【課題】発熱に伴う応力に起因する発光素子のダメージの低減、およびミラー部や隙間部分の内部導波路に剥離が発生しにくいように工夫した光モジュールを提供する。
【解決手段】 基板１の表面に形成された溝１ａ内に設けられた内部導波路１６と、この溝１ａの先端部に形成された光路変換用のミラー部１５とを備えている。このミラー部１５と対向するように基板１の表面に実装され、ミラー部１５を介して内部導波路１６のコア部１７に光信号を発光し、若しくはミラー部１５を介して内部導波路１６のコア部１７からの光信号を受光する光素子１２ａ，１２ｂとを少なくとも備えている。光素子１２ａ，１２ｂの内の発光素子１２ａとミラー部１５との間の隙間部分Ｓの内部導波路１６の材料は、それ以外の内部導波路１６の材料よりも低応力な別材料である。 （もっと読む）

【課題】電気伝送を代替する光インターコネクション用の光結合回路を部品点数が少なく且つ安価に入手し得るようにし、損失の少ない送受信用光モジュールを提供すること。
【解決手段】光インターコネクション回路の一部を成す光結合回路１１を、ボード１０上に入力される光信号を一方の端部から他方の端部に案内する導波路１２と、この導波路１２の他方の端部に異なった方向への光信号の送受信を案内する４５度多重反射ミラー１４と、この４５度多重反射ミラー１４を介して光信号を送受信し外部に対して信号の授受を中継する信号伝達手段１５，２５…とを備え、前記導波路１２には前記４５度多重反射ミラー１４内での光信号の広がりを抑制する光レンズ部１２ｃを設け、この光レンズ部１２ｃを前記導波路と一体化するように構成した。そして、信号送受信用光モジュールでは、この光結合回路を装備した。 （もっと読む）

【課題】光導波路ユニットのコアと電気回路ユニットの光学素子との調芯作業が不要であり、かつ、量産性に優れている光電気混載基板およびその製法を提供する。
【解決手段】光導波路ユニットＷと、光学素子１０が実装された電気回路ユニットＥとを、結合ピンＰにより結合させてなる光電気混載基板であって、光導波路ユニットＷは、オーバークラッド層３の表面に形成された結合ピン嵌合用の嵌合孔３ａを備え、その嵌合孔３ａは、コア２の一端面２ａに対して所定位置に位置決め形成されている。電気回路ユニットＥは、結合ピン嵌通用の嵌通孔１６を備え、その嵌通孔１６は、光学素子１０に対して所定位置に位置決め形成されている。そして、結合ピンＰを、電気回路ユニットＥの嵌通孔１６に嵌通させるとともに光導波路ユニットＷの嵌合孔３ａに嵌合させた状態で、光導波路ユニットＷと電気回路ユニットＥとが結合している。 （もっと読む）

【課題】使用する光信号の波長制約が少なく、かつ光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、光ファイバの位置ずれ・ピッチずれがしにくく、光学素子の実装が容易であり、かつ基板の大きさの制限を受けずに光路変換ミラーを備えられる光ファイバ配線板及び光ファイバ電気配線複合基板を提供する。
【解決手段】本発明の光ファイバ配線板は、光ファイバを固定するための溝を有する光ファイバガイド部材と、クラッド層及びコアパターンを有する光導波路とが、該溝に固定された光ファイバと光信号を送受可能な位置に並設されてなる光ファイバコネクタと、前記溝に固定された光ファイバとが、第１基板上に具備されてなる。 （もっと読む）

【課題】成形型を用いてオーバークラッド層を形成する場合に、その成形型を位置決めする際に利用するアライメントマークを、ＣＣＤカメラ等の認識装置により容易に認識できるようにする光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板１０上に形成したアンダークラッド層１の上面に、コア２とアライメントマークとをフォトリソグラフィ法により突出形成し、そのアライメントマークを目印として位置決めされる成形型を用いてオーバークラッド層を形成する光導波路の製法において、上記アライメントマークの形成に、フォトマスク２０として、アライメントマーク形成用の開口パターン２３が、開口部２３ａと、この開口部２３ａの周囲の、開口率が１０％を上回り８０％を下回る範囲内に設定された透光量減少領域２３ｂとからなるものを用い、アライメントマークの周側面を傾斜面に形成する。 （もっと読む）

