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Fターム[2H141MF25]の内容

機械的光制御・光スイッチ (28,541) | 目的 (3,151) | 歩留まりの向上 (84)

Fターム[2H141MF25]に分類される特許

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【課題】製造コストが低いデジタル光処理投影装置及びその表示方法を提供する。
【解決手段】本発明による表示方法は、駆動回路板と、駆動回路板上に設置され、複数のマイクロミラー及び予め設定された光入射方向を表示するための識別マークを含み、マイクロミラーの位置が第一の安定状態及び第二の安定状態から選択されるデジタルマイクロミラーデバイスとを提供するステップと、予め設定された光入射方向と異なる動作方向に沿ってデジタルマイクロミラーデバイスに入射する照明光束を提供するステップと、含み、デジタルマイクロミラーデバイスは、照明光束を映像光束に変換して投影レンズに入射させ、映像を投影させる。 (もっと読む)


【課題】気密パッケージされたMEMSアレイ・ベースのROADMモジュールを提供する。
【解決手段】筐体の側壁および上蓋はコバールから作られ、また基部はアルミナ・セラミックから作られて、筐体の側壁にAuSnではんだ付けされる。MEMSアレイはセラミック基部に取り付けられる。光学系は取り外し可能なテンプレートを使用して予めパッシブ・アライメントされ、光学台にエポキシ樹脂で接着される。光学台は全体としてアクティブ・アライメントされ、セラミック基部に取り付けられる。複数の電気フィードスルー接触ピンがセラミック基部の底部から延びて、MEMSをプリント回路基板上のコネクタへ接続する。本発明の一実施形態では追加の電子部品、たとえばMEMSドライバ回路チップを筐体のセラミック基部へ直接取り付けるために、セラミック基部はモジュールの筐体の側壁の実装領域を越えて延びる。 (もっと読む)


【課題】揺動体装置を構成する揺動体やねじりバネの製造過程に加工誤差がある場合でも、迅速かつ高精度に共振周波数を調整することができる揺動体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】固定部に対し、ねじりバネによってねじり軸まわりに揺動可能に支持され、共振周波数で駆動される揺動体を備えた揺動体装置の製造方法であって、
前記揺動体の慣性モーメント量の想定値を決定する第1のステップと、
前記共振周波数を測定する第2のステップと、
前記第1及び第2のステップにおける慣性モーメント量の想定値及び測定された共振周波数から、前記ねじりバネのバネ定数を算出する第3のステップと、
前記第3のステップで算出されたバネ定数と、前記揺動体の共振周波数に対し決定された目標共振周波数から、該目標共振周波数に調整するための前記揺動体の慣性モーメントまたは前記ねじりバネのバネ定数の調整量を算出する第4のステップと、を有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】可動板の挙動の検出精度が高いため、安定した駆動を行うことができ、かつ製造効率の高いアクチュエータ、およびかかるアクチュエータを備えた光スキャナおよび画像形成装置を提供すること。
【解決手段】本発明のアクチュエータは、光反射部29を有し、回動可能に設けられた第2の質量部23を有し、第2の質量部23を回動させることにより、光反射部29で反射した光を対象物に走査するものであって、接合膜15を介して支持部24に接合された発光部11と受光部とからなる光学センサを有する。この接合膜15は、エネルギー付与前において、シロキサン結合を含みランダムな原子構造を有するSi骨格と、このSi骨格に結合する脱離基とを含み、エネルギーを付与することにより、一部の脱離基がSi骨格から脱離し、代わりに活性手が生じる。これにより、接合膜15に接着性が発現し、支持部24と発光部11とが接合されている。 (もっと読む)


【課題】異なる共振周波数のマイクロ揺動体を同じエッチングマスクで製造することができ、有効反射面積の低下及び共振周波数の製造ばらつきを抑制することが可能となる揺動体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】単結晶シリコン基板に、個々の揺動体が複数連結された繰り返し形状によるパターンを有するエッチングマスクを形成する工程と、エッチングマスクをマスクとして、単結晶シリコン基板をエッチングし、単結晶シリコン基板に繰り返し形状を形成する工程と、個々の揺動体として用いられる際に必要とされる共振周波数を規定する揺動体の可動部6及び支持基板の幅を決定し、ダイシングによって切断するダイシング工程と、を有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】可動部を気密封止する際の封止部材のアライメントを容易にする。
【解決手段】ウェハ上の各ダイの周辺領域に第1のマスクパターンを形成するステップと、第1のマスクパターンから露出した第1の露出領域を所定深さだけ除去して、ダイの周辺領域に対応する部分を当該第1の露出領域よりも突出した段差形状に形成するステップと、第1の露出領域中の周辺部の全周に亘って第2のマスクパターンを形成するステップと、第2のマスクパターンから露出した第2の露出領域を除去して側壁部を形成するステップと、側壁部で規定される中空空間に可動部を形成するステップと、段差形状に所定の封止部材を当て付けて、当該封止部材が中空空間を閉塞するよう位置合わせするステップと、位置合わせされた封止部材を接合して中空空間を気密封止するステップと、を含む方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】光スキャナの共振周波数のばらつきを抑える。
【解決手段】可動板101、トーションバー103、フレーム部105がシリコン単結晶の基板を加工して一体形成された光スキャナ。基板の一面からのエッチング工程により、凹部102とトーションバー103が加工される。凹部102の底面と、トーションバー103の一面(図の上面)は同じ高さ位置にある。エッチング誤差があっても、可動板101の慣性モーメントの増減とトーションバー103のバネ定数の増減の影響が相殺されるため、共振周波数の変動が抑えられるため、共振周波数のばらつきの少ない光スキャナを実現できる。 (もっと読む)


