【課題】マルチビーム露光において、安定して急峻化した凸小点形状を形成する。
【解決手段】複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状であって、四辺を有する矩形の平面形状の周囲の領域である第１の領域について少なくとも４回の走査を行い、それぞれ１回の走査において少なくとも前記四辺のうちの一辺に隣接する領域を露光するとともに前記一辺を順に変更することで前記第１の領域を全て彫刻するマルチビーム露光走査方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】彫刻により発生するガス、アブレーションカスを吸込フードに誘導し、回収効率を上げることができる。
【解決手段】吹付ノズル８０は、一列に並んだ吹き出し口８０ａからの空気を吹き出し、略四角錐台形のエアーフローＡ１を形成する。吹付ノズル８０は、エアーフロー中心面ＡＭ１が、光軸Ｌと露光面ＦＡとの交点Ｉにおけるドラム５０の接線と平行となるように、かつエアーフローＡ１の方向がドラムの回転方向Ｒと同方向となるように配設される。エアーフローＡ１の延長上には、エアーフローＡ１を覆う大きさで形成された吸込フード８１が配設される。これにより、ガス、アブレーションカスを含むエアーフローＡ１を吸込フード８１から確実に吸い込むことができる。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成でピント調節が迅速に行われる露光装置および画像形成装置を提供する。
【解決手段】 走査光学系と、走査光学系によって感光面に導かれる各光を感光面上に集光させる、光の集光位置を光の進行方向に調整する機能も有した集光部と、走査光学系による走査に伴って移動する光の移動範囲の一部から光源が互いに異なる複数の光が導かれて照射されて複数の光を個別に受光する、各光の受光量を検知する複数の受光部分を有する、該複数の受光部分上を該複数の光が該走査に伴って通過する、該複数の光のうちの一部の光については、該受光部分までの光路長が前記感光面までの光路長よりも長く、他の一部の光については、受光部分までの光路長が感光面までの光路長よりも短い受光器と、受光器で検知された受光量に基づいて集光部による光の集光位置を、集光部の機能を使用して調整する集光位置調整部とを備えた。 （もっと読む）

１つまたは複数の書き込みマシンにおける一連の書き込みサイクルにおいて、ワークピース（２４０４）の複数の層（Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４）をパターニングするための方法。前記ワークピースは、複数のＮ個の層（Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４）を有するように適合され、前記ワークピースの層は、パターン位置についての１つまたは複数の境界状態（単数または複数）を有する。前記方法は、層１〜Ｎの境界状態を決定するステップと、前記境界状態に起因する逸脱を計算するステップと、前記境界状態に起因する逸脱の割り当て部分が付加された前記境界状態に起因する逸脱の補償を計算するステップとを含む。 （もっと読む）

パターン発生器は、書込ツールと校正システムとを有する。書込ツールは、ステージ上に配列されたワークピース上にパターンを発生させるように構成される。校正システムは、書込ツールの座標系と、ステージおよびワークピースのうちの１つ上の校正プレートの座標系との間の相関を決定するように構成される。校正システムはまた、校正プレートの表面上の少なくとも１つの反射パターンから反射した少なくとも１つの光ビーム状の光相関信号、またはパターンに少なくとも部分的に基づき相関を決定するように構成される。
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【課題】微細加工処理全体の加工効率を下げることなく、レーザ光を集光するレンズ系の焦点距離を最適な値に調整可能な露光装置を提供する。
【解決手段】レジスト層１０１に対して、レンズ系１３によりレーザ光を集光して所定の走査方向に並んだ凹凸パターンに対応させて選択的に露光する露光処理部１０と、レンズ系１３の焦点距離を変化させて選択的に感光したレジスト層１０１に対し、レンズ系１３によりレジスト層が感光しないレーザ光を集光して反射光を検出するディテクタ１４と、ディテクタ１４による検出結果から、試験露光アシンメトリ値を算出するアシンメトリ算出部１６と、焦点距離の変化に対応した試験露光アシンメトリ値の変化が極値となる焦点距離を、レンズ系１３の焦点距離に設定するオフセット設定部１７と、オフセット設定部１７で設定した焦点距離で、レンズ系１３がレーザ光を集光してレジスト層１０１を露光するように露光処理部１０を制御するフォーカスサーボ制御部１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】自己放射コントラストデバイスにより発せられる放射がその自己放射コントラストデバイスの過去の強度による影響を受けにくいリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板の目標部分にビームを投影するよう構成されている光学コラムであって、ビームを発するよう構成されている放射源と、目標部分にビームを投影するよう構成されている投影系と、を備える光学コラムと、光学コラム又はその一部を基板に対して移動させるよう構成されているアクチュエータと、放射源に駆動電力を供給するよう構成されている放射源ドライバであって、放射源に供給されるべき駆動電力を、放射源に供給された前回電力に応じて調整するよう構成されているパワー調整コントローラを備える放射源ドライバと、を備える。 （もっと読む）

