【課題】改善された高エネルギー放射線、特にレーザー光線によるワークピースのマーキング又は描画方法を提供する。
【解決手段】高エネルギー放射線、特にレーザー光線１を用いてワークピース３をマーキング又は描画するにあたり、この際、前記ワークピース３が光散乱表面９を有し、そしてワークピースの材料は放射線の波長を透過し、この際、ポリマーマトリックス７が、放射線がポリマーマトリックス７に当たる前にワークピース３及びその光散乱表面９を通過するように、ワークピース３上に配置されるマーキング又は描画方法及び装置であって、ワークピース３の光散乱表面９が液体媒体又は粘弾性媒体１１により湿潤される。 （もっと読む）

【課題】光源の光出力の校正を自動的に行うことができる光源制御回路およびこの光源制御回路を有する直接露光装置を実現する。
【解決手段】レーザダイオード２を有する光源のための光源制御回路１は、レーザダイオード２の光のパワーに比例した光電流を出力するフォトダイオード３と、取得指示を受信したときに、フォトダイオード３が出力した光電流の電流値を取得する取得手段１１と、電流値を第１の電圧値に変換する変換手段１２と、第１の電圧値を、書換え指示を受信するまで第２の電圧値として保持するラッチ手段１３と、第２の電圧値に応じた駆動電流をレーザダイオード２へ供給する駆動手段１４と、第１の電圧値と第２の電圧値とを比較する比較手段１５と、第１の電圧値と第２の電圧値とが一致しない場合、取得手段１１へ電流値の取得指示を送信し、ラッチ手段１３へ保持内容の書換え指示を送信する制御手段１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点を解決できる改善された高エネルギー放射線、特にレーザー光線によるワークピースのマーキング又は描画方法を提供する。
【解決手段】高エネルギー放射線、特にレーザー光線１を用いてワークピース３をマーキング又は描画するにあたり、前記ワークピース３は放射線の波長を透過し、ポリマーマトリックス７は、放射線がポリマーマトリックス７に当たる前にワークピース３を通過するように、ワークピース３の近くに配置されるマーキング又は描画方法であって、ポリマーマトリックス７及びワークピース３接触する液体フィルム１５がポリマーマトリックス７とワークピース３の間に配置される。 （もっと読む）

【課題】先行技術の欠点を解消する、又は、少なくとも減じるような、特に刷版の画像形成のための画像形成装置の領域において、刷版を取り扱うための方法及び装置を提供する。
【解決手段】刷版を少なくとも２つのプロセスステーションに供給し、この供給のために刷版を、刷版受容装置１１の少なくとも１つの受容面１０，１４上に配置し、第１のプロセスステーション８，８′，１７，１８，２，２０から第２のプロセスステーション８，８′，１７，１８，２，２０へ刷版３，３′を搬送する、又は引き渡すために、前記少なくとも１つの受容面を第１の回転軸１３を中心として旋回させる、刷版を取り扱うための方法において、１つのプロセスステーションから刷版を受容するための、又は、１つのプロセスステーションへと刷版を引き渡すための受容面を、前記第１の回転軸とは異なる第２の回転軸１５を中心として旋回させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、極めて微細な加工を簡易な制御により行う。
【解決手段】光ディスク用原盤製造装置２０は遷移金属の不完全酸化物からなる無機レジスト材料を基板１００上に成膜してレジスト層１０２を形成しレジスト基板１０３を得て、当該レジスト層１０２に特異出力光ＬＥを照射し所望の凹凸パターンと対応した選択的な露光を施し感光させる。その後光ディスク用原盤製造装置２０は、当該パターンが露光されたレジスト基板１０３を現像し光ディスク用原盤を得る。これにより露光部２６は、レジスト層１０２にレーザ光を照射し発生させる熱の拡散を抑え、微細なパターンの露光ができる。かくして光ディスク用原盤製造装置２０は極めて微細な加工を簡易な制御により行うことができる。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィまたはマイクロリソグラフィパターンなどの精査において、表面上へのパターンの書込または読出に関する。並列変調した複数の光学、電子、粒子ビームのような、疎の２次元点配列またはグリッドで表面上を走査することで、画像の記憶または読出システム。走査と、読出または書込の繰返とによって、ワークピース上に高密度の画素またはスポットグリッドが作成される。大型配列の使用の裏には、スループットの向上という概念がある。しかし、特定の配列サイズを超えると、従来知られているスキームは自体の手順に嵌ってしまい、同じデータを延々と繰返し始めるので、スループットは配列サイズに釣合わない。本願は、大規模配列でワークピースを走査する一方で、非常に大規模な配列の場合でも、実際には本質的に規模の制限なく、配列サイズに比例したスループットのスケーリングを保存する方法を開示する。
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【課題】複数の透過パターン介しての露光処理を効率的に行う技術を提供する。
【解決手段】透過パターンＳＬＧ１，ＳＬＧ２のそれぞれは、副走査方向に等間隔で規則的に配置された同数のスロットＳＬａまたはスロットＳＬｂを有する。副走査方向において、スロットＳＬａは、スロットＳＬｂに比べて、比較的幅の狭い矩形形状を有する。パターン描画装置１００は、マスク３６１を備えた露後部３０を、基板９に対して主走査方向の（＋Ｙ）側へ走査させる場合、透過パターンＳＬＧ１，ＳＬＧ２とを同時に介して基板９のレジスト層を露光する。この露光走査によれば、透過パターンＳＬＧ１を透過したパルス光が照射された領域には、所定時間経過後に、透過パターンＳＬＧ２を透過したパルス光が照射される。つまり、一方向への露光走査において、２つの透過パターンを同時に介して同一領域が露光される、重畳的露光が行われる。 （もっと読む）

