【課題】計測用光学系の偏光特性の影響を軽減させて、被検光学系のジョーンズ行列で表される偏光特性を計測する。
【解決手段】投影光学系及び対物光学系よりなる光学系を介して偏光状態の異なる複数の光のストークスパラメータを計測してその光学系の第１のジョーンズ行列を求めるステップ１０６〜１１１と、対物光学系の瞳面を移動するステップ１１２と、その光学系の第２のジョーンズ行列を求めるステップ１１３と、その第１及び第２のジョーンズ行列のリー環表現上での差分情報を用いて投影光学系ＰＬ及び対物光学系１６Ｓの個別のジョーンズ行列を求めるステップ１１５、１１６とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パターンの製造方法に関し、特に、レーザーを用いてパターンを製造する方法に関する。
【解決手段】パターンの製造方法は、基板上に金属有機インク層（20）を形成する第1の段階；前記金属有機インク層（20）を半固体状態に硬化させる第2の段階；前記半固体状態の金属有機インク層（20）にレーザー光を照射し、照射された部分が固体状態に硬化されてパターンが形成される第3の段階、および、前記半固体状態の金属有機インク層（20）を除去して、前記パターンだけを残す第4の段階を含む。 （もっと読む）

【課題】複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器を用い、多重露光を行って基板にパターンを描画する際、多量の描画データを空間的光変調器の駆動回路へ高速に供給する。
【解決手段】多重露光を行って基板１にパターンを描画する際、描画データを、光ビームによる基板１の走査方向と直交する方向において、光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）の隣接するミラー２５ａの中心点間の距離に応じた等間隔の座標毎に分けて、等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２に記憶し、光ビームによる基板１の走査に伴い、描画データを等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２から読み出して光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給する。 （もっと読む）

【課題】液晶基板の配向膜に細かいピッチの線状の光パターンを照射して一方向に走査すると、その走査した方向に応じた一様な配向特性（プレチルト角）が配向膜に付与されるが、従来のマスクを介して光パターンを照射して露光する方式では露光の時間が長くかかり、実用化する上でネックになっていた。
【解決手段】光源から発射された露光光に偏光特性を付与して微小な可動ミラーを多数備えたマイクロミラーデバイスに入射させ、マイクロミラーデバイスの微小な可動ミラーにより形成された反射パターンで反射された露光光のパターンを投影光学系を介してステージに載置された表面に配向膜が形成された基板に投影して配向膜を露光する液晶用配向膜を露光する方法において、ステージを一方向に連続的に移動させることにより一方向に連続的に移動している基板上を露光光のパターンがステージの移動速度よりも遅い速度で移動して配向膜を露光するようにした。 （もっと読む）

