【課題】画像形成装置に露光装置を挿入しながら露光装置の位置決めをする。
【解決手段】装置本体４０のフレームのうち、画像露光装置５が挿入される空間のＹ（＋）側およびＹ（−）側にあるフレームには、板金等で形成された２つのガイド８９がそれぞれ固定されている。第１支持ピン７１の長手方向の両端突出部は、画像露光装置５の挿入時において、各ガイド８９の下側（Ｚ（−）側）の表面に接触しながらＸ（−）方向に移動する。このため画像露光装置５の筐体５０は、第１支持ピン７１がガイド８９の下側面よりも上側（Ｚ（＋）側）に上昇しないようにガイド８９によって下方向（Ｚ（−）方向）に押さえつけられた状態で、画像形成装置１に挿入される。画像形成装置１への画像露光装置５の固定は、位置決め突起６８を支持板８０に設けられた挿入溝に挿入した後、第１支持ピン７１を固定し、第２支持ピン７５を固定するという順序で行われる。 （もっと読む）

フレキソ印刷要素を熱現像して表面上にレリーフ像を形成する装置、及び前記フレキソ印刷要素を現像する方法。前記方法は、フレキソ印刷要素の画像形成及び露光表面上の架橋フォトポリマーを軟化又は溶融させることを含む。前記装置は、フレキソ印刷要素の画像形成表面と接触し、且つ前記フレキソ印刷要素の画像形成表面上を移動して、前記フレキソ印刷要素の画像形成及び露光表面上の軟化又は溶融した非架橋フォトポリマーを除去するロールを含む。前記非架橋フォトポリマーは、フレキソ印刷要素の画像形成表面に隣接するヒータを用いて、又は前記印刷要素の表面と接触する１つのロールを加熱することによって軟化又は溶融する。任意で、前記装置は、熱現像前にフレキソ印刷要素の画像形成表面を硬化させる装置である。 （もっと読む）

【課題】 加工対象物に、複数の加工跡がランダムに形成されるようにする。
【解決手段】 加工対象物ＯＢをセットしたテーブル２１を回転させるとともに、加工ヘッド３０から出射されたレーザ光により加工対象物ＯＢに形成されたレーザスポットを、テーブル２１に対して相対的にテーブル２１の半径方向に移動させた状態で、レーザ光源３１からパルス列状の加工用レーザ光が出射されるようにレーザ光源３１を駆動して、加工対象物ＯＢに、テーブル２１の半径方向に沿うとともに、テーブル２１の回転方向に沿った複数の加工跡を形成する。そして、テーブル２１の半径方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔、テーブル２１の回転方向に沿って形成される複数の加工跡の間隔、及び形成される複数の加工跡の大きさのうちの少なくとも１つの要素を、ランダムに変化させる。 （もっと読む）

【課題】基板が変形した場合において、描画データで想定している基板の形状と実際の基板の形状とのずれを低減して、より実際の基板の形状に合った描画を可能にする。
【解決手段】描画データ補正方法は、描画領域を規定する位置座標と、描画領域に設けられた基準点の位置を示す基準位置座標と、を有する描画データを準備すること（ステップＳ１２）と、被描画体の位置座標の変位態様を求めること（ステップＳ１４）と、被描画体の位置座標の変位態様に基づいて基準位置座標を補正すること（ステップＳ１５）と、補正後の基準位置座標に基づいて、描画領域の形状を維持したまま描画領域の位置座標を補正すること（ステップＳ１６）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの位置ずれ量が基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。
【解決手段】下地パターンの基板１内での位置を、基板１全体に渡って検出し、検出した下地パターンの基板１内での位置に応じて、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する描画データを作成する。基板１をチャックに搭載し、チャック１０と、光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターンを形成することができるレーザーを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、基材上に形成した無機粉末を含む塗膜に対し、パターンを描画するレーザー照射と同時にそのレーザー照射部を冷却する冷却工程と、前記パターン以外の部分を除去する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターン描画装置において光源を小型化した装置および光源を提供する。
【解決手段】 パターン描画装置１は、複数の描画ユニット４を備え、これらが有する光源部３０をパッケージＬＥＤ３１１を用いて小型化する。パッケージＬＥＤ３１１の発光部であるＬＥＤベアチップ３１５を同じ姿勢で、かつ等間隔に配置するためにアライメントシート３１９を用いることで、複数のパッケージＬＥＤ３１１を高精度かつ容易に電極基板３１３に一括実装することができる。これにより、安価であるパッケージＬＥＤ３１１を利用することができ、コストの削減ができるとともに、光源を小型化したパターン描画装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】光を少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際にも、パターンの生成を安定化させる。
【解決手段】マイクロミラーデバイスに光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際に、光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の予め設定されたタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報をマイクロミラーデバイスに転送する。 （もっと読む）

