【課題】レーザで描画した刷版パターンの面積率を高精度に測定する刷版パターンの面積率の測定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】レーザで描画した刷版パターンとして、周囲をレーザ非照射のみまたは照射のみの領域で囲んだ網点閉パターンを用い、所定の位置に移動可能な直動機構６ａ、６ｂにより、画像取り込みセンサ３にて網点閉パターンを撮像する。この時網点閉パターンは、計測範囲内側に収まる位置で画像データとして取り込まれる。刷版パターンに対する画像取り込みセンサ３の計測位置が異なっても、算出する面積率が変動しない為、高精度に測定することが可能である。また基準網点データとの比較により、レンズの歪曲収差の影響を抑え、さらに高精度に測定することが可能である。 （もっと読む）

本発明は、膜状の物質（２）をナノ構造化する方法に関する。本方法は、該物質（２）を水溶液（３）に浸漬させている間に、照明領域（６ｂ）および暗領域（６ａ）を有する干渉模様（６）を該物質（２）の少なくとも１つの面につけるステップを含む。本発明の方法によれば、上記物質は、光吸収作用によって水溶液に溶解可能になる無機半導体物質または無機酸化物である。上記物質（２）のナノ構造化を、水溶液（３）に接触する該物質（２）の表面で、該照明領域（６ａ）での光分解によって、および／または、該干渉模様（６）の暗領域（６ｂ）での成長によって行う。本発明は、このような形成方法によって得られる、ナノ構造化された被覆膜（５）、さらに、ナノ構造化された３Ｄ膜にも関する。
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本発明は、幾何学的歪に係る調整が施されるよう記録装置（１０）を再校正する方法に関する。本方法は、媒体支持器（１２）上に記録媒体（１７）を配置するステップと、個別作動可能な記録チャネル（２３）を複数個有する記録ヘッド（１６）を作動させることで、媒体支持器上に存する記録媒体上に画像特徴を１個又は複数個発生させるステップと、媒体支持器上での記録媒体の姿勢を画像特徴記録時の第１姿勢（５０Ａ）とは別の第２姿勢（５０Ｂ）に変化させるステップと、第２姿勢で媒体支持器上に存する記録媒体から画像特徴の歪を検出するステップと、歪の検出結果に従い一部の記録チャネルの作動タイミングを調整するステップと、を有する。
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【課題】複数の半導体発光素子を用いて露光光を形成する際、複数の半導体発光素子を効率良く冷却する。
【解決手段】複数の半導体発光素子４２から露光光を形成する光を発生し、複数の半導体発光素子４２から発生した光を拡大して集光して露光光を形成する。複数の半導体発光素子４２を冷却しながら、複数の半導体発光素子４２の内、点灯する半導体発光素子の数を変更して、露光光の照度を調節し、消灯する半導体発光素子を、時間の経過に伴って変更する。あるいは、複数の半導体発光素子４２を冷却しながら、複数の半導体発光素子４２の一部又は全部を断続的に点灯して、露光光の照度を調節し、断続的に点灯する半導体発光素子の一部を、他の断続的に点灯する半導体発光素子と異なるタイミングで点灯する。 （もっと読む）

【課題】パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】無機粉末と、ガラスフリットと、溶剤からなる混合物を基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記混合物を乾燥する乾燥工程と、レーザー照射により前記乾燥工程を経た塗膜にパターンを描画するレーザー照射工程と、前記パターンを現像する現像工程とを含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レリーフ全体としては圧力に対する耐性をもちつつ、印刷方向に対しては柔軟性をもつレリーフを形成し、ドットゲインの低減を図る。
【解決手段】版材の表面に網点となるレリーフが形成された凸版印刷版において、前記レリーフとして楕円錐台状のレリーフとするとともに、楕円錐台の短軸方向と印刷方向と同じ方向となるようにし、印刷方向と同じ方向の縦断面が印刷方向と直交する方向の縦断面よりも小さくなるようにしている。これにより、上記断面形状を有するレリーフは、レリーフ全体としては圧力に対する耐性をもちつつ、印刷方向に対しては柔軟性をもつものとなる。 （もっと読む）

