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Fターム[2K009DD04]の内容

Fターム[2K009DD04]に分類される特許

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【課題】窒素のような安価な放電ガスを用いても、高密度プラズマが達成出来、良質な薄膜を高速で製膜出来る薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】大気圧プラズマ放電処理装置10を用いる薄膜形成方法により、第1電極11から印加する高周波電界の強さ(kV/mm)をV、第2電極12から印加する高周波電界の強さ(kV/mm)をV、放電開始電界の強さ(kV/mm)をIVとしたとき、V≧IV>VまたはV>IV≧Vなる関係を有し、第