本発明は、放射線感応基板（１７）が放射線反応する波長を有するコヒーレント放射線（２）を使用して、プログラマブルテンプレート（６）が基板上（１７）に投射される放射線感応基板（１７）を撮像するための方法に関する。画像グリッド（３０）を有するプログラマブルテンプレート（６）の全体画像は、複数の投射が基板（１７）の異なる位置に作用して基板（１７）上の画像グリッド（３０）に細かい部分グリッド（３１）が形成されるように、音響光学または電気光学偏向ユニット（１１）によって同時に変位される。本発明はさらに、前記方法を実行する装置に関する。
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【課題】高価な合成石英フォトマスクを用いることなく高精細な感光性樹脂凸版を製造することができ、かつ、有機電子デバイスの製造コストを低減することを可能とすること。
【解決手段】本発明は、基材１０１と基材１０１の上に形成されている感光性樹脂層１０２とを具備するパターン転移媒体１００を用意する工程と、光照射手段及４０１及び光変調手段４０２を具備する露光ユニットとパターン転移媒体１００とを相対的に移動させて予め入力された情報に基づいて光照射手段４０１から放たれる光を光変調手段４０２により変調することで露光光のパターンを形成して感光性樹脂層１０２に対し照射を行う露光工程と、感光性樹脂層１０２のうち前記露光工程において露光光が照射されない領域を除去して感光性樹脂凸版を形成する現像工程と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】 線状部分及びそれから分岐した枝部を含むパターンを描画し、所望の形状の転写パターンを残すことが可能なパターン描画方法を提供する。
【解決手段】 加工対象物の表面において、第１のレーザビームと第２のレーザビームとのビームスポットが第１の方向に相互に接して並ぶように光軸調整を行う。前記第１のレーザビームと第２のレーザビームとの入射位置が、前記第１の方向と交差する第２の方向に、始点から終点まで移動するように、前記加工対象物を移動させながら、前記第１のレーザビームは始点から終点まで連続的に入射させ、前記第２のレーザビームは断続的に入射させて、線状の軌跡から枝部が突出したパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、連続的な階調表現を有する階調模様を得る樹脂版面に関する。
【解決手段】 原画像取得部にて、樹脂版材へ付与する階調模様の原画像を取得し、デジタルデータへ変換又はあらかじめデジタルデータ化されている原画像を取得する原画像取得工程と、デジタルデータにおける階調表現に連続的に緩やかな高低差を付与するために、原画像における画像濃度と前記原画像をもとに作製した印刷物における画像濃度の対比を示す階調再現カーブに基づき、デジタルデータの階調範囲を補正し、レーザ加工部にて出力可能なデータ形式の加工用データを作製する加工用データ作製工程と、加工用データに基づいて、加工条件を設定し、加工条件をレーザ加工部へ送信するレーザ加工条件設定工程と、加工用データ及びレーザ加工条件に従って樹脂版材におけるレーザ加工領域に、レーザ加工部からレーザ光線を照射し、階調模様を形成するレーザ加工工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】微細構造および個々の回折光学素子（ＤＯＥ）、特に高速および高い書き込みエネルギーを有する計算機合成ホログラムの書き込みによって生じる技術上の問題を解決する。
【解決手段】電磁波から少なくとも部分的にコヒーレントビームを生成するための線源（４）、複数の個々に切り替え可能な変調器素子を備えた変調器（６）、変調器（６）を照らすためのビームを形成する光学素子（８）、変調器（６）によって発されたビームを縮小させるための縮小光学素子（１０）、および縮小光学素子に対してストレージ媒体（２）を動かすための移動テーブル（１２）を含む微細構造化ストレージ媒体（２）のためのデバイスであって、縮小光学素子（１０）が限定された回折で設定され、そして該素子（１０）が、個々の変調器素子の表面から少なくとも２５の表面縮小を生成する。 （もっと読む）

