【課題】アブレーション速度に優れ、薄膜でありかつ容易に剥離できるレジスト被膜を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板の上にレジスト被膜を形成する工程と、前記レジスト被膜にレーザー光線を照射してレーザーアブレーションにより前記レジスト被膜の所定部分を除去する工程を含むレジストパターン形成方法であって、前記レジスト被膜を、アルカリ可溶性基がアルキルビニルエーテルを用いてブロックされているモノマー単位を有するビニル系重合体（Ａ）、及び、ニグロシン（Ｂ）を含有するレジスト組成物から形成することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】描画ブロックの描画位置を高精度に調整して描画パターンを下地パターンに一致させながら描画対象物に描画することができるパターン描画方法、描画データ生成方法、ならびにパターン描画装置を提供する。
【解決手段】描画ブロック９１の周囲が非描画領域であることを示すデータが付加された拡張ラスターデータ８１３を形成するとともに、下地パターンとの位置ズレを考慮しながら拡張ラスターデータ８１３から描画ブロック９１を抽出し、当該描画ブロック９１を描画している。これによって、描画パターン９２を下地パターンと高精度に重なり合わせながら基板Ｗに描画パターン９２を描画することが可能となっている。 （もっと読む）

【課題】従来のＣＴＰシステムの制限および欠点を、それらの生産性を向上させることによって克服する。
【解決手段】結像アセンブリであって、所望の像領域に対するキャリッジの位置を示す信号を生成する信号生成器を含む移動可能なキャリッジと、キャリッジに結合された複数の結像モジュールであって、各モジュールが少なくとも１つの他のモジュールと隣接し、各モジュールが、協働可能に配列されて個別の光ブラシを生成する少なくとも１つのレーザ光源および変調器を含み、各モジュールが、前記複数のモジュールが各モジュールが生成した各個別の光ブラシを合成したレーザ光を像ごとに生成するように、その他のモジュールに対して位置合わせされ、各モジュールが、各個別のモジュールからのレーザエネルギーの像ごとの生成を遅延させる信号受信機を含む結像モジュールと、を備える結像アセンブリ。 （もっと読む）

【課題】鋭いフィールドエッジおよび最小の光路長差を有するパターンを生成する干渉型リソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】レーザにより発生される空間的かつ時間的にコヒーレントな光ビーム１０２は、ビームスプリッタ１０４に入射する。ビームスプリッタ１０４はビーム１０２を第１および第２のビーム１０６Ａおよび１０６Ｂに分離する。続いて２つのビーム１０６Ａおよび１０６Ｂは、それぞれ基板１１０に向けて第１および第２の反射表面１０８Ａおよび１０８Ｂにより再指向される。干渉パターン１１２は基板１１０の頂部表面に形成される。干渉パターン１１２は書き込み用イメージでフォトレジスト層を露光する。 （もっと読む）

【課題】高い消光比を有する空間光変調器および該空間光変調器を装備して優れた描画品質でパターンを描画することができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】５本の第１電極３３３が電気光学結晶基板３３１の周期分極反転構造内を進む入射光ＬＩの進行方向Ｚと略垂直なＸ方向に互いに離間して電気光学結晶基板３３１の一方主面３３２上に配列されている。各第１電極３３３は電位付与部３３６と電気的に接続されており、電位付与部３３６が第１電極３３３に印加する電圧を制御して第１電極３３３の各々と第２電極３３５間での電界発生を制御し、第１電極３３３ごとに周期分極反転構造内での回折効率を変調する。周期分極反転構造内で生じる回折格子がブラッグ回折の条件を満足するように、各第１電極３３３は電気光学結晶基板３３１に対して傾斜して配置されており、上記制御によりブラッグ回折光ＢＬまたは０次光を出射する。 （もっと読む）

【課題】０次光成分を極力少なくし、透過±１次光の回折効率を極力多くして、転写した光ファイバー等の光導波路の回折格子の反射スペクトル中にノイズが発生しないようにした回折格子作製用位相マスクを提供する。
【解決手段】光ファイバー２２に対して、相互に平行で断面略矩形の凹溝２６と凸条２７の繰り返しパターン面２８を向けて配置され、繰り返しパターン面２８とは反対側の面から露光光２３を照射し、０次光２５Ａを５％以下に抑え、透過±１次光２５Ｂ、２５Ｃによる所定ピッチの干渉縞を露光して回折格子を作製する。凹溝２６の深さｄが露光光の位相を３πラジアン近傍にずらすようにすることにより、その位相をπラジアン近傍にずらす場合より、透過±１次光の回折効率あるいは透過０次光に対するコントラストを高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】高分解能寸法でピッチを有するパターンのフィールド全体にわたり所望のコントラストを生成する干渉リソグラフィのシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】干渉型リソグラフィシステムは、鋭いフィールドエッジおよび最小の光路長差を有するパターンを生成する。ビームスプリッタで生成された２つのビームは、基板プリズムに向けた入力プリズムの個々の表面で反射する。基板プリズムは、イメージ平面での入射角がビームスプリッタ回折角にほぼ等しくなるように、入力プリズムに対して対称となっている。代案として、ビームスプリッタで生成された２つのビームは、出力表面での入射角がビームスプリッタの回折角にほぼ等しくなるように、プリズムの出力表面に向けてプリズムの個々の表面で反射される。これらの複数の干渉計は積層することができ、その各々は積層体が可変ピッチ干渉システムを提供するように、特定のピッチに対して最適化される。 （もっと読む）

