【課題】個別に制御可能な要素のアレイ及びデータ処理パイプラインを備えるリソグラフィ装置を提供すること。
【解決手段】個別に制御可能な要素のアレイは、放射線のビームを変調する。データ処理パイプラインは、要求された線量パターンの第１の表現を個別に制御可能な要素のアレイを制御するのに好適な制御データのシーケンスに変換し、基板上に要求された線量パターンを実質的に形成する。データ処理パイプラインは、オフライン前処理デバイス及びオンライン・ラスタライザを備える。オフライン前処理デバイスは、要求された線量パターンの第１の表現を、第１の表現よりも少ないオペレーション回数でラスター化できる中間表現に変換する。 （もっと読む）

【課題】基板に描画するパターンの図形の円の弧で構成された部分を複数の直線で近似する際、円の半径に応じた分割角度を簡単な処理で高速に決定する。
【解決手段】基板に描画するパターンの図形の円の弧で構成された部分について、当該円の半径と、所定の半径の円において、円の弧を複数に分割し、分割した各弧の始点と終点を直線で結んで、円の弧を複数の直線で近似したときの近似誤差を、分割角度毎に予め求めたデータとから、近似誤差が許容値以下となる様に最大分割角度を決定し、決定した最大分割角度以下の分割角度で分割し、分割した各弧の始点と終点を結んだ複数の直線で近似して、基板に描画するパターンの図形のベクターデータを作成する。作成したベクターデータから、基板に対し光ビームの照射を開始する位置と、光ビームの照射を終了する位置とを演算で求めて、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データを生成する。 （もっと読む）

【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】被露光体４を一定方向に一定速度で搬送する搬送手段１と、被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に並べられた複数の光スイッチにより、一方向に拡幅されたレーザ光Ｌを一定の配列ピッチで一列に並んだ複数のレーザビームＬbに分割して射出するパターンジェネレータ６と、パターンジェネレータ６から射出し、被露光体４に照射する複数のレーザビームＬbを互いに隣接するレーザビームＬbの間の領域を同時に往復走査する光走査手段７と、往復走査される複数のレーザビームＬbを被露光体上に集光するｆθレンズ８と、パターンジェネレータ７の複数の光スイッチのオン・オフ駆動を制御する制御手段３と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】装置のコスト増を招くことなく、高精度に位置決めした状態でステップ移動を行い、基板上にファーストレイヤーを露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明の露光装置１０１は、光源と、基板５０１との位置合わせのためのアライメントマークを有するフォトマスク２００と、基板５０２とフォトマスク２００とを相対的に移動する搬送機構と、フォトレジストの一部にレーザーを照射するレーザー照射装置と、フォトマスク２００と、基板５０１との位置合わせを行う位置合わせ機構とを備える。位置合わせは、例えば、前回の露光位置で形成されたレーザー照射跡３１２及び３２３と、これらに対応するフォトマスク２００上のアライメントマークとが重なるように、基板５０１の位置が調整されることで実現される。 （もっと読む）

【課題】対象物に対するパターンの描画位置を高い精度でコントロールできる技術を提供する。
【解決手段】描画装置は、光学ヘッド部から、光学ヘッド部に対して相対的に移動する対象物（例えば、基板）に対して光を照射して、基板Ｗにパターンを描画する。ここで、光学ヘッド部が、光源からの光を、パターンデータに基づいて空間変調する空間変調ユニット４４と、空間変調ユニット４４において空間変調された光の経路を、空間変調ユニット４４の空間変調の単位（具体的には、例えば、空間光変調素子４４１１の画素単位）よりも細かい精度でシフトさせる光路補正部４５とを備える。 （もっと読む）

【課題】プログラマブルアレイを用いたリソグラフィ装置において均一な放射線量で露光する方法を提供する。
【解決手段】個々に制御可能な素子を使用してパターンを形成した放射線のパターン形成ビームを、基板の目標部分に投影する場合、（ａ）各ピクセルが、予め決定した標準的最大線量を超えない放射線線量を、露光ステップで目標部分に送出するように、素子を通常通りに制御し、（ｂ）少なくとも１つの選択されたピクセルが、標準的な最大線量より多い増加した放射線線量を送出するように、素子を例外的に制御する。増加した線量は、アレイの既知の位置にて欠陥がある素子が選択されたピクセルに隣接するピクセルに及ぼす効果を補償するように送出する。さらに、既知の欠陥がある素子の影響を受けたピクセルによって、その位置の露光で生じた選択ピクセルの位置での目標部分の露光不足を補償する。 （もっと読む）

【課題】複数の合焦位置のうちの所望の位置で合焦可能にする
【解決手段】本発明の態様の合焦装置４は、光学系３の焦点をステージ１上の対象物に合焦する合焦装置である。複数の合焦位置が得られたときに、光学系３からステージ１までの距離と合焦の判定パラメータ値との対応情報に基づいて、複数の合焦位置の中からいずれに合焦するかを制御する制御部５を有する。 （もっと読む）