【課題】 ウエハ厚みばらつきがあっても、固有振動モードの周波数の誤差を小さくする。
【解決手段】 可動部をねじり軸を中心に揺動可能に支持する支持部を有する揺動体装置であって、前記支持部は前記ねじり軸に垂直な断面がX字形状であり、前記X字形状の上面及び下面に形成された凹部のそれぞれの底を互いに結ぶ距離L1と、前記X字形状の側面に形成された凹部のそれぞれの底を互いに結ぶ距離L2と、前記支持基板の厚さtの変化に応じて、前記可動部のねじり軸まわりの慣性モーメントが変化する率αiとが、L1/L2=C1・Exp{C2・(αi+C3)}+C4・αi+C5、前記C1、C2、C3、C4、C5は、それぞれ、C1=5.0×10^−1、C2=−4.4、C3=4.6×10^−2、C4=−6.0×10^−1、1.5<C5<1.7の関係であることを特徴とする揺動体装置。 (もっと読む)


【課題】光を角度分散する分散素子から不等間隔で出力される光を等間隔となるように補正する。
【解決手段】第一の分散素子1は、波長多重された光を波長ごとに角度分散して出力する。第二の分散素子2は、第一の分散素子1から出力される各波長の光を等間隔にして出力する。これにより、第一の分散素子1から不等間隔で出力される各波長の光は、第二の分散素子2によって、等間隔となるように補正して出力される。 (もっと読む)


【課題】 良品歩留まりの高い状態で可動する微細なミラーを備えた光スイッチ装置が製造できるようにする。
【解決手段】 ミラー基板100のミラー105が形成された表面に、粘着力が変化する粘着層を備えたマウントフィルム(第1粘着フィルム)106を貼り付けて保護した状態で、ミラー基板100を切断分割してミラーチップ109を形成し、マウントフィルム106の粘着層の粘着力を低下させてからミラーチップ109を取り外す。 (もっと読む)


【課題】製造時にMEMSデバイスが汚染される可能性が低いMEMSデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】MEMSデバイスの製造方法は、MEMSデバイスのベースとなるガラス基板20をシリコン(Si)基板と陽極接合するステップと、ガラス基板20の分離予定部21上にSiパターン70が形成されるように、前記Si基板のパターン形成を行うステップと、分離予定部21について、ガラス基板20とその上に形成されたSiパターン70の一部とをダイシングするステップと、ダイシング後に、MEMSデバイスが有する可動部とアクチュエータとをガラス基板20のSiパターン70が形成される側に配置するステップと、その後一部がダイシングされたSiパターン70について力を加えて破断し、ガラス基板20を分離予定部21で分離するステップと、を具備する。 (もっと読む)


【課題】歩留まりおよび消費電力が改善される。
【解決手段】支持基板層11aおよび中間層11bが順に積層された底面部11cと、底面部11c上に形成され、内壁にトーションバー12を介してマイクロミラー13が一体的に形成され、上面にスペーサ14を備えるデバイス部11dとを有するミラー基板11と、一対の透明電極16が、マイクロミラー13の両端部もしくは両端部近傍にそれぞれ重なるように配置され、スペーサ14を介してミラー基板11と接合する上部ガラス基板15と、により構成するようにした。 (もっと読む)


【課題】走査装置および方法を提供すること。
【解決手段】この装置は、光伝送器と、光伝送器の出口先端部から離れて配置された、光伝送器を支持するための取付台と、光伝送器を、第1の方向に共振的に振動するように、また第1の方向と直交する第2の方向に非共振的に振動するように駆動するための駆動部と、光伝送器の出口先端部が走査パターンを実施するように、光伝送器の第1の方向と第2の方向の振動を同期させるためのシンクロナイザとを備える。駆動部が、光伝送器に対して、取付台と出口先端部との間に駆動力を加える。 (もっと読む)