多層システムインパッケージスタックの製造において直描書き込みマシン内におけるワークピースの第２の層のパターニングを行う方法。前記ワークピースは、第１の層を有する。前記第１の層上には、ダイ（１５０２）の形態をした複数の電気コンポーネントが任意に配置される。各コンポーネントは、接続点を有する。前記接続点のうちいくつかは、前記コンポーネント間において接続すべきである。第１のパターンにおいて、前記第１の層内に分配されたダイの接続点を含む異なるゾーン（１５１０）が、異なるアライメント要求と関連付けられる。前記方法は、ａ．前記システムインパッケージスタックの選択されたフィーチャまたは前記配置されたコンポーネントに対して高いアライメント要求を有する不可侵ゾーンを第１のパターン内において検出するステップと、ｂ．前記システムインパッケージスタックの他のフィーチャに対してより緩やかなアライメント要求を持つことが許された前記第１のパターンのストレッチゾーン（１５１０）を検出するステップと、ｃ．調節された第１のパターンデータを計算することにより前記第１のパターンを変換するステップであって、前記変換は、前記元々の回路パターンの変換を含み、前記変換は、ｉ．隣接する不可侵ゾーン内の接続点が、事前設定可能なアライメント逸脱パラメータ内においてアライメントされ、かつ、ｉｉ．前記不可侵ゾーン内の対応する接続点の位置間の逸脱が、前記ストレッチゾーンの接続点のパターンについて補償されるように、行われる、ステップと、ｄ．前記調節されたパターンデータに従って前記ワークピースの層上にパターンを書き込むステップとを含む。前記第１のパターンは、第２のパターンに同時に整合され得る。 （もっと読む）

【課題】光学コラムの公差の少なくとも一部を除去しうるリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板の目標部分にパターンを生成可能である光学コラムを備えるリソグラフィ装置に関する。光学コラムには、ビームを発するよう構成されている自己放射コントラストデバイスと、目標部分にビームを投影するよう構成されている投影系と、が設けられていてもよい。本装置には、光学コラム又はその一部を基板に対し移動させるためのアクチュエータが設けられていてもよい。投影系は、移動可能な光学コラム又はその一部に関し、移動可能な光学コラム又はその一部の少なくとも１つのレンズ９３０の位置を調整するための調整可能部材９３６をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】基板上にパターンを効率的に作成できるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】本発明は基板支持体に保持された基板のターゲット部分上にビームを投影できる１つ以上の光学カラムを備えるリソグラフィ装置に関する。１つ以上の光学カラムは、ビームを発光する１つ以上の自発光型コントラストデバイスを備えてもよい。光学カラムは、ターゲット部分上にビームを投影する投影システムを備えてもよい。ターゲット部分は基板のスキャン方向に高さを有し、スキャン方向にほぼ垂直な正接方向の幅を有し、スキャン方向の基板のスキャン速度を前記高さで除した値は光学カラム又はその一部の回転速度をターゲット部分の正接方向の幅で除した値に実質的に対応する。 （もっと読む）

一連の書き込みマシンにおいてワークピースの複数の層をパターニングする方法。異なるマシンの異なる変換能力に起因する誤差が補償される。前記補償は、前記複数の層に前記誤差を分配することにより、行われる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の光学コラムの合焦を基板に維持するよう構成されているリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基板の目標部分にビームを投影するよう構成されている光学コラムを含むリソグラフィ装置が開示される。フォーカスコントローラが基準物体に対して光学コラムの焦点位置９０６、９２０、９２４、９３０を制御するために設けられている。フォーカスコントローラは、基準物体９３８上での焦点品質を決定するよう構成されているフォーカス計測デバイス９４２と、決定された焦点品質に基づいて光学コラムの焦点位置を調整するよう構成されているフォーカスアクチュエータと、を備える。 （もっと読む）

【課題】開口数の大きな被検光学系の光学特性計測に用いることが可能な光検出装置、同装置を用いた光学特性計測装置、光学特性測定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板の一表面上に配置された開口パターンと、前記基板の前記一表面に対向する表面上に形成された蛍光膜とを有する蛍光ユニットと、複数の光ファイバーを束ねて構成された導光部材と、前記導光部材の一表面に接して配置された撮像素子とを有する撮像ユニットを備えた光検出装置とし、前記蛍光ユニットの前記蛍光膜側の表面を、前記撮像ユニットの前記導光部材側の表面に対面して配置する。 （もっと読む）