【課題】光導波路のコアと光路変換手段とが高い位置精度で形成された光回路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光回路基板１００は、プリント配線板１１０と、これに平行に配置された光導波路１２０とを備えており、光導波路１２０の所定の位置に光路変換手段のミラー１３０が設けられている。ミラー１３０は、導体パターン層１１１と同じ銅で形成されており、プリント配線板１１０上に光導波路１２０が形成される前に、導体パターン層１１１の形成と同時に形成されている。 （もっと読む）

【課題】高分子材料を鋳型に注入して製造する方法において、コアが直線状に形成されないので、コアの長さが鋳型の大きさによって制限されずに、長尺のコアを形成できる。
【解決手段】高分子材料からなるコアと、当該コアの少なくとも一面に接して設けられたクラッドフィルムとを有する高分子光導波路において、前記コアは、前記クラッドフィルムの表面に対して４５°の角度で傾斜する反射ミラー面を有するとともに、前記コアは、少なくともその一部が、螺旋状に配置されており、前記螺旋状に配置されたコアの間で、クラッドフィルムが分離可能とされていることを特徴とする高分子光導波路。 （もっと読む）

【課題】容易かつ精度の高い微細加工が可能である光導波路素子の製造方法を提供する。
【解決手段】先端１２ｃを有するテーパ部１２を有するコア４を備えた光導波路素子を製造する方法であって、コア４の材料からなるコア層１４を形成するコア層形成工程と、コア層１４に接する補助層１８を形成する補助層形成工程と、コア層１４にテーパ部１２を形成しコア４を得るテーパ部形成工程とを含む。コア層形成工程は、テーパ部１２の先端１２ｃを含む第１側面領域１６ａを形成する工程である。補助層形成工程は、第１側面領域１６ａに接して、コア４とは異なる材料からなる補助層１８を形成する工程である。テーパ部形成工程は、コア層１４に対し、補助層１８と同時にエッチングを施すことによって、テーパ部１２の先端１２ｃを含む第２側面領域１２ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】他の回路が集積されたバルク半導体基板に一体に集積可能な、光導波路及び光カップラを含む光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光導波路及びカップラ素子及びその製造方法は、バルク半導体基板、例えば、バルクシリコン基板からなる基板にトレンチを形成し、下部クラッド層をトレンチ内に形成し、コア領域を下部クラッド層上に形成して得られる。反射要素、例えば、分布ブラッグ反射器が、光カップラ及び／または光導波路の下部に形成されうる。このような光素子は、シリコンフォトニクス技術によって、チップまたは基板上に他の半導体回路、例えばＤＲＡＭメモリ回路チップ内に一体に集積されうる。 （もっと読む）

【課題】光導波路において、下部クラッド層中に残留する泡に起因する下部クラッド層およびコア溝の形成不良が生じ難い光導波路の製造方法およびそれに用いる型を提供する。
【解決手段】光導波路の製造方法は、ソフトリソグラフィーを利用し、コア溝とコア溝の両側に間隔を空けて略平行に併設されたスペーサ溝に対応する凸部を有する第２の型（凸型）を用いて、基板上に、コア溝とコア溝の両側に間隔を空けて略平行に併設されたスペーサ溝とを有する下部クラッド層を形成する。第２の型は、上記スペーサ溝対応凸部の長手方向に垂直な断面の形状が、スペーサ溝底面に対応する凸部の下端辺がスペーサ溝上端面に対応する凸部上端辺よりも短い逆台形状であり、少なくともコア溝対応凸部側のスペーサ溝対応凸部の辺が傾斜している。 （もっと読む）

