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Fターム[2K009DD04]の内容

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放射線を収集し又は放出するデバイス(50)のためのこの保護基材(11)は透明ポリマー層(1)及び該ポリマー層の少なくとも1つの面(1A)上のバリア層(2)を含む。バリア層(2)は交互により低い屈折率及びより高い屈折率を有しかつ交互により低い密度及びより高い密度を有する少なくとも2層の透明薄膜層(21,22,23,24)の反射防止性多層からなり、バリア層(2)の構成多層の各薄膜層(21,22,23,24)は酸化物、窒化物又は酸窒化物層である。
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【課題】プラスチック基材と、プライマー層およびハードコート層を含んで構成され、干渉縞がほとんど生じない光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】プラスチックレンズ1は、プラスチック基材10と、その上面に形成されたプライマー層11aと、その上面に形成されたバインダー層11bと、その上面に形成されたハードコート層12と、その上面に形成された反射防止層13とを備え、バインダー層11bの屈折率は、プライマー層11aとハードコート層13のいずれの屈折率よりも低く、該プラスチックレンズ1表面における色相角の変動幅が5度以内である。 (もっと読む)


【課題】機能膜の樹脂成形部に対する密着性と当該機能膜の耐熱性とを向上させたまま保持しつつ、耐光性を向上させる。
【解決手段】脂環式構造を有する樹脂から構成した樹脂成形部50に対し反射防止膜60を形成したブルーピックアップ用の光学素子の製造方法が開示されている。当該製造方法では、樹脂成形部50に対し、SiOを蒸着源として、Oガスを所定圧で導入しながら、蒸着処理により第1のSiO層62を形成する工程と、SiOを蒸着源として、Oガスを、第1のSiO層62を形成する工程よりも低圧で導入しながら、蒸着処理により第2のSiO層64を形成する工程と、第1のSiO層62と第2のSiO層64とを酸化する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ガラスに成膜した場合と同等の熱線遮蔽性や、防汚性を有する熱線遮蔽フィルムを提供する。
【解決手段】合成樹脂フィルム1上に、熱線反射膜3を有してなり、前記熱線反射膜3上に、高密度金属酸化物膜及び/又は高密度金属窒化物膜を有してなる熱線遮蔽フィルムとする。また、前記熱線反射膜3が、高密度銀薄膜である熱線遮蔽フィルムとする。さらに、合成樹脂フィルム1上に、誘電体膜2(A)、前記熱線反射膜3、誘電体膜2(B)を有してなり、誘電体膜2(B)上に、前記高密度金属酸化物膜及び/又は高密度金属窒化物膜を有してなる熱線遮蔽フィルムとする。 (もっと読む)


【課題】光学素子の両面へ同時に膜厚分布の均一性に優れた薄膜を形成する。
【解決手段】対向する一対のターゲット間の成膜空間に、光学素子12を保持する保持手段4が配置される。保持手段4は、光学素子12を保持するパレット11と、パレット11を保持するキャリア5と、キャリア5の外周部5aのみを保持して回転駆動力を伝達するベース6と、を有する。駆動ギア8によってキャリア5を回転させて各パレット11を公転させると同時に、各パレット11の外周部11aをベース6の内周部6aに接触させることによって、パレット11を自転させる。このようにしてパレット11を自公転させながら、光学素子12の両面に同時にスパッタリング成膜を行なう。 (もっと読む)


【課題】高い耐擦傷性を有し、かつ光学ガラス基板上に成膜可能な反射防止膜を提供する。
【解決手段】光学ガラスからなる基板100上に複数の薄膜が積層されて形成された反射防止膜10は、薄膜のうち、基板100側から数えた第1層1及び第3層3は、SiO2/Al2O3混合物からなり、基板100側から数えた第2層2及び第4層4は、Ti/La複合酸化物からなり、最も外側の第5層5はMgF2からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】収差補正素子等の光学素子における反射防止膜に適切な改良を加えることにより、複数種の光ディスクに対して的確な互換性を有し且つ信頼性に優れた光ピックアップ装置を提供する。
【解決手段】光ピックアップ装置の構成要素である収差補正素子に設けられる反射防止膜で、収差補正素子の基体上に少なくとも4つの層が形成され、この4つの層は、基体側から順に、屈折率ndが2.0以上で且つ幾何学的厚みが5〜50nmの第1の層と、屈折率ndが1.5以下で且つ幾何学的厚みが10〜200nmの第2の層と、屈折率ndが2.0以上で且つ幾何学的厚みが50〜200nmの第3の層と、SiO2またはAl23もしくはSiONを含み且つ幾何学的厚みが50〜200nmの第4の層とを備えている。 (もっと読む)