【課題】ＬＤＩ露光方式を用いて積層基板を製造する際に、積層による位置ずれの累積を抑えて、製品の歩留まりを向上させることができる積層基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板１２を挟んで一方の側のランド部１４と接続するビアホール１５、及び他方の側のランド部１４を形成する。フレキシブル基板等の絶縁基板１２を挟んで、一方のランド部１４に対する他方のランド部１４の、所定の基準位置からのずれ量に対して、前記ずれ量を減少させる方向に、他方のランド部１４の位置を移動させる位置補正を行って、レーザ光による回路パターンの描画を行う。この後、絶縁基板１２を挟んで、一方の側のランド部１４と接続するビアホール１４、及び他方の側のランド部１４を形成する。 （もっと読む）

【課題】従来技術に比較して簡易な構成で結像スポット径が異なる光ビームを得ることができ、通常露光及び高精細露光の両方の用途に対応できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、光を照射する光源６６と、二次元状に配列された複数のマイクロミラーを駆動して複数の光ビームを生成するミラーデバイス５０と、ミラーデバイス５０で生成された複数の光ビームの各々を集光する集光光学系と、集光光学系で集光された複数の光ビームの各々を感光材料上に結像させる結像光学系８０、８２と、を備えた複数の露光ヘッドを相対移動させて露光する。露光時には、結像スポット径に関し、通常露光の場合には第１の値を設定し、高精細露光の場合には第１の値より小さい第２の値を設定する。集光光学系及び結像光学系の少なくとも一方により結像スポット径が設定値に調整されるように、各部の一部又は全部を駆動制御する。 （もっと読む）

【課題】同じ基板について２種類以上の基準マークの位置を各々検出し、同じ種類の基準マークの検出結果から求めた補正量を、異なる種類の基準マークに適用して補正量を評価することで、同じ傾向を有する誤差を容易に検出して適正な補正を行うことができる、描画装置、プログラム及び描画方法を提供する。
【解決手段】第１基準マークに基づいて得られた第１補正量で第１基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第１ずれ量）を演算し、第２基準マークに基づいて得られた第２補正量で第２基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第２ずれ量）を演算する。第１補正量で第２基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第３ずれ量）を演算し、第２補正量で第１基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第４ずれ量）を演算する。 （もっと読む）

【課題】シートの複数の区画領域に連続してパターンを形成する。
【解決手段】シートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光に際して、ステージＳＳＴ_１は、走査領域ＡＳの＋Ｘ端部の待機位置でシートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対応する裏面部分をシートホルダＳＨ_１の保持面に吸着して、マスク（マスクステージ）と同期して、Ｘ軸方向（−Ｘ方向）に所定ストロークで移動する。この際に、マスクのパターンの一部に対応する照明光が投影光学系を介してシートＳに照射されることで、パターンが転写（形成）される。区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光後、ステージＳＳＴ_２は、待機位置にＸＹ平面内で移動して、シートＳの次の区画領域ＳＡ_ｉ+１に対応する裏面部分をシートホルダＳＨ_１の保持面に吸着後、上述と同様に走査露光方式で露光してパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】各半導体発光素子の光を効率良く利用して、照度の高い露光光を形成する。
【解決手段】複数の拡大レンズ４３からフライアイレンズ４５までの光路を囲んで反射部材５０を設ける。ベース基板５１の外周部に搭載した半導体発光素子４２及びそれらに対応する拡大レンズ４３を、当該半導体発光素子４２から発生して対応する拡大レンズ４３により拡大された光の一方の端が、フライアイレンズ４５の照射面から外れない所定の角度以内でフライアイレンズ４５へ入射する様に配置する。そして、反射部材５０を、ベース基板４１の外周部に搭載した半導体発光素子４２から発生して対応する拡大レンズ４３により拡大された光の他方の端が、当該反射部材５０により反射されて、フライアイレンズ４５の照射面から外れない所定の角度以内でフライアイレンズ４５へ入射する様に配置する （もっと読む）

【課題】焦点距離が等しい光ビームで多重焦点露光を行うことで、高い解像度を維持し且つ深い焦点深度を得ることができる露光ヘッド及び露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、光を照射する光源６６と、二次元状に配列された複数のマイクロミラーを駆動して複数の光ビームを生成するミラーデバイス５０と、ミラーデバイス５０で生成された複数の光ビームの各々を集光する集光光学系と、集光光学系で集光された複数の光ビームの各々を感光材料上に結像させる結像光学系８０、８２と、集光光学系と結像光学系との間の複数の光ビームの光路上に光軸と直交するように配置された厚さの異なる複数の部分を有する平行平板１０と、を備えた複数の露光ヘッドを有する。これら複数の露光ヘッドを感光材料に対して所定方向に相対移動させて、感光材料の略同じ位置を焦点位置の異なる光ビームで重ねて露光する。 （もっと読む）