発光ダイオードが光源として使用される、立体リソグラフィ装置、および立体リソグラフィ装置用の露光システム。本発明は、発光ダイオードからの光を整合すること、および発光ダイオードを交換および制御することに関する。
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【課題】複数の微小なミラーを用いて、光源からの光をマルチビーム化する技術において、マルチビーム化された各ビームの光量を、連続的な任意の値に、高精度に制御する。
【解決手段】複数の微小ミラーを備えたＤＭＤ（Digital Micromirror Device）のような空間光変調デバイスと、各微小ミラーの向きを変更する動作を開始信号により開始させるミラー制御部とを設ける。レーザ光を所定の周期Ｔで照射し、各微小ミラーが所望する配置角度となっているときに当該レーザ光が当該微小ミラーに入射するように、各微小ミラーに与える開始信号のタイミングを制御する。 （もっと読む）

【課題】ディスク状の加工対象物にレーザ光を照射して、加工対象物の半径方向に予め定めた間隔で被加工部列を形成することができる、レーザ加工装置を提供する。
【解決手段】メインビームＭＢ、サブビームＳＢ_１、及びサブビームＳＢ_２の各々は、１つのレーザ光源から出射されたレーザ光を分岐して生成され、同じ光学系を経て、加工対象物の表面に照射される。内周側のサブビームＳＢ_１のビームスポットの中心点が、加工済み領域の最外周のトラックの中心線ＣＬ_in上に位置するようにトラッキング制御を行うことで、メインビームＭＢのビームスポットの中心点が、外周側に隣接するトラックの中心線ＣＬ_out上に位置するようにする。これにより、複数のピット列（トラック）を、一定のトラック間隔Ｄで順次形成する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】ある実施形態では、所望のパターンに従って変調された複数のビームに基板の露光領域をさらすように構成された変調装置と、変調されたビームを基板上に投影するように構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置が開示される。変調装置は、露光領域に対して移動可能で、及び／又は投影システムは複数のビームを受光する露光領域に対して移動可能なレンズのアレイを有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】導体で形成された配線パターンが積層されてなる多層配線板において、前記多層配線板の表層に形成されたフォトレジスト層に対し精度良く露光を行う。
【解決手段】多層配線板の微小領域に交番磁場を印加し計測対象パターン２で誘起された起電力の電圧値を検出する計測部５と、レーザ光を照射してフォトレジスト層を露光するレーザ露光部６と、レーザ露光部６を制御する制御部Ｃｏｎｔを備え、制御部Ｃｏｎｔが電圧値及び位置データより取得した多層配線板１の位置情報をもとに、露光パターンを決定し、レーザ露光部６を駆動してレーザ光を走査させつつ照射してフォトレジスト層の露光を行う配線パターン露光装置Ａ。 （もっと読む）

【課題】基板を保持するチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際に、ステージの走行誤差による描画品質の低下を防止する。
【解決手段】基板１を保持するチャック１０をＸステージ５により移動しながら、チャック１０の位置を検出し、チャック１０の位置の検出結果に基づき、Ｘステージ５の走行誤差を検出する。そして、Ｘステージ５の走行誤差の検出結果に基づき、光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給する描画データの座標を補正し、補正した座標の描画データを、光ビーム照射装置２０のＤＭＤ駆動回路２７へ供給する。Ｘステージ５に横揺れやヨーイング等の走行誤差が発生しても、パターンの描画が精度良く行われる。 （もっと読む）

【解決課題】傾斜マイクロミラーからの電磁放射に位相差を導入することが、例えば、完全又は実質的に完全な正の振幅に加えて、完全又は実質的に完全な負の振幅を含むことができるようにアドレス指定可能振幅領域を拡張する。
【解決手段】放射を生成する第１及び第２の部分を使用して、加工物上にパターン形成するための方法、及び前記加工物上にパターンを形成するように、且つ放射に位相差を誘発するように適合された少なくとも１つの反射デバイスを備え、前記位相差が、位相シフト・プレートとステップ高さの差との少なくとも一方によって誘発される、放射源と加工物にパターン形成するための装置。 （もっと読む）

【課題】表面に高密度の凹部を有し、かつ、簡易に製造が可能なパターン形成体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０に設けられたヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層２０と、フォトレジスト層２０に形成された凹部２１とを備えるパターン形成体である。凹部２１は、略平行な複数のトラック上に並んで配列され、かつ、トラックＴｎの延びる方向の位置が、隣接するトラックの２つの凹部２１の中央に配置されている。 （もっと読む）