【課題】光路を光基板の厚さ方向に変換する場合、レーザー加工のようにバイアホール開口部周囲に炭化物残渣が発生せず、且つバイアホールを介して接続する光配線と光接続部品の接続損失が少ない、光路変換構造の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも光配線パターン凸部と光路変換部品設置凸部を有する凸型にクラッドワニスを押し付けてから、クラッドワニスを硬化させ、その後第一クラッドと凸型を剥離する凸型剥離工程と、前記第一クラッドに形成された光路変換部品設置凹部に光路変換部品を埋め込みんだ後、形成された光配線パターン凹部にコアワニスを充填し硬化させるコア硬化工程と、前記第一クラッドのコア形成面の一部もしくは全体にクラッドワニスを塗布し、第二クラッドを硬化させる工程からなる光基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】入射する光の利用効率を上げることができる光導波路を得る。
【解決手段】光導波路２０は、第１クラッド２４と、第１クラッド２４よりも屈折率が大きいコア２６と、コア２６よりも屈折率が小さい第２クラッド２８とを有している。コア２６の入射部３８には、入射部３８の信号光Ｌの入射側周縁を信号光Ｌの入射方向へ向けて拡幅した傾斜部４８が形成されている。ここで、入射部３８の入射側周縁に傾斜部４８が形成されていることにより、入射部３８へ入射する信号光Ｌの入射部周縁での反射が抑えられ、信号光Ｌの利用効率を上げることができる。 （もっと読む）

【課題】従来の波長ドメイン光スイッチと導波路型波長選択スイッチの短所を解消した導波路型波長ドメイン光スイッチを提供する。
【解決手段】導波路型合分波素子が３枚以上積層された導波路型合分波素子積層体１０１と、上記導波路型合分波素子積層体の分波側に位置するレンズシステム２０２と、該レンズシステムに対して上記導波路型合分波素子積層体とは反対側に位置する反射型の光位相変調セル１０９とを備え、レンズシステム２０２は、レンズアレイ１０２と、像倍率変換光学システム２０３と、ｆ−ｆレンズ（Ｙ）１０７と、ｆ−ｆレンズ（Ｘ）１０６とを備える （もっと読む）

【課題】発光デバイス及び受光デバイスを同一の光ファイバアレイに接続するのに用いられる光導波路構造体の各光導波路と光ファイバアレイの各光ファイバとの間の結合損失、あるいは、各光導波路と発光デバイスや受光デバイスとの間の結合損失を低減する。
【解決手段】光導波路構造体を、光ファイバアレイに含まれる光ファイバ３３Ａと受光デバイスとを接続する受信側光導波路７Ｂと、光ファイバアレイに含まれる光ファイバ３３Ａと発光デバイスとを接続する送信側光導波路７Ａとを備えるものとし、受信側光導波路７Ｂのコア４Ｂの断面積を、送信側光導波路７Ａのコア４Ａの断面積よりも大きくする。 （もっと読む）

【課題】シリコン細線よりなるリブ型導波路を、損失を抑制して高効率な状態で、光ファイバーと光結合できるようにする。
【解決手段】シリコン酸化層１０５の上に、所定の方向（導波方向）に延在するライン状のレジストパターン１２１およびレジストパターン１２２が形成された状態とする。レジストパターン１２１およびレジストパターン１２２は、連続して一体に形成され、先端部のレジストパターン１２２は、端部に向けて先細りのテーパ形状に形成された状態とする。次に、これらにより、酸化シリコンパターン１４１および酸化シリコンパターン１４２が形成された状態とする。この後、これらをマスクとしてシリコン層１０３をパターニングする。 （もっと読む）