【課題】基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際に、ステージの走行誤差による描画品質の低下を防止する。
【解決手段】Ｘステージ５によりチャック１０を移動しながら、チャック１０に搭載された基板１の移動方向と直交する方向の変位を検出し、検出結果に基づき、Ｙステージ７によりチャック１０を基板１の変位方向と逆方向へ基板１の変位量と同じ量だけ移動する。Ｘステージ５がチャック１０を走査方向へ移動する際に横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生しても、パターンの描画が精度良く行われる。 （もっと読む）

本発明は着色剤、バインダー樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤および溶媒を含む着色感光性樹脂組成物において、前記光重合開始剤が３００ｎｍ以下で反応する化合物を含むことを特徴とする３００ｎｍ以下の超短波長露光器を利用した固体撮像素子のカラーフィルター製造用着色感光性樹脂組成物を提供する。前記着色感光性樹脂組成物は、超微細化された着色パターンが具現されたカラーフィルターを製造でき、前記カラーフィルターは固体撮像素子に有用に適用できる。 （もっと読む）

【課題】波長板として機能する光学部材の製造誤差の影響を実質的に受けることなく、所望の偏光状態の光で被照射面を照明する照明光学装置。
【解決手段】光源（１）からの光に基づいて被照射面（Ｍ，Ｗ）を照明する照明光学装置。照明瞳面またはその近傍に配置されて、入射光の偏光状態を所定の偏光状態に変換するための偏光変換素子（１２）を備えている。偏光変換素子は、入射する直線偏光に旋光角度を可変的に付与するための複数の可変旋光部材を有する。各可変旋光部材は、旋光性を有する光学材料により形成され且つ光軸（ＡＸ）と交差する方向に沿って相対的に移動可能な２つの偏角プリズムを有する。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤを用いた光照射装置において、積算光量の突出を抑制し、被照射面における照度分布の均一化を図ること。
【解決手段】光照射装置はセグメント光源２を複数並べられて構成され、各セグメント光源２は、複数のＬＥＤ２３からの光が照射されるインテグレータレンズ２８と集光レンズ２９１とを有し、ＬＥＤ２３からの光はワーク５である光照射面に照射される。インテグレータレンズ２８１のＬＥＤ２３に対向する側の各セルレンズの開口サイズは、大きさの異なる複数のサイズＳ，Ｍ，Ｌから構成され、このため光照射面では、中心部分では最も照度が高く、中心から外縁に向かって順次照度が小さくなるような照度分布となる。このため、２つのセグメント光源が重ね合わされる部分は、照度が小さい部分が重ね合わせられることとなり、セグメント光源間における積算光量の突出を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】高精度で露光する。
【解決手段】露光照明ユニット３２は、レボルバに装着されている複数の対物レンズのそれぞれに対して倍率補正調整がなされている第２対物レンズを複数有している。そして、露光照明ユニット３２では、光軸Ｌ１上に配置される対物レンズが切り替えられると、第２対物レンズ５５−１および５５−２がスライドし、光軸Ｌ１上に配置された対物レンズ１４に対して倍率補正調整がなされている方を経由して、DMD５４により変調された露光光が対物レンズに入射される。本発明は、例えば、MEMSデバイスの製作および観察をする顕微鏡システムに適用できる。 （もっと読む）

【課題】MEMSデバイスの製作および観察を効率よく行う。
【解決手段】露光対象物１２の観察に使用される観察鏡筒１９と、露光対象物１２を露光する露光光を発生する露光照明ユニット３２と、ステージ１３およびレボルバ１５が装着される顕微鏡本体１６と、露光対象物１２に照射する照明光を発生する落射照明ユニット１７と、対物レンズ１４の露光対象物１２に対する焦点を合致させるＡＦユニット１８とが、共通の接続部を有する。本発明は、例えば、MEMSデバイスの製作および観察をする顕微鏡システムに適用できる。 （もっと読む）

幾何的歪を補正するためにイメージングシステムの校正を調整する装置（１０）は、記録媒体（１７）を受ける回転ドラムと、複数のアドレス指定可能なイメージングチャネルを備えるイメージングヘッド（１６）をそれぞれ含む複数のキャリッジ（１８）と、他のイメージングヘッドの位置に基づいてあるイメージングヘッドのイメージングになされるべき補正のための調整に関連する解析的関係若しくはアルゴリズム、ルックアップテーブルを備えてプログラムされたコントローラとを含む。解析的関係若しくはアルゴリズム、ルックアップテーブルを得るための方法が開示される。本方法は、大型のイメージングシステムに関連する。
（もっと読む）