【課題】環境耐久性の悪い燐酸ガラスを使用した光学素子であっても、実用に耐える環境耐久性を持つことを可能とするガラス製光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】燐酸ガラス又はフツ燐酸ガラス製の芯ガラス2の光学機能面に2層以上の膜からなる光学機能膜3を形成した光学素子1であって、光学機能膜3の最表面層を、SiO、Al、Y、La、HfO、Ta、TiO、ZrO、Nb及びTiOよりなる群から選ばれる燐酸と反応性の低い物質で形成されてなる光学素子1及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】超過酷な高温高圧の水蒸気に対して防汚性を示すと共に耐久性を有するために高温高圧水蒸気滅菌処理可能である光学素子を提供する。
【解決手段】本発明の光学素子1は、基板2に、五酸化二タンタル又は二酸化ハフニウムからなる高屈折層3と、酸化ケイ素からなる低屈折率層4と、五酸化二タンタル又は二酸化ハフニウムからなる高屈折率層5とを積層し、その上に光学特性に影響を与えない程度の厚さの防汚コート(フッ素化合物)6を積層してなる。 (もっと読む)


【課題】同一の成膜材料を用いて繰り返し成膜を行った場合でも、各対象物における成膜速度を均一化することのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】ターゲット101の表面に対向するように配置され、基板100を設置する基板ホルダ6と、基板100上の成膜環境を測定可能なセンサ部8とを備え、対象物ホルダ6は、ターゲット101に対して移動可能に構成されるとともに、基板ホルダ6の移動量及び移動方向と、センサ部8の移動量及び移動方向とが同一に設定されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高次成分も含めて複屈折を低減して優れた光学特性を実現することができる技術を提供する。
【解決手段】180nm以上、且つ、250nm以下の波長の光に対して用いられ、入射する光線の最大入射角度が40度以下である光学素子であって、透過部材と、前記透過部材の光線有効領域に形成された反射防止膜と、を有し、前記反射防止膜は、入射する光線のS偏光及びP偏光に対して0.5%以下の反射率を有し、入射する光線の波長をλとして、前記光線有効領域に40度の入射角度で入射して前記反射防止膜を透過する光線のS偏光とP偏光との位相差が6mλ以上となるように構成されていることを特徴とする光学素子を提供する。 (もっと読む)


【課題】同一の成膜材料を用いて繰り返し成膜を行った場合でも、各対象物における膜厚を均一化することのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】ターゲット101を用いて基板100の表面に成膜を行う成膜装置1は、ターゲット101が載置される載置面を有する材料設置部4と、基板100を材料設置部4に載置されたターゲット101に対向させて支持する基板ホルダ6と、基板ホルダ6の材料設置部4に対向する面の第一の領域及び第二の領域の成膜環境を測定可能に配置されたセンサ部8と、センサ部8の測定結果に基づいて第一の領域及び第二の領域の成膜環境を比較し、両者の差が所定値以上であるときに材料設置部4と基板ホルダ6との位置関係を変化させるよう制御する制御部10とを備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】膜厚が異なる複数種類の薄膜を同一バッチで成膜可能な成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】ターゲット101、102を用いて基板100の表面に成膜を行う成膜装置1は、ターゲット101、102が載置される材料設置部20と、基板100を材料設置部20に載置されたターゲット101、102に対向させて支持する基板ホルダ11A、11Bと、材料設置部20と基板ホルダ11A、11Bとの間を退避可能に遮蔽するシャッタ部13A、13Bとを有する複数の基板支持部10A、10Bと、シャッタ部13A、13Bと接続された制御部とを備え、制御部は、各々の複数の基板支持部10A、10Bのシャッタ部13A、13Bをそれぞれ異なるタイミングで動作させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光学システムを薄型化、小型化する際に必要となる光学素子の形状を提案することにある。
【解決手段】入射面および出射面に光学機能面を有する光学素子であって、前記光学機能面内に設けられた光学有効領域と、前記光学有効領域の外周に設けられた外周面と、前記光学有効領域上に設けられた反射防止膜と、を備え、前記光学有効領域は、光軸方向から見たとき前記光学機能面内に矩形の形状を有し、前記光学有効領域の頂点が前記光学素子の外周近傍に位置しており、前記入射面側の前記光学有効領域の対角線と、前記出射面側の前記光学有効領域の対角線との長さの比が、略1であり、前記反射防止膜は、少なくとも前記光学有効領域の全面を被覆する、光学素子。 (もっと読む)


