくすることのできる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】平板状の支持部３１と、支持部３１と屈折率の異なる断面矩形状の部分３２ｂが支持部３１と交互に周期的に形成された回折部３２と、を有する回折格子３の入射面３ａへ、垂直にレーザ光を入射させる露光方法であって、回折部３２の断面矩形状の部分３２ｂの高さを回折格子３の０次及び±２次以上の高次の回折光の強度が±１次の回折光の強度の１１％以下となるよう設定して、対象物へ露光を行う。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントを利用した金属酸化薄膜パターンの形成方法及びＬＥＤ素子の製造方法を提供する
【解決手段】基板１０に感光性金属有機物前駆体層３０を形成段階と、モールド２０を準備する段階と、前記モールド２０で前記感光性金属有機物前駆体層３０を加圧する段階と、前記加圧された層を加熱するか、または加熱すると同時に紫外線を照射して硬化された金属酸化薄膜パターン３１を形成する段階と、前記モールド２０を前記金属酸化薄膜パターン３１から除去する段階とを含み、選択的に、前記金属酸化薄膜パターン３１を焼成する段階をさらに含む。これにより、レジストとして使用するために紫外線レジンを別途に塗布する工程が省略されるので、パターンの形成工程が簡素化され、単一インプリント工程によりマイクロ・ナノ複合パターンを形成できる。 （もっと読む）

【課題】高解像度有機薄膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】高解像度有機薄膜パターンの形成方法に係り、（ａ）基板上に第１有機層を形成する段階と、（ｂ）第１有機層に選択的に光エネルギーを照射し、第１有機層を選択的に除去し、第１有機層の残っている部分に犠牲層を形成する段階と、（ｃ）基板及び犠牲層上の全面に、第２有機層を形成する段階と、（ｄ）ソルベントを使用し、犠牲層を除去し、犠牲層上に形成された第２有機層をリフトオフすることによって、残っている第２有機層に第２有機層パターンを形成する段階と、を含む有機薄膜パターンの形成方法である。 （もっと読む）

【課題】熱ナノインプリント法における熱可塑性高分子の剥がれや、ウェットエッチング液やめっき液の、レジスト内や金属層とレジストとの界面への浸入を抑制する基板を提供する。
【解決手段】基板層１、金属酸化物表面を有する金属層２、下記式に示す、紫外線照射により接着性を発現する感紫外線化合物層３、および熱可塑性高分子層４とをこの順で有する。


（Ｒ１〜Ｒ３：Ｈ、Ｃ１〜６の炭化水素基等、Ｘ：Ｏ、ＯＣＯ、ＣＯＯ、ＮＨ、ＮＨＣＯ、ｍ：１〜２０、Ｒ４：Ｃ１〜３の炭化水素基、Ｙ：Ｃ１〜３のアルコキシ基、ハロゲン原子、ｎ：１〜３。） （もっと読む）

【課題】インプリントテンプレートを比較的低いコストで作成する。
【解決手段】無機剥離層とインプリント可能な媒体の層とを有する基板を用いてインプリントテンプレートを形成する方法が開示される。この方法は、マスタインプリントテンプレートを用いてインプリント可能な媒体にパターンをインプリントするステップと、インプリント可能な媒体を固化させるステップと、インプリント可能な媒体と無機剥離層とをエッチングして無機剥離層内にパターンを形成するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】高分解能寸法でピッチを有するパターンのフィールド全体にわたり所望のコントラストを生成する干渉リソグラフィのシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】干渉型リソグラフィシステムは、鋭いフィールドエッジおよび最小の光路長差を有するパターンを生成する。ビームスプリッタで生成された２つのビームは、基板プリズムに向けた入力プリズムの個々の表面で反射する。基板プリズムは、イメージ平面での入射角がビームスプリッタ回折角にほぼ等しくなるように、入力プリズムに対して対称となっている。代案として、ビームスプリッタで生成された２つのビームは、出力表面での入射角がビームスプリッタの回折角にほぼ等しくなるように、プリズムの出力表面に向けてプリズムの個々の表面で反射される。これらの複数の干渉計は積層することができ、その各々は積層体が可変ピッチ干渉システムを提供するように、特定のピッチに対して最適化される。 （もっと読む）