【課題】レーザー光を露光光源に用いた際の膜厚均一性を確保することができる赤色感光性樹脂組成物を提供し、小型マスクスキャン露光方式の実用化を可能とするものである。
【解決手段】少なくとも赤色着色材、樹脂、重合性モノマー、光開始剤ならびに溶剤を含有し、光源にレーザー光を用いたプロキシミティ露光工程を含むフォトリソグラフィー法により赤色画素を形成する赤色感光性樹脂組成物であって、前記赤色感光性樹脂組成物の固形分中における前記重合性モノマー、光開始剤の含有量がそれぞれ５〜１５重量パーセント、２〜５重量パーセントであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光ビーム方式において発生する被描画体の描画パターンの変形を簡単な方法で、短時間で補正できる露光装置及び露光方法を提供する、あるいは、本発明の露光装置または露光方法を用いることでスループットの高い表示用パネル基板製造装置または表示用パネル基板製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、光ビームを光ビーム照射装置で照射し、前記基板へ描画する描画データを作成し、前記基板にパターンを描画するに際し、前記基板に設けられた複数のアライメントマークを撮像し、前記描画データの作成は、前記描画する描画点に対応して前記複数のアライメントマークで結ぶ辺に対して予め規定される前記描画点の座標比率に基づいて前記描画点の位置を決め、前記描画データを作成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多くの複雑なプロセスを用いることなく、より迅速に様々な微細な立体構造が形成できるようにする。
【解決手段】レジスト膜１０２に電子ビームおよびイオンビームを照射して電子ビームが照射された第１露光部１０３およびイオンビームが照射された第２露光部１０４を形成する。なお、イオンビームの照射により第１露光部１０３を形成し、電子ビームの照射により第２露光部１０４を形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】同種の基板の基板搬送方向と交差方向にオフセットした位置に光を照射する場合にも、移動中の基板に対する追従性を良好にする。
【解決手段】基板の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで形成され、光を通過させる複数のマスクパターン２と、基板上に設けられた複数のパターンの基板搬送方向と交差方向の配列ピッチの整数倍に等しい間隔を有して基板搬送方向に平行に形成された一対の細線４ａ，４ｂを備えた構造をなし、複数のマスクパターン２に対して基板搬送方向と反対側の位置に基板搬送方向に相互に一定距離はなれて配置されると共に、一対の細線４ａ，４ｂ間に予め設定された基準位置が基板搬送方向と交差する方向に予め定められた距離だけ相互にずれた状態に形成された複数のアライメントマーク４と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】それまで使用されていた光学素子と構成が異なる光学素子を使用する場合に、光量分布に関して必要に応じて互換性を維持する。
【解決手段】照明方法において、第１の照明瞳面における光量分布を設定する回折光学素子を経由した光で第１被照射面を照明することと、その第１の照明瞳面の光量分布を計測し、この計測結果を第１光量分布として記憶することと、第２の照明瞳面２２Ｐにおける光量分布をその第１光量分布とほぼ同じ分布に設定可能な空間光変調器１３を経由した光で第２被照射面を照明することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】水素ラジカルジェネレータによって生成され、リソグラフィ装置の光エレメント上に堆積した汚染物質を低減させる方法を提供する。
【解決手段】本実施形態に係る方法は、水素ラジカルジェネレータの金属フィラメントの金属酸化物を含む第１部分の温度が金属酸化物の蒸発温度以下である還元温度である場合に、水素分子を金属フィラメントの第１部分に通過させることを含む。 （もっと読む）

【課題】各半導体発光素子と各拡大レンズとの光軸調整を容易に精度良く行う。
【解決手段】レーザー光源６７とピンホール６３ａが設けられた遮光板６３とを有する光軸調整装置６０を用いて、光軸調整装置６０のレーザー光源６７から発生したレーザー光を、各拡大レンズ４３を通して光軸調整装置６０の遮光板６３へ照射し、レーザー光が遮光板６３のピンホール６３ａを通過する様に、各拡大レンズ４３を遮光板６３に対して位置決めした後、各半導体発光素子４２から発生した光を、各拡大レンズ４３を通して光軸調整装置６０の遮光板６３へ照射し、遮光板６３のピンホール６３ａを通過した光の強度が最大となる様に、各半導体発光素子４２を各拡大レンズ４３に対して位置決めする。そして、各半導体発光素子４２と各拡大レンズ４３とを、互いに位置決めした状態で一緒に設置する。 （もっと読む）

【課題】
レーザ装置の製造時の機差によるＥ９５幅等のスペクトル幅のばらつきや、レーザ装置の交換やメンテナンスに伴うＥ９５幅等のスペクトル幅のばらつきを抑制し、半導体の露光装置が形成する集積回路パターンの品質を安定させる。
【解決手段】
先ず予め複数の狭帯域化レーザ装置に共通するスペクトル幅の上限値と下限値とを設定しておく。そして、狭帯域化レーザ装置のメンテナンス時や出荷時など、狭帯域化レーザ装置を半導体露光の光源として使用する前に、狭帯域化レーザ装置をレーザ発振してスペクトル幅を検出する。この際、スペクトル幅が予め設定した上限値と下限値との間の値になるように、狭帯域化レーザ装置に備えられたスペクトル幅調整部を調整する。 （もっと読む）

【課題】容易かつ効果的に洗浄されるリソグラフィ装置、及び液浸リソグラフィ装置を効果的に洗浄する方法を提供する。
【解決手段】表面を洗浄するメガソニックトランスデューサを有する液浸リソグラフィ投影装置、及び液体を通じてメガソニック波を使用して液浸リソグラフィ投影装置を洗浄する方法が開示される。液体には流れ、望ましくは放射状流れが誘起される。 （もっと読む）