【課題】光変調器のパッケージング、ディスプレイ装置の製造などの次の工程に不良光変調器が伝達されることを防止して製造費用を大きく減少できる光変調器のチップ状態での正常動作の可否を検査する装置及び方法を提供する。
【解決手段】入力された制御信号を駆動信号に変換し、光変調器の各駆動信号入力パッドに接触して駆動信号を提供するプローブカードであって、光変調器は一つ以上のマイクロミラー及びマイクロミラーにそれぞれ繋がった一つ以上の駆動信号入力パッドを有し、マイクロミラーは駆動信号入力パッドを通して入力された駆動信号により上下に移動するプローブカードと、光変調器の誤動作の可否を確認するための制御信号を生成し、プローブカードに電気的に接続されて制御信号を伝送する映像制御回路とを備える光変調器検査装置及びその検査方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】インターフェロメトリック変調器に関するプロセスコントロールモニターを提供する。
【解決手段】MEMSデバイス108の製造に用いられるプロセスステップと同じプロセスステップの少なくとも一部を用いて製造されるプロセスコントロールモニター100、102、及び104が開示される。プロセスコントロールモニター100、102、及び104の分析は、MEMSデバイス108の性質及び前記デバイス内の構成要素又は副構成要素に関する情報を提供することができる。この情報は、加工の際の誤りを識別するために又はMEMSデバイス108を最適化するために用いることができる。幾つかの実施形態においては、プロセスコントロールモニター100、102、及び104の分析は、光学的測定値を利用することができる。 (もっと読む)


【課題】微小電気機械システムデバイスの製造中の表面電荷を低減するための方法を提供する。
【解決手段】MEMSデバイスの製造中における表面付随電荷の形成および蓄積と、それに付随する有害作用を防止する方法がここに提供される。いくつかの実施形態において、ここに提供する方法は、イオン化ガスの存在下において犠牲物質をエッチングする。イオン化ガスは、エッチングプロセスの間に生成される荷電種を中性化し、他のエッチング副産物と一緒にそれらの除去を可能にする。また、本発明の方法によって形成された微小電気機械デバイスと、そのようなデバイスを包含する視覚ディスプレイデバイスが示される。
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ディスプレイシステムは、光源と、その光源に結合され、照明経路に沿って照明ビームを供給するように構成された第1の光学系とを含む。ディスプレイシステムは、照明経路に配置された空間光変調器をさらに含む。空間光変調器は、複数の電極デバイスを含む半導体基板と、半導体基板に結合されたヒンジ構造とを含む。ヒンジ構造はシリコン材料を含む。空間光変調器には、ヒンジ構造に結合され、半導体基板から所定の距離まで延びるミラー柱と、ミラー柱に結合され、複数の電極デバイスの上にあるミラー板とがさらに含まれる。ディスプレイシステムは、空間光変調器に結合され、画像を映写面上に投写するように構成された第2の光学系をさらに含む。 (もっと読む)


空間光変調器デバイスによって提供されるコントラストは、ピクセルの反射表面の背後に支持柱状体及び可動ヒンジなどの非反射要素を配置することによって強調されてもよい。一実施形態によれば、反射表面は、犠牲層内のギャップによって画成された反射材料と一体のリブによって上方で支えられ、且つヒンジ含有層を下に置いている。代替的実施形態によれば、反射表面は酸化物などの介在層中に形成されたギャップによって下側のヒンジから分離される。どちらの実施形態でも、隣接のピクセル領域を分離している壁は、反射表面より下に凹んでいてもよく、入射光の望まれない散乱をさらに低減し、それによってコントラストを強調できる。 (もっと読む)


第1の面が第2の面に接着される(110)。第1の面及び第2の面がプラズマ処理される(102)。第1の面だけが湿式処理される(104)。第1の面及び第2の面が互いに接合され、第1の面を第2の面に接着する(110)。
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支持構造を有するMEMSデバイス、およびその製造方法
MEMSデバイスの実施形態は、導電性の移動可能層を含み、該移動可能層は、ギャップによって導電性の固定層から隔てられ、導電性の移動可能層内のくぼみの上にある剛性の支持構造もしくはリベットによって、または導電性の移動可能層内のくぼみの下にある柱によって支持される。特定の実施形態では、リベット構造の部分は、移動可能層を通って下の層に接触する。他の実施形態では、剛性の支持構造の形成に使用される材料を、MEMSデバイスと電気的に接続する不動態化を経ないと曝されるであろうリードを不動態化して、これらのリードを損傷またはその他の干渉から保護するためにも用いることができる。
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