【課題】CVD法を用いる場合に問題となる電極やチャンバー壁面の汚染によるアーキング等のロングランの安定性、大面積化、ロール・ツー・ロール化の困難さを解決し、酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れた、ガスバリア性積層体を生産する成膜装置を提供する。
【解決手段】減圧下の成膜チャンバー内に、基材を搬送する機構と、電極に電圧を印加することでプラズマ化した成膜ガスを該基材表面に噴出させる成膜手段とを少なくとも具備する成膜装置で、該電極は、成膜ガスをプラズマ化する内部空間18と、該内部空間18へ成膜ガスを導入するガス導入路17と、該内部空間18から該基材表面へプラズマ化した成膜ガスを噴出させる穴部15とを少なくとも具備し、該電極は、一対で成膜チャンバー内に設置され、該一対の電極は、電気的に接続され、カソード又はアノードに交互に切り替わる。 (もっと読む)


【課題】反射防止性を損なわず、透過性に優れ、そして帯電防止性能を有して、汚れや埃の付着を抑え、傷が付き難い光学部材、あるいは当該光学部材を形成可能な製造方法を提供する。
【解決手段】光学部材は、真空度調節用の酸素ガスを導入した真空チャンバ内で不足当量酸化チタンを蒸着することにより形成された不足当量酸化チタン膜を備えており、前記真空チャンバ内での成膜時圧力p(Pa)と前記不足当量酸化チタン膜の光学膜厚(屈折率2.50、設計中心波長500nm)が、(1)p≧0.005、(2)光学膜厚≦0.500λ、(3)光学膜厚≧(0.001exp(905.73p)−0.050)λ、expは自然対数の底eを底とする指数関数、という関係を有する。 (もっと読む)


【課題】内容器の内壁に付着した不純物が脱離することに起因する薄膜の品質の低下を抑制する。
【解決手段】真空チャンバー1内にエンクロージャー11を配置する。このエンクロージャー11は、フッ化物からなるターゲット4と基板6とを囲っており、このエンクロージャー11内にスパッタ用ガスが導入される。エンクロージャー11の外部には、加熱装置15が設けられており、エンクロージャー11を真空チャンバー1に装着した後、加熱装置15を動作させることにより、エンクロージャー11に付着した水分子等の不純物が脱離される。この脱離した不純物を排気した後、スパッタにより基板6にフッ化物からなる薄膜を成膜する。 (もっと読む)


【課題】光学特性に影響を与えず、高精度な光学特性を有する光学物品が得られる光学物
品の製造方法を提供すること
【解決手段】第一光学基板11と第二光学基板との少なくとも一方に複数層からなる多層
膜12が形成され、前記多層膜12を間に挟んで第一光学基板11と第二光学基板とを接
合する光学物品の製造方法であって、前記多層膜12に突出形成された凸部121の高さ
寸法より小さい膜厚にレジスト膜20を形成するレジスト形成工程と、前記レジスト膜2
0をエッチング液30に浸漬させて前記多層膜12を溶解する浸漬工程と、前記レジスト
膜20を剥離する剥離工程と、前記多層膜12、前記第一光学基板11または前記第二光
学基板にプラズマ重合膜を形成する接合膜形成工程と、を備えることを特徴とする光学物
品1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】湿熱環境下においても偏光子を湿度から保護する低い透湿度を有しながら、なおかつ湿度の低い高温環境下においても外観変化を起こさず、良好な表示品位が保たれる液晶ディスプレイ用に好適な偏光板を開発する。
【解決手段】偏光子を第一の透明保護フィルム及び第二の透明保護フィルムで挟み込んで、偏光板とする。この第二の透明保護フィルムの偏光子とは反対側に粘着剤層を設けて、粘着剤付き偏光板とする。第一の透明保護フィルムは、温度40℃、相対湿度90%における透湿度が0〜50g/m2・24hrであるようにする。粘着剤層は、樹脂からなり、樹脂中のカルボキシル基を含む構造単位のモル分率が、樹脂中の全構造単位を基準に、0〜2.5%であるようにする。 (もっと読む)


太陽光発電装置が開示される。太陽光発電装置は、太陽電池、及び上記太陽電池の上に配置され、多数個の気孔を有する反射防止膜を含む。気孔によって、反射防止膜の屈折率が容易に調節されて、太陽光発電装置は最適の反射防止効率を具現することができる。
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