【課題】彫刻の異常を早期に検知でき、作業効率の向上を図ることができる彫刻モニタリング方法及び装置、製版装置、並びに印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】彫刻目標となる目標立体形状データに基づいてレーザビームの出力を制御し、このレーザビームを被加工材(14)の表面に照射して当該被加工材を彫刻する。入力画像データに対応する画像領域の立体形状の彫刻作業の完了を待たずに、彫刻された部分の形状を３Ｄ形状センサ(30)で測定し、得られた形状データと目標立体形状データとの比較結果に基づき異常を検知してユーザに報知し、或いは、レーザ制御パラメータを補正する。画像領域の彫刻開始前又は画像領域の彫刻とともに、非画像部に所定のテストチャートを彫刻し、チャートを測定して得た形状データとチャートの目標立体形状データとを比較する態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】ファイバカップルド露光光源を利用したマルチビーム露光系において、所定の開口数よりも高い開口数の光ビームによって生じる発熱を抑えることができる露光装置および製版装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光ヘッドから射出される光ビームにより記録媒体を走査露光して、記録媒体の表面に画像を彫刻する。露光ヘッドは、光ビームを射出する光源と、前記光源から射出される光ビームを前記記録媒体の表面又は表面近傍に結像する露光レンズと、露光レンズよりも光ビームの進行方向の上流側または下流側、もしくは、露光レンズの内部の少なくとも一箇所に、所定の開口数よりも高い開口数の光ビームの光路中に配設され、記録媒体の表面への画像の彫刻に影響を及ぼさないように、所定の開口数よりも高い開口数の光ビームの方向を変換する方向変換部材とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターンの描画を精度よく、かつ、効率よく行う。
【解決手段】パターン描画装置１は、描画ヘッド４１を支持するヘッド支持部１２と、アライメントカメラ５１，５２を支持するカメラ支持部１３，１４との間の主走査方向の距離の変動を取得する測定部７１を備える。複数の基板９に対するパターンの描画の際には、描画ヘッド４１およびアライメントカメラ５１，５２の間の主走査方向における距離としてパターン描画時に参照される参照距離が準備され、各基板９に対するパターン描画時に、測定部７１により、ヘッド支持部１２およびカメラ支持部１３，１４の間の主走査方向における距離の変動が、描画ヘッド４１およびアライメントカメラ５１，５２の間の主走査方向における距離の変動として取得され、測定部７１からの出力に従って参照距離が初期値から更新される。これにより、パターンの描画を精度よく、かつ、効率よく行うことが実現される。 （もっと読む）

【課題】識別マークが変形することなく、また、複数のレーザ照射ユニットにおいて光路長が異なることがなくレーザビーム露光装置およびその方法を提供する。
【解決手段】レーザビーム露光装置（５）は、レーザビーム光源（５ａ）から基板までのレーザビームの光路長を調整する光路長調整ユニット（６）と、基板の移動経路上で基板の上方に設けられ、光路長調整ユニットで光路長を調整したレーザビームを基板に照射する複数のレーザ照射ユニット（７）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】密着性を有する細線パターンを、短い露光時間で形成することができる感光性材料のパターン形成方法の提供。
【解決手段】本発明の感光性材料のパターン形成方法は、基体上に形成された感光性材料からなる感光層に対し、該感光層の前記基体と反対側の表面を基準として、該感光層の厚みの１倍〜３倍長さだけ前記基体側に露光光の焦点が位置するようにして露光光を照射することにより、前記基体上にパターンを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光ビームを照射して潜像パターンを形成する記録装置と記録方法において、ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高い装置及び方法を提供する。
【解決手段】基板に対して相対的に露光ビームの照射位置を移動させて潜像パターンの記録を行なうビーム偏向部と、潜像パターンの疎密に応じて基板の移動速度を調整する基板速度調整部と、潜像パターンの形成時における露光ビームの偏向速度を基板の移動速度に対応させて変化させる制御をなす偏向制御部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】複数の照射領域において、１画素に相当する距離を大幅に超える走査方向の位置ずれの補正を容易に実現する。
【解決手段】複数の光変調素子からの光がそれぞれ照射される基板上の複数の照射領域９２ａ〜９２ｃを、照射領域９２ａ〜９２ｃの配列に交差する走査方向に移動して描画を行う際に、１画素に相当する基板上の領域の走査方向の幅を単位幅として、基板上において複数の照射領域９２ａ〜９２ｃに対して相対的に固定された参照位置と各照射領域との間における走査方向の位置ずれ量と、単位幅のα倍（ただし、αは正の整数）との差が単位幅未満となる当該αだけ所定数から増減した数のダミー画素が、当該照射領域に対応する画素列の先頭に付加され、当該差が描画時に利用される位置補正シフト量として取得される。これにより、複数の照射領域において１画素に相当する距離を大幅に超える走査方向の位置ずれの補正が容易に実現される。 （もっと読む）