【課題】少ない工数で製造可能で、しかもコンパクトな空間光変調器および該空間光変調器を装備した露光装置を提供する。
【解決手段】配線基板３３２では、下方主面に複数の導電性パッドが形成されるとともに、上方主面から下方主面に貫通する複数の貫通孔の各々に導電性部材が設けられている。また、この配線基板３３２の上方主面には複数の第１電極３３３が設けられ、各第１電極３３３の他方端部がそれに対応する導電性部材を介して導電性パッドに電気的に接続され、変調部から導電性パッドおよび導電性部材を介して電圧を付与される。したがって、変調部と各第１電極３３３とをワイヤーボンディング接続により電気的に接続していた従来技術に比べ、配線領域を狭めることができ、空間光変調器３３のコンパクト化が可能となる。 （もっと読む）

【課題】描画ラスタデータにおける異常の有無を容易に検証する。
【解決手段】パターン描画装置では、入力ラスタデータがデータ受付部６３にて受け付けられる。入力ラスタデータは、チェックパターンを示すダミーラスタデータを描画パターンを示す描画ラスタデータに付加したものである。そして、入力ラスタデータが示す全体パターンにおけるチェックパターンの領域を示す領域情報、および、チェックパターンを示す参照ラスタデータが別途準備され、領域情報に基づいてチェックパターンの領域に対応する入力ラスタデータの部分と参照ラスタデータとを比較部６４にて比較することにより、データ受付部６３にて受け付けられる入力ラスタデータにおける異常の有無が確認される。これにより、パターンの描画に用いられる描画ラスタデータにおける異常の有無をリアルタイムにて容易に検証して、パターン描画の信頼性を向上することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】半導体レーザ（LD）、LED、ランプ等の発光源、およびレンズ、ファイバ等の伝送、転写、集光等の光学部品を備えた光源装置において、装置内における硫酸イオン量を低水準に保つことにより、硫酸アンモニウムの光学部品への付着を防ぐことのできる光源装置を提供する。
【解決手段】光を出射する光源１と、光源から出射された光２を処理する光学部品３と、光学部品を収納する、または光学部品が取り付けられる筐体とを備え、筐体は、硫黄成分を含まない材料を切削することにより形成され、前記材料が表面に露出している。 （もっと読む）

【課題】非常に高い印刷精度・膜厚精度が必要とされる有機パターン層を形成することができる樹脂版を作成する上で有利な樹脂版の製造方法および電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基材１０１上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層１０２を成膜し、基材１０１と感光性樹脂層とを有するパターン転移媒体を作成する。次いで感光性樹脂層１０２が架橋反応する波長のレーザ光を予め入力された情報に基づいて光変調手段により変調することにより露光光のパターンを形成して感光性樹脂層１０２に照射し、パターン転移媒体と露光光とを相対移動させることで感光性樹脂層１０２をパターン露光する。次いで感光性樹脂層１０２のうち未露光部分の感光性樹脂を除去し、レーザ光のスポット径に対応する線幅の樹脂パターンが形成された感光性樹脂凸版を得る。 （もっと読む）

【課題】
微少ミラーを２次元配列したミラーデバイスを用いたパターン描画装置において、感光剤の塗布された基体上への投影像をイメージセンサで観察・測定する際に、正確かつ精細に画像データを取得する。
【解決手段】
ミラーデバイス１０３で生成された画像パターンを感光剤の塗布された基体１０７上に投影し、この投影像を撮像光学系１０９とハーフミラー１０５と投影光学系１０６によってイメージセンサ１１０に結像させる。このとき、イメージセンサ１１０の撮像面に結像した微少ミラー像のピッチとイメージセンサ１１０の撮像画素ピッチとが整数比となるような撮像光学系１０９とする。 （もっと読む）