【課題】良品質の露光像を短いタクト時間且つ低コストな装置構成で実現することのできる露光装置及び露光方法を提供すること。
【解決手段】光源装置５と、基板Ｋを載置するステージ３と、ステージに対し等速度で相対移動可能に設けられ且つステージの上部に平面視が相対移動の方向Ｘについて段違いに斜め列となる様に配置され各々ＤＭＤ７２により形成されるマーキング表示７２Ｍをレーザ光により基板上に照射するように構成された複数の露光ユニット７と、隣合う露光ユニットにおける一方の露光ユニットの露光終了位置Ｐ０から他方の露光ユニットの露光開始位置Ｐ１までの距離Ｄ１をステージと露光ユニットとが相対移動する毎に、基板上を最初に通過する露光ユニット７Ａから基板上を最後に通過する露光ユニット７Ｃへ向かう順序で、各露光ユニットが基板上に照射するレーザ光を切り替える切替手段６５，７５とを設ける。 （もっと読む）

【課題】クリーンルーム内の露光装置の前まで行かずにレシピを作成することにより、効率良く容易にしかもミスも無く作成されたレシピを使用することができる露光装置の制御方法を提供する。
【解決手段】露光装置１から離れた場所にあるコンピュータ１００に予め露光装置の装置情報１１０を格納しておき、当該コンピュータに、使用する予定のマスクおよび基板の情報１３０を入力することで、当該コンピュータ上で、装置情報を参照しながら露光作業を行うためのレシピ１２０を作成し、そのレシピを、可搬式の記憶媒体２００を介して、あるいはデータ転送路を介して、露光装置の制御装置５内部の記憶部６に格納する。 （もっと読む）

【課題】光硬化性樹脂組成物の溶融等する温度を調整することにより、熱インプリントや光インプリントによる生産性を高め、また安価に、高精度な微細成形品を製造する方法を提供する。
【解決手段】固体エポキシ化合物と液状エポキシ化合物と光重合開始剤とを含有し、加熱により溶融又は軟化する、固体光硬化性樹脂組成物を用いて、（ａ）基材上に未硬化樹脂層４１を形成する工程、（ｂ）未硬化樹脂層４１を溶融又は軟化する温度に加熱した状態で、型３９を押圧接触させ、押圧接触状態を保持したまま再固形化する温度に冷却した後、離型して一次成形体４１′を形成する工程、（ｃ）一次成形体４１′にフォトマスク７を介して選択露光して選択硬化させる工程、（ｄ）未露光部分を除去して樹脂成形体６を形成する工程を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明が解決しようとする課題は、溶剤系インクでありながら、感光層への影響を抑え、露光現像して製造した印刷版でも設定した印刷ができ、また、インクジェットプリンタの部品にも影響が少ない製版マスキング用インクジェットインクを提供することである。
【解決手段】支持体の感光層にピエゾ式インクジェットプリンタにて印刷して露光現像する製版方法に用いる製版マスキング用インクジェットインクであって、水や硬化性樹脂を含まず、顔料と有機溶剤からなり、顔料が３〜８重量％であり、有機溶剤が２−ブタノールもしくは２−メチル−２−ブタノールであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上する。
【解決手段】被露光体８を矢印Ａ方向に搬送しながら、各露光パターンに対応する複数種のマスクパターン群を被露光体８の搬送方向に所定間隔で並べて形成したフォトマスク１１の第１のマスクパターン群１２を使用して行う被露光体８の第１の露光領域９に対する露光が終了すると、フォトマスク１１を被露光体の搬送速度に同期して移動して第１のマスクパターン群１２から第２のマスクパターン群１３に切り替え、フォトマスク１１のマスクパターン群の切り替えが終了すると、該フォトマスク１１の移動を停止して第２のマスクパターン群１３により被露光体８の第２の露光領域１０に対する露光を実行し、被露光体８の搬送方向に所定間隔で設定された複数の露光領域毎に異なる露光パターン２４，２５を形成する。 （もっと読む）