【課題】半導体露光装置の２ステージシステムの紫外ガスレーザにおいて、出力エネルギーを減少させることなくレーザ光の偏光純度を高くすること。
【解決手段】レーザ光を出力する発振段レーザと、前段のレーザから出力されたレーザ光を増幅して出力する一以上の増幅段レーザと、少なくとも一つの前記増幅段レーザのレーザ光軸上に設けられ、レーザ光に含まれ互いに直交する二つの直線偏波状態の成分のうちの一方を高反射率で反射し、他方を高透過率で透過する偏光子と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 第２の光源の光を、第1の光源からの光が存在しない領域に導入し、第1の光源からの光と合成する光照射装置において、第１の光源から出射した光の量を減らさないように、第２の光源からの光を合成すること。
【解決手段】 第１の光源からの光をインテグレータの方向に反射する平面ミラーの、第１の光源からの光が照射される領域に囲まれた放射強度の弱い領域に貫通孔を形成し、この貫通孔から第２の光源からの光を導入する。第２の光源は、例えばレーザダイオードであり、レーザダイオードからの光はファイバを用いて平面ミラーの裏面側から貫通孔を介して導入する。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターンの描画を高速に行う。
【解決手段】光ビーム照射装置２０に、複数のミラーを直交する二方向に配列した複数の空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）と、描画データに基づいて各空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）を駆動する駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）と、各空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）により変調された光ビームを合成して照射する光学系とを設ける。複数の光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃから発生した光ビームを光ビーム照射装置２０へ供給し、描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給し、描画データに基づき、複数の光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃから供給した光ビームを、複数の空間的光変調器（ＤＭＤ２５ａ，２５ｂ，２５ｃ）により変調して、チャック１０に支持された基板１へ照射する。 （もっと読む）

【課題】光源から供給された光ビームを空間的光変調器により変調して基板にパターンを描画する際に、光源から供給された光ビームの強度の低下を容易に検出して、不良の発生を防止する。
【解決手段】光ビームの強度を検出する検出装置（レーザーパワーメータ５１）をチャック１０に取り付け、光ビームの強度を検査するための検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路２７へ供給し、チャック１０と光ビーム照射装置２０とを相対的に移動して、チャック１０に取り付けた検出装置（レーザーパワーメータ５１）により光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、検出装置（レーザーパワーメータ５１）により検出した光ビームの強度に応じて、光源の出力を調整する。 （もっと読む）

マスク投影技術により固体の表面に微細構造を形成するためのレーザー設備のマスク及び／又はダイヤフラムを製造するための方法において、レーザー放射を散乱させる決められた不透過面部を、マスク及び／又はダイヤフラム基材に、後者をフェムト秒、ピコ秒、又はフッ素レーザー光を用いて粗化・改変させることにより製造する。このようなマスク及びダイヤフラムは、その寿命と精度が大幅に改善され、例えば、固体の表面の回折格子アレイに配置されて、高輝度のスペクトル色及び混合色を生成するのに用いられるブレーズド格子を形成するのに使用することができる。
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【課題】光ビームにより基板にパターンを描画する際、露光量を均一にして、パターンの描画を精度良く行う。
【解決手段】露光パターン解析装置８０の光量データメモリ８２は、予め、光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの光量を、所定の面積の露光領域毎に記憶する。描画制御部７１は、光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ描画データを供給する。露光カウンタ８５は、チャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な位置、及び光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給される描画データから、光ビームの照射回数を所定の面積の露光領域毎に数える。演算回路８７は、予め記憶した光ビームの光量と、光ビームの照射回数とから、所定の面積の露光領域毎に露光量を算出する。露光パターン解析装置８０は、算出した露光量に基づいて、露光量を補正する。 （もっと読む）

【課題】ロールを被覆するレジスト層上で隣接する露光マークの露光開始点を正確に制御し２次元的に自在な配置に大面積の露光パターンを作製可能な露光装置及び露光方法を提供することを目的の一とする。
【解決手段】レジスト層がロール表面を被覆してなるロール状の部材にレーザー光でパルス露光してレジスト層に複数の露光部からなる露光パターンを形成する露光装置において、ロール状部材をロールの中心を軸に回転させる回転制御部と、ロール状部材の回転方向における露光パターンをロール状部材の回転と同期した基準信号に基づいて制御し、ロール状部材の回転方向と垂直なロール長手方向に露光を繰り返す露光部とを設ける。 （もっと読む）