【課題】４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、パターン形成装置、パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に少なくとも感光層を有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤及び増感剤を含み、該感光層が３８０〜４２０ｎｍの波長域に分光感度の極大値を有するとともに、４００ｎｍにおけるパターン形成可能な最小露光量Ｓ₄₀₀が２００ｍＪ／ｃｍ²以下であり、４１０ｎｍにおけるパターン形成可能な最小露光量Ｓ₄₁₀が２００ｍＪ／ｃｍ²以下であり、かつ、０．６＜Ｓ₄₀₀／Ｓ₄₁₀＜１．４を満たす感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料である。 （もっと読む）

【課題】光の波長に依存することなく、所望のパターンの光を対象物に照射する技術を提供することを課題とする。
【解決手段】空間光変調装置１は、空間光変調器３の隣接する変調領域（変調領域３ａ、変調領域３ｂ）で変調された変調光（光線Ｌａ、光線Ｌｂ）間で生じる光路長差を、光路長差補償器２の補償領域（補償領域２ａ、補償領域２ｂ）での偏向により補償する。 （もっと読む）

基材上に完成パターンを像形成させるレーザーアブレーションプロセスで用いられるための分散したパターンを有するマスク。このマスクは、光を透過するための複数の開口と、この開口の周囲の非透過区域とを有する。分散したパターンのための開口が基材上に繰り返し像形成される場合に、分散したパターン内の構造は、像形成されたパターンの様々な領域内で合併し、レーザーアブレーションにおけるスティッチング効果を軽減又は除去するために、分散したスティッチ線を使用して完成パターンを生成する。まばらでかつ分散したパターンもまた形成し得るマスクは、完成パターンの合併部分を個別に形成し、かつ分散したパターンを総じて形成する開口を含む。
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【課題】大面積の基板を１回の走査で露光するリソグラフィ装置と方法を提供する。
【解決手段】照明システムは、個別制御可能の要素のアレイでパターン形成したビームを供給し、ビームをレンズアレイに通して基板の目標部分へ投影し、アレイの各レンズはビームの各部分を基板へ配向し、変位システムは、基板とビームを相対的に変位させ、ビームは所定の走査方向に基板全体で走査される。投影システムを各トラックに沿って各ビームを走査するように位置決めする。各トラックはビーム１本で走査する第一部分と、隣接トラックと重なりビーム２本で走査する第二部分を有する。第一部分への各ビーム部分の最大強度は第二部分へのビーム部分の最大強度より大きいので、第一と第二部分はほぼ同じ最大強度の放射線に露光する。隣接ビームをこのように重ねビーム強度を変調すると異なる光列の光学的フットプリントが継合わされ１回の走査で大面積の基板を露光できる。 （もっと読む）

基板に像を書き込むため、複数個の輻射器群を有する輻射器アレイと、各輻射器群からの光を基板側に合焦させる成像レンズと、を備え、基板表面に対する光合焦位置の深さがその輻射元の輻射器群毎に異なる成像ヘッドを使用する。それら複数個の輻射器間で、フレキソ印刷版の同一領域に関する彫版期が互いに異なるので、この成像ヘッドでフレキソ印刷版に３Ｄ成像を施すことが可能である。
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【課題】検出センサの調整或いは交換等のメンテナンスを行なっても生産性の低下を防止、或いは低減できる露光装置を提供する。
【解決手段】フォトレジストが塗布された基板１０１を載せるチャック１２８と、チャック上の基板の高さを測定する検出センサ１２６と、露光用の光ビーム照射装置１０９とを備えたマスクレス露光装置において、検出センサ１２６のセンサと基板１０１との間となる位置に更に基準ガラス１２７を備え、基準ガラス１２６と基板１０１との間の距離が所定の値となるように基板１０１の高さを調整する。 （もっと読む）

【課題】アブレーション速度に優れ、薄膜でありかつ容易に剥離できるレジスト被膜を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板の上にレジスト被膜を形成する工程と、前記レジスト被膜にレーザー光線を照射してレーザーアブレーションにより前記レジスト被膜の所定部分を除去する工程を含むレジストパターン形成方法であって、前記レジスト被膜を、アルカリ可溶性基がアルキルビニルエーテルを用いてブロックされているモノマー単位を有するビニル系重合体（Ａ）、及び、ニグロシン（Ｂ）を含有するレジスト組成物から形成することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）