【課題】マルチビーム露光に伴う周期的なスジムラを低減する。
【解決手段】所定の走査線間隔で記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域の周囲領域である第１領域に対しては、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用いたインターレース露光をＮ×ｍ回（ｍは２以上の整数）繰り返し行うことで各走査線をｍ回露光し、前記第１領域の外側である第２領域に対しては、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いたノンインターレース露光を行うマルチビーム露光走査方法によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】音響光学変調器で変調される１または複数の光源アレイによるダイレクトイメージングシステムを提供する。
【解決手段】ダイレクトイメージングシステムは、複数本のビームを放射するように構成される複数の光源を有する照明ユニット１００と、複数本のビームを整形して位置または角度をそろえる光学系６０と、位置または角度の一方がそろった複数本のビームを受けるとともに、音響波が音響方向に伝搬する際に、複数本のビームの異なる部分を連続して回折させるように位置決めされる音響光学変調器７０と、音響光学変調器で変調された複数本のビームを用いて、ある走査速度で露光面を走査するように構成される走査素子８０とを備え、走査速度は、複数本のビームの上記異なる部分を非コヒーレントに一体化して単一の露光スポットを得るように選択される。 （もっと読む）

【課題】ステージの駆動力が失われた場合に、部材同士の衝突事故の発生を回避しつつ、再開作業もスムースに行えるような技術を提供する。
【解決手段】基板移送装置１０は、基台１１と、上面に基板を載置する載置面１２０が形成されたステージ１２と、ステージ１２を基台１１に対して移動させるステージ駆動機構１５と、ステージ１２が、ステージ１２に対する基板Ｗの受け渡しが行われる受け渡し位置Ｑから移動しないように制動する制動部１６とを備える。制動部１６を制御する制動制御部９０１は、例えば、ステージ１２が受け渡し位置Ｑに配置されている状態において、ステージ駆動機構１５への電力の供給が遮断された場合に、制動部１６にステージ１２を支持するベースプレート１５４を制動させる。 （もっと読む）

【課題】高精度かつ迅速に、基板を適正な回転位置に位置合わせできる技術を提供する。
【解決手段】位置合わせ装置１００は、ステージ１１を回転させる回転機構１２１と、ステージ１１外からステージ１１の位置を測長して、当該測長値に基づいてステージ１１の回転角度θを特定する測長部１３と、ステージ１１に載置された基板Ｗを適正な回転位置におくために必要なステージの回転角度（目標回転角度θｏ）を特定する目標回転角度特定部２０１と、測長部１３で計測されたステージ１１の回転角度θを目標回転角度θｏに近づけることができるような回転機構１２１の制御パラメータＮを出力し、当該制御パラメータＮで回転機構１２１を駆動制御する回転制御部２０２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】汚染に起因する性能の劣化を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光の光路を第１液体で満たすように第１液体で液浸部を形成可能な第１部材と、第１部材から離れた位置で第２液体で液浸部を形成可能な第２部材と、所定部材と第２部材との間の第２液体に振動を与える振動発生装置とを備え、第２液体を用いて所定部材をクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】従来のＣＴＰシステムの制限および欠点を、それらの生産性を向上させることによって克服する。
【解決手段】複数の発光体を有するレーザダイオードアレイと、印加電界に従ってアレイからの光線を回折することができるＴＩＲ変調器と、アレイからのエネルギービームを等化することができる光学ミキサと、レーザアレイからのエネルギー光線を成形してミキサに向けることができる、第１光学構成要素群と、ミキサから出る光線を変調器に向けることができる第２光学構成要素群と、変調器から出る光線を、望ましくない回折光線を除去することができる当り部材に対して収束させることができるレンズと、当り部材から出た光線を放射線感応媒体に対して収束させることにより像を生成することができる結像対物アセンブリであって、変調器からの光線の発散を像幅に影響を与える選択した値に調節する手段を含む光学アセンブリと、を備える光学投射ヘッド。 （もっと読む）

【課題】被露光物の移動開始位置に依らず、被露光物を所望のパターンで精度良く露光することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１０は、照明光学系１１と、照明光学系１１からの光を所定の周期的な変調パターンで位相変調して出射する位相変調マスク２０と、位相変調マスク２０と被露光物１４との間の距離を制御する制御手段１８と、を備えている。位相変調マスク２０は、位相変調マスク２０により位相変調された光の回折光のうち０次の回折光を除く回折光によって被露光物が露光されるよう構成されている。制御手段１８は、干渉パターンの変動周期のｓ倍（ｓ≧１の整数）に対応する距離にわたって位相変調マスク２０と被露光物１４との間の距離を変化させる。 （もっと読む）