【課題】 照射光学系で光量が適正に変更される高精度の露光描画を行うことができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】 光量調節部５５０は、入射したレーザ光が光透過量変更手段５５１による透過率傾向が反映されるが、光透過分布調整手段５５２によって逆の透過率傾向が反映される。その結果、相殺され位置によるバラツキが低減された透過率がラインビーム全体で得られる。パターン描画装置１００によれば、光量調節部５５０によって、位置によるバラツキが低減されたラインビームが変調素子５３７に導入されることとなり、結果、画素間の光量バラツキが低減された露光を実現できる。 （もっと読む）

【課題】パターン形成のタクトタイムの短縮を実現し、ＰＤＰ製造のトータル的低コスト化が可能な白黒二層構造のバス電極パターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る白黒二層構造のバス電極パターン形成方法は、基材上に、耐熱顔料を含む塗膜を形成する工程と、上記塗膜の上に、導電性粉末を含む塗膜を形成し、二層塗膜を得る工程と、上記二層塗膜に対し、レーザー照射によりパターンを描画するレーザー照射工程と、上記パターン以外の部分を除去する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】対象面に対して光を照射し、その反射光を検出することによって当該表面の位置を検出するにあたって、適切な出射光量の値を簡易に決定できる技術を提供する。
【解決手段】光源から、光源に対して相対的に移動する対象面（基板Ｗの上面）に対して、出射光量を変化させながら間欠的に光を照射させるとともに、その反射光の光量分布データを受光部に取得させて、対象面内の異なる位置Ｐ（１），Ｐ（２），・・・Ｐ（Ｎ）で反射した反射光の光量分布データをサンプルデータとして次々と取得していく。続いて、取得された複数のサンプルデータのうち、受光量が許容範囲内にあるものを有効データとして抽出し、有効データを与えた最大の出射光量を、位置検出を行う位置検出用光源の出射光量の最適値とする。 （もっと読む）

【課題】露光後の熱反応型レジストの再酸化を抑制でき、現像差の減少を抑制して微細パターンを正確に形成できる微細パターン形成方法及び露光装置を提供すること。
【解決手段】本発明の微細パターン形成方法は、基材上に設けられ、加熱により還元反応する熱反応型レジスト材料を含んでなるレジスト層にパターンを形成する微細パターン形成方法であって、レジスト層の所定の領域を加熱還元する加熱期間と、不活性雰囲気下又は還元性雰囲気下において、レジスト層の所定の領域を冷却する冷却期間と、を含む還元工程と、レジスト層を現像する現像工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 複数個のＬＥＤ光源の放射光を合成して出射する構成のものにおいて、複数のピーク波長を有する連続した広範囲の波長範囲の光を出射することができると共に高い輝度を得ることのできる光源装置を提供すること。
【解決手段】 この光源装置は、ピーク波長が互いに近接する第１のＬＥＤ光源および第２のＬＥＤ光源と、第１のＬＥＤ光源から放射された放射光と、第２のＬＥＤ光源から放射された放射光を合成するダイクロイックミラーとを有し、前記ダイクロイックミラーは、前記第１のＬＥＤ光源からの放射光の入射角、および、前記第２のＬＥＤ光源からの放射光の入射角が、いずれも、５〜４０°となる状態で、配置されている。 （もっと読む）

【課題】高速移動時においてもステージの位置精度を向上する。
【解決手段】パターン描画装置１では、ステージ移動機構２が、定盤１１の定盤面１２に平行に伸びるとともにそれぞれの先端部がステージ３に接続される第１シャフト２１１および第２シャフト２２１、第１シャフト２１１および第２シャフト２２１を進退させる第１シャフト進退機構２１２および第２シャフト進退機構２２２、並びに、第１シャフト進退機構２１２を回動するシャフト回動機構２３を備える。これにより、複数のリニアガイドや支持台が上下方向に積み重ねられたステージ移動機構に比べて、ステージ移動機構２の重心を低くすることができる。その結果、ステージ３の高速移動時においても、ステージ３のピッチングを防止してステージ３の移動制御における位置精度を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】駆動回路３５３の発熱量変化に依らず、光変調素子３５２周囲の雰囲気温度を安定させることで、光路変化を抑制して、光変調を適切に実行できる技術を提供する。
【解決手段】光変調素子３５２や駆動回路３５３が配置された基板３５１に、発熱部３５４bを配置して、この発熱部３５４bにより光変調素子３５２周囲を加熱可能に構成する。駆動回路３５３の発熱量が減少したときには、これに応じて発熱部３５４bの発熱量が増大する一方、駆動回路３５３の発熱量が増大したときには、これに応じて発熱部３５４bの発熱量が減少する。つまり、駆動回路３５３の発熱量の変動傾向に対して反対の傾向で、発熱部３５４bの発熱量を増減させることで、光変調素子３５２周囲の雰囲気温度をある程度の範囲内に維持して、当該雰囲気温度を安定させている。 （もっと読む）