【課題】 マスクレス露光工程で仮想のマスクを用いてレイヤ別にオーバーレイする方法を通してマスクレス積層露光を行うことができる整列方法を提案する。
【解決手段】 マスクレス露光で既存のマスク露光のマスクと同一の役割をする仮想のマスクという概念を導入し、既存のマスク露光の整列マークと同一の役割をする仮想のターゲットマークという概念を導入してレイヤ別にオーバーレイを行うことによって、マスクレス露光でも積層露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの歪みを防止して、描画精度を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０から照射される光ビームを受光する受光装置（ＣＣＤカメラ５１）を、チャック１０に設ける。検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給し、チャック１０に設けた受光装置により、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光する。光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置を検出し、受光装置により受光した光ビームの受光装置上の位置を検出し、光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置と、光ビームの受光装置上の位置とから、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームの歪みを検出し、検出結果に基づき、露光用の描画データの座標を補正して、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】基板への直接書込みシステムでは解像度は高いもののスループットが低く、改善が求められている。
【解決手段】走査方法において複数の独立してアドレスし得るサブビームからなる走査ビームを生成し、この走査ビームで複数回にわたり表面を走査し、その際、前記サブビームが横並び状でクロス走査方向に前記表面を走査すると共に、各サブビームを書き込むべき情報を反映するように変調しており、少なくとも二回の走査で表面の書込みエリアに書込みがなされるようにビームを重ねることよりなる表面にパターンを書き込む。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの強度分布を均一にして、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビームを受光して、受光した光ビームの強度を検出する検出装置（レーザーパワーメータ５１）を、チャック１０に取り付け、検出装置により、光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの照射領域２６ａの一部の同じ面積の複数の検査領域２６ｂへ照射された光ビームを、検査領域２６ｂ毎に受光して、各検査領域２６ｂの光ビームの強度を検出する。そして、検出装置が検出した各検査領域２６ｂの光ビームの強度の違いに応じて、各検査領域２６ｂの光ビームの強度が同じになる様に、描画データを補正する。 （もっと読む）

【課題】高い回折効率で光を回折することができる干渉縞が複数記録されたホログラムを安定して製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】ホログラム製造方法は、一つのレーザ光源４０から発生されたレーザ光Ｌ４０を、二以上の数の参照光Ｌｒ１〜Ｌｒ３および二以上の数の物体光Ｌｏ１〜Ｌｏ３として、ホログラム記録材料に同時に照射する工程を含む。レーザ光源から発生されたレーザ光は、分岐手段４５によって二以上の数の分岐光ＢＬ１〜ＢＬ３に分岐され、その後、各分岐光が、分離手段５０によって、それぞれ参照光および物体光に分離される。任意の二つの分岐光の、レーザ光源から当該分岐光に対応する各分離手段までの、光路長の差は、レーザ光のコヒーレント長より長い。 （もっと読む）

【課題】平網画像領域や小点画像領域を含む各種画像に対して安定した印刷濃度を得ることができる印刷用凸版を作成するための印刷用凸版作成装置、システム、方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】ラスタ画像データＩｒに基づいて２値画像データＩｂを生成し、各網点突起部２０４の高さを決定するための高さ変換マトリクスＭｈをラスタ画像データＩｒに基づいて生成し、生成された２値画像データＩｂに基づき形成される平網部Ａで網点突起部２０４の高さが複数の高さレベルからなる印刷用凸版Ｃを作成するため、生成された高さ変換マトリクスＭｈと２値画像データＩｂとに基づいて露光量データＤｅを生成し、生成された露光量データＤｅに基づいて版材Ｆを露光する。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム露光において、安定して急峻化した凸小点形状を形成する。
【解決手段】複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状であって、四辺を有する矩形の平面形状の周囲の領域である第１の領域について少なくとも４回の走査を行い、それぞれ１回の走査において少なくとも前記四辺のうちの一辺に隣接する領域を露光するとともに前記一辺を順に変更することで前記第１の領域を全て彫刻するマルチビーム露光走査方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）