【課題】位置決め用切欠部と画像パターンとを、互いの相対位置が一致するように精度良く形成することが可能なスリーブ印刷版の製造方法及びスリーブ印刷版の製造装置を提供する。
【解決手段】スリーブ印刷版の製造方法であって、位置決め用切欠部を形成する位置決め切欠部形成工程と、凸版の画像パターンを形成する画像パターン形成工程と、を有し、スリーブ素体４０が装着可能な回転ドラム５１及びこの回転ドラム５１を回転可能に支持する軸支部５２を有するスリーブ素体支持部５３と、回転ドラム５１に装着されたスリーブ素体４０に対してレーザ光を照射するレーザ光照射部６０と、を備えたレーザ加工機を用いて、位置決め用切欠部形成工程及び画像パターン形成工程を、同一のスリーブ素体支持部５３にスリーブ素体４０を装着した状態で行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発光制御部および駆動部に対して別々に電力を供給する構成において、発光素子の誤発光を抑制することを可能とする技術を提供する。
【解決手段】像を担持する像担持体と、駆動信号に応じて発光する発光素子を有し、発光素子からの光により像担持体を露光する露光ヘッドと、第１の電力の供給を受けて、発光素子の発光を制御する発光制御信号を生成する発光制御部と、第２の電力の供給を受けて、発光制御信号に基づき発光素子に駆動信号を出力する駆動部と、駆動部への第２の電力の供給開始あるいは駆動部への第２の電力の供給停止を、発光制御部へ第１の電力が供給されている状態で行なう電力供給制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡易な処理にて基板の変形に応じた描画データの補正処理を行える直接描画装置を提供する。
【解決手段】ベクター形式のパターンデータから変換されたラスター形式の初期描画データが表現する描画対象画像を含む描画領域を、複数のメッシュ領域に仮想的に分割し、複数のメッシュ領域の各々について、描画領域における配置位置と当該配置位置における描画内容とを関連づけた分割描画データを生成しておく。描画時には、描画対象とされる基板を撮像することにより得られる撮像画像から特定される、基板に設けられたアライメントマークの位置に基づいて、複数のメッシュ領域を基板の形状に応じて再配置する際の配置位置を特定し、複数のメッシュ領域を特定された配置位置に再配置させた状態で、分割描画データにおいて複数のメッシュ領域と関連づけられている描画内容を合成し、一の描画データを生成する。 （もっと読む）

【課題】効率的に光を照射することができると共に、照射面積の拡大を図ることができるようにする。
【解決手段】支持台１８の載置面１８ａに搭載される複数の面発光素子２１Ａ〜２１Ｄと、複数の面発光素子２１Ａ〜２１Ｄからのそれぞれの光の像Ｌ_Ａ〜Ｌ_Ｄが被照射物で互いに重なり合うよう光を集光する集光レンズを備える。そして、複数の面発光素子２１Ａ〜２１Ｄのうち第２の面発光素子２１Ｂは、載置面１８ａに平行で且つ第１の面発光素子２１Ａに対して第２の発光面２１ｂの中心を軸として角度θ_１回転して配置される。そのため、被照射物には、第１の面発光素子２１Ａからの光の像Ｌ_Ａと、第１の面発光素子の光の像ＬＡに対して回転した第２の面発光素子２１Ｂからの光の像Ｌ_Ｂが投影される。これにより、効率的に光を照射することができると共に照射面積の拡大を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】発光素子間の距離を変更することなく、出射光の縦横の照射サイズを任意に変更することができる光源装置を提供する。
【解決手段】光出射体１からの出射光は、光反射面３Ａ１、３Ａ２、３Ａ３で反射される。光反射面３Ａ１〜３Ａ３は平面状の複数の光反射面並べたものであり、反射した光の行方向（光出射体１のＸ方向）の中心光線間の相互の距離が入射する前より小さくあるいは大きくなるように構成され、光出射体１からの出射光の行方向のサイズが変更される。この反射光は、光反射面４Ｂ１、４Ｂ２、４Ｂ３で反射される。光反射面４Ｂ１〜４Ｂ３も、光反射面３Ａ１〜３Ａ３と同様な構成であり、反射した光の列方向（光出射体１のＹ方向）の中心光線間の相互の距離が入射する前より小さくあるいは大きくなるように構成され、列方向のサイズが変更される。なお、上記反射面が歪曲面（凹面）であってもよい。 （もっと読む）

【課題】 従来の装置構成をそのまま利用して、簡易な構成で、記録ヘッドとカメラの位置のキャリブレーションを実行することが可能な画像記録方法を提供すること
【解決手段】 複数の記録ヘッドにより、ロール状に巻回され一条で長尺の記録材料に対して記録ヘッドの位置をキャリブレーションするためのヘッドキャリブレーションパターンと、カメラの位置をキャリブレーションするためのカメラキャリブレーションパターンとを形成するキャリブレーションパターン形成工程と、ヘッドキャリブレーションパターンとカメラキャリブレーションパターンとをカメラで撮像することにより、各ヘッドの位置誤差およびカメラの位置誤差を測定する測定工程とを備え、測定工程で得た位置誤差を利用して、複数の記録ヘッドによる画像の記録位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】複数の光ビーム照射装置を用い、複数の光ビームにより基板の走査を行う際に、各光ビーム照射装置のヘッド部の位置ずれによる描画品質の低下を防止し、パターンの描画を精度良く行う。
【解決手段】チャック１０の表面にヘッド位置ずれ検出用マーク１３を設け、各光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａに、ヘッド位置ずれ検出用マーク１３の画像を取得して、画像信号を出力する画像取得装置５０を設ける。チャック１０の位置を検出し、チャック１０の位置の検出結果に基づき、ステージ５，７の移動を制御して、チャック１０を位置決めし、ヘッド部２０ａに設けた画像取得装置５０により、ヘッド位置ずれ検出用マーク１３の画像を取得する。各画像取得装置５０が出力した画像信号を処理して、各ヘッド部２０ａの位置ずれを検出し、検出結果に基づき、各ヘッド部２０ａを移動して、各ヘッド部２０ａの位置ずれを補正する。 （もっと読む）