【課題】高い位置分解能にてパターンを描画する場合において、光軸方向における描画面の位置の許容範囲の減少を抑制する。
【解決手段】１組の固定リボンと可動リボンとの組み合わせである格子要素５を配列した回折格子型の空間光変調器にて空間変調された光を生成し、格子要素５の配列方向に垂直な方向に基板を移動することにより基板上にパターンを描画するパターン描画装置において、格子要素５が、可動反射面を経由する光路と固定反射面を経由する光路との光路長差が光の波長の０倍以上の整数倍に半波長を加えた長さとなるＯＦＦ状態、光路長差が光の波長の上記整数倍となるＯＮ状態、ＯＮ状態とＯＦＦ状態との間の中間状態、および、中間状態とＯＮ状態との間の不完全ＯＮ状態になることが可能である。パターンの描画時には、ＯＦＦ状態、中間状態および不完全ＯＮ状態の格子要素５がこの順で並ぶ。 （もっと読む）

【課題】ワークピース上に正確かつ迅速にナノメートル構造パターンを形成する。
【解決手段】複合プラットフォームはベースに据えられ、長ストローク移動ステージ１２と、圧電被駆動マイクロ・ステージ１３とを有する。長ストローク移動ステージは基準セット１４と、駆動装置１５とを有し圧電被駆動マイクロ・ステージは長ストローク移動ステージに接続され、作業プラットフォームを有する。測定フィードバック組立体２０はプラットフォーム組立体１０に堅固に据え付けられ、レーザ干渉計と、反射装置と、信号受信装置とを有する。レーザ作業組立体３０は、プラットフォーム組立体に据えられ、測定フィードバック組立体に電気的に接続され、レーザ直接書き込みヘッド３１と、制御インタフェース装置と、位置決めインタフェース装置３３とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板露光時、偏心発生を最小化することができるとともに、基板製品毎の変形量を予測して、適切な露光領域分割数を予め適用して露光することができる露光システム及び露光方法を提供する。
【解決手段】本発明による露光システム１００は、基板１２０に形成された整列マーク１２０ａを検出するための検出部１３０と、基板１２０に配置される基準露光マスクに関する基準座標データ及び基板変形量毎にマッチされる露光領域分割数が保存されている保存部１６０と、検出部１３０により検出された整列マーク１２０ａに関する実際座標データを算出し、前記算出された実際座標データと前記基準座標データとを比較して基板変形量を演算し、前記基板変形量とマッチされる露光領域分割数を保存部１６０から抽出して、前記露光領域分割数だけ分割された露光マスクを生成する制御部１５０と、制御部１５０により生成された露光マスクを利用して露光を行う露光部１４０と、を含む。 （もっと読む）

【課題】出力光のパワー制御を安定的に行うことができるレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置は、波長が紫外領域のＵＶレーザ光を出力するＵＶ光出力部Ｉと、波長が可視〜赤外領域のＶＩＲレーザ光を出力するＶＩＲ光出力部II,IIIと、ＵＶ光出力部Ｉから出力されたＵＶレーザ光とＶＩＲ光出力部から出力されたＶＩＲレーザ光とから、波長変換により波長がＵＶレーザ光よりも短いＤＵＶレーザ光を発生して出力するＤＵＶ光変換部IVと、ＵＶ光出力部及びＶＩＲ光出力部の作動を制御する制御部８とを備える。制御部８は、ＤＵＶレーザ光のパワーを変化させるときに、ＵＶレーザ光のパワーを略一定とし、ＶＩＲレーザ光のパワーを変化させる制御を行うように構成される。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の空間強度分布に時間変動がある場合でも安定なフォーカス状態を維持する光ディスク原盤露光装置を提供する。
【解決手段】ビーム形状の変化を読み取り、ビームの変動に合わせて４分割光ディテクタ１１３ｃの位置を補正することを特徴とし、ビーム形状の変化による４分割フォトディテクタ１１３ｃに入射するビームの光強度の空間強度分布の変動をキャンセルすることで、フォーカス状態の変動を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高解像度、高精度のレーザー露光装置による継ぎ目のないシームレスなシリンダータイプのホログラム版の製造方法、製造装置を提供することを課題とするものである。
【解決手段】シリンダーロールに直接描画によるホログラム母型版の製造方法に関して絵柄パターンにレーザー光を照射してできる干渉縞や回折格子パターンのデータを、描画データに変換するデータ変換装置と、その描画データをレーザービームとして出力する半導体レーザービーム高解像度描画装置とによって前記描画データをシリンダー上の感光性樹脂塗膜に露光、照射する工程と、その後、現像工程、水洗工程、エッチング工程、水洗工程、メッキ工程そして水洗工程をこの順に行うことによって継ぎ目のないシームレスホログラム母型シリンダー版が製造できるものである。 （もっと読む）

【課題】パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供する。
【解決手段】本発明のパターン形成方法は、Ｓｎを主成分とした導電性粉末、有機バインダー及び溶剤を含むペーストを基材上に塗布する塗布工程と、塗布された前記ペーストを乾燥し、乾燥塗膜を形成する乾燥工程と、レーザーの照射により、前記乾燥塗膜に導電パターンを描画するレーザー照射工程と、前記乾燥塗膜のうち、前記レーザーの未照射部分を、現像液を用いて除去する現像工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数段のファイバ光増幅器を備えたレーザ装置において、ファイバ光増幅器の励起を下流側から停止させ、意図しない発振に基づく機器の損傷を抑制する。
【解決手段】レーザ装置は、信号光を出力する信号光出力部１０と、複数のファイバ光増幅器２１〜２３を有し信号光を順次増幅して増幅光を出力する増幅部２０とを備える。ファイバ光増幅器２１〜２３は、各々増幅用ファイバ(添え字ａ)と、励起光源(添え字ｂ)と、励起光源により発生された励起光を増幅用ファイバに伝送する伝送用ファイバ(添え字ｃ)とを備える。ファイバ光増幅器２１〜２３は、各段の伝送用ファイバのファイバ長を上流側からＬ₁，Ｌ₂，Ｌ₃としたときに、Ｌ₁＞Ｌ₂＞Ｌ₃となるように構成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスクレス加工装置に関する。
【解決手段】本発明のマスクレス加工装置は、基板に照射される光を提供する照明光学系と、多数の光変換素子で構成され、前記照明光学系から照射された光を加工パターンに応じて選択的に反射または透過するように当該光変換素子を調節して光量を変換する空間光変調器と、前記多数の光変換素子が前記基板の一つのピクセルに対応して集光するように配列され、前記空間光変調器により変換された光が入射されると、当該ピクセルに前記多数の当該光変換素子によって提供された高エネルギーの光を投射する投射光学系と、前記加工パターンの入力を受け、入力された加工パターンに応じて、前記光源から照射された光を前記多数の光変換素子によって選択的に変換されるように前記空間光変調器を制御する制御部と、を含み、デジタルマスクを用いることにより、マスク使用によるコストが低減し、加工しようとする対象のスケール変形に対する能動的な対応が容易であるだけでなく、前記装置の活用度及び利用度が拡大される。 （もっと読む）

【課題】画像記録装置において、複雑な制御を必要とすることなく、記録ヘッドの両端部における記録強度の低下を防止する。
【解決手段】画像記録装置１は、複数のレーザ出射部が列設された記録ヘッド４と、副走査方向に記録ヘッドを移動させるリニアモータ５と、記録ヘッドによるレーザ光の出射および移動手段による記録ヘッドの移動を制御する装置制御部１２とを備え、装置制御部は、ドラムの回転に応じて刷版の主走査方向に対する記録ヘッドの１回の走査が完了する毎に、複数のレーザ出射部から出射されるレーザ光による副走査方向の記録幅よりも小さい移動量にて記録ヘッドを副走査方向に移動させる構成とする。 （もっと読む）

【課題】複数の反射要素のアレイを有する空間光変調器を用いるときに、反射光の強度を大きくする。
【解決手段】空間光変調器２８は、それぞれ光が照射される複数のミラー要素３０のアレイを有し、ミラー要素３０は、回転軸ＲＣの回りに回転可能に支持されるとともに、ミラー要素３０は、回転軸ＲＣから第１の距離ａ１にあり回転軸ＲＣに平行な方向に幅ｂ１を持つ部分３１Ａａと、回転軸ＲＣから第１の距離ａ１よりも離れた第２の距離ａ２にあり回転軸ＲＣに平行な方向にその幅ｂ１よりも広い幅ｂ２を持つ部分３１Ａｂとを含む第１反射部３１Ａを有する。 （もっと読む）

【課題】コヒーレント光を光源とした場合、被露光体上に発生する露光ムラを抑制することのできる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、入射する光を拡散させる拡散板と、拡散板をコヒーレント光で経時的に重ねて照明するとともに、拡散板の各点への入射角度を経時的に変化させて照明する照明系と、パターン形成領域を有する光変調器と、拡散板から出射されるコヒーレント光をパターン形成領域に集光する集光光学系と、光変調器で変調されたコヒーレント光を被露光体の表面に結像させる結像光学系と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィシステムを提供することである。
【解決手段】 パターンをターゲットの表面に転写するマスクレスリソグラフィシステムであって、複数の小ビームを発生するための少なくとも１つのビーム発生装置と、小ビームの大きさを変調するための複数のモジュレータを備えた変調手段と、モジュレータの各々を制御する制御ユニットとを備え、制御ユニットは、それぞれの小ビームの大きさを制御するために、パターンデータを発生し、前記モジュレータにパターンデータを伝送し、この制御ユニットがパターンデータを記憶するための少なくとも１つのデータ記憶装置と、データ記憶装置からパターンデータを読み取るための少なくとも１つの読み取りユニットと、データ記憶装置から読み取られたパターンデータを少なくとも１つの被変調光ビームに変換するための少なくとも１つのデータ変換装置と、少なくとも１つの被変調光ビームを前記変調手段に伝送するための少なくとも１つの光伝送装置とを備えている。 （もっと読む）