【課題】緩く傾斜する傾斜形状を有する微細構造体を良好に製造する方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂へレーザ光を照射して微細構造体を得る微細構造体の製造方法であって、基板に感光性樹脂を塗布する塗布工程と、感光性樹脂に照射するレーザ光の光量を設定する光量設定工程と、感光性樹脂に、前記設定した光量に応じて、レーザ光の光量を変調させつつスキャニングする露光工程と、露光された前記基板を現像する現像工程と、を備える。製造する微細構造体は、角度が１０度以下の傾斜形状を含む。感光性樹脂は、感光性樹脂を感光、現像した後のレジスト残膜量と露光量とを対応づけたレジスト感度曲線のうち、レジスト残膜量の上限値の３０％から７０％までの範囲において、レジスト感度曲線の傾きが０．２８（μｍ／ｍＷ）より小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、各光ビーム照射領域の各ミラーの描画中心点位置をデジタル値に変換する際に、周期的な偏りが生じないよう分散させて、均一に近い露光量で基板全面に亘って描画することができる露光装置または露光方法或いは前記露光装置または露光方法を適用し、高画質な表示用パネルを製造できる表示用パネル製造装置または表示用パネル製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器により描画データに基づいてフォトレジストが塗布された基板に光ビームを照射して描画する光ビーム照射装置と前記基板とを相対的に走査し、前記走査の位置をデジタル的に検出して行う際に、前記基板に描画する一定の描画領域内の露光量が均一に近づくように前記一定の描画領域内の前記各ミラーの描画中心点位置を分散させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイとマスクが所定間隔をおいて固定された露光装置において、マイクロレンズアレイと露光用基板との間のギャップを容易に高精度でマイクロレンズの合焦点位置に調整することができるマイクロレンズ露光装置を提供する。
【解決手段】露光用のレーザ光はマイクロレンズアレイ３のマイクロレンズ３ａによりレジスト膜２上に照射される。顕微鏡１０からの光は、マスク４のＣｒ膜５の孔５ｂを通過し、マイクロレンズ３ｂを透過してレジスト膜２上に照射される。このマイクロレンズ３ｂを透過した光がレジスト膜２上で合焦点か否かを顕微鏡１０で観察することにより、マイクロレンズ３ａによりレジスト膜２に収束される露光光の合焦点を判別できる。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをウエハ上に解像する。
【解決手段】照明光学系ＩＯＰにより、波長の異なる第１の光と第２の光とが、切り替えて（又は同時）に、第１面上に配置された第１パターンを有するレチクルＲ１、及び第２面上に配置された第２パターンを有するレチクルＲ２に副光学系６０を介して、照明光ＩＬとして照射される。そして、第１パターンと第２パターンとの重なり部から成る合成パターンの像が、その像面にウエハステージＷＳＴによって保持されたウエハＷ上に形成される。従って、物体上に第１の光、第２の光にそれぞれ感度を有する第１、第２のレジスト層が形成されている場合には、第１の光と第２の光とを同時にレチクルＲ１、Ｒ２にそれぞれ照明光として照射することにより、第１パターンと第２パターンとの重なり部から成る合成パターンの像が第１、第２のレジスト層に形成される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイをより使いやすくするシステム及び方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイを較正するために使用される装置及び方法。較正ユニットは、変調された放射ビームを基板に投影する投影系に変調放射ビームが入射する第１状態と、変調された放射ビームの一部が較正ユニットにより検査される第２状態とを切り替えることができる。較正ユニットは、変調された放射ビームの検査結果に基づいて較正データを生成または更新する。アレイコントローラは、個別制御可能素子アレイの素子に制御信号を供給するために較正データを使用する。これらの素子はその制御信号に応答するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ処理に有用な光ビーム出力強度の平準化を提供する。
【解決手段】光ビームのエネルギをパルス間で平準化するシステムは、３次の非線形特性を有する光学デバイスを含む一群の光学デバイスを備える。一群の光学デバイスを通過する未平準化光ビームの透過特性は、光学デバイスからの出力光ビームの出力強度が平準化されるように変化する。一実施例の構成は、ビームスプリッタ、非線形干渉フィルタ、ミラー、及びビームコンバイナを含む。非線形干渉フィルタで反射された光ビームの第１の部分が光ビームに結合され、結合光ビームは平準化された出力強度を有する。他の実施例は、ビームステアリングシステムを構成する第１のプリズム及び第２のプリズムを少なくとも備える。リソグラフィシステム、及び、光ビームのエネルギをパルス間で平準化する方法も提供される。 （もっと読む）