【課題】 製造プロセスの簡略化を図り、低価格化を実現できるとともに、光結合効率の低下を抑えることができる光結合構造体および電気配線基板を得る。
【解決手段】 第１コア端面１１ａが第１端面１２ａに露出し、第２コア端面１１ｂが第２端面１２ｂに露出し、第１コア端面１１ａからミラー面１３に至り、ミラー面１３で方向を変えられて第２コア端面１１ｂに至る連続した光路を構成するコア１１が、クラッド１２内に埋設されており、かつコア１１の第１コア端面１１ａおよび第２コア端面１１ｂがそれぞれ第１端面１２ａおよび第２端面１２ｂに２次元的に配列されている光路変換デバイスと、第１端面あるいは第２端面の複数のコアが複数の導波路コアと相対するように設けられたアレイ型光導波路ユニットと、複数の導波路コアを光デバイスに接続するための光コネクタとを備える。 （もっと読む）

【課題】光導波路のコアと光路変換手段とが高い位置精度で形成された光回路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光回路基板１００は、プリント配線板１１０と、これに平行に配置された光導波路１２０とを備えており、光導波路１２０の所定の位置に光路変換手段のミラー１３０が設けられている。ミラー１３０は、導体パターン層１１１と同じ銅で形成されており、プリント配線板１１０上に光導波路１２０が形成される前に、導体パターン層１１１の形成と同時に形成されている。 （もっと読む）

【課題】同一の基板上に発光素子及び受光素子や導波路が形成されている場合でも、漏れ光が基板上の様々な伝搬経路を経て受光素子に入射することを防ぐことが出来る光学装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光学装置は、基板の主面に沿って設けられた発光素子及び受光素子と、発光素子及び受光素子の間の光の伝搬経路となる導波路と、を含み、当該発光素子と受光素子と導波路とのうちの少なくとも２つの間の基板の主面に沿った領域に形成された遮光領域を有する。当該光学装置の製造方法は、基板の主面に沿って発光素子及び受光素子を形成する工程と、発光素子及び受光素子の間の光の伝搬経路となる導波路を基板の主面に沿って形成する工程と、を含み、当該発光素子と受光素子と導波路とのうちの少なくとも２つの間の基板の主面に沿った領域に遮光領域を形成する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】導波路コアの両端に傾斜ミラーなどを設けた高分子光回路をダイシング工程なしに製造できる製造方法の提供。
【解決手段】導波路コア２とそれを囲繞するクラッド４とを備える高分子光回路１の製造方法であって、導波路コア２における前記特定の形状の端部を除いた部分に対応する凹部１２Ａと、凹部１２に注入孔１３Ａと吸引孔１３Ｂとを備え、鋳型形成用エラストマから形成された主鋳型１１と、導波路コア２の前記特定の形状の端部に対応する形状の凹部を有し、鋳型形成用エラストマから形成された補助鋳型２０とによって鋳型１０を構成し、鋳型１０の凹部１２が形成された側の面にクラッド基材４を密着させ、コア形成用樹脂を注入孔１３Ａから凹部１２に注入し、吸引孔１３Ｂから吸引することにより、凹部１２にコア形成用樹脂を充填し、前記コア形成用樹脂を硬化させて導波路コアを形成する高分子光回路の製造方法。 （もっと読む）

【課題】モニタ光が安定に取り出せると同時に外部出力光の損失を最小限に抑えられる光導波路、前記光導波路の作製方法、および前記光導波路を有する光モジュールの提供。
【解決手段】コア１０と、前記コアを囲繞するように形成されたクラッド１１とを備え、コア１０は、ＶＣＳＥＬ３からの光を外部に出力する主コア１０Ａと、主コアを透過する光の一部を、ＶＣＳＥＬ３の出力をモニタするためのモニタ用光ダイオード４に伝達する副コア１０Ｂとを有し、主コア１０Ａは、法線が、主コア１０Ａの光軸Ａに対して２．５〜３０度の角度をなし、且つ相対する側壁面１３Ａ、１３Ｂが互いに平行に形成された溝１３によって分断されているとともに、副コア１０Ａは、クラッド１１によって主コア１０Ａから分離され、主コア１０Ａを透過する光が溝１３で反射して生じるフレネル反射光が導入される位置に形成されている光導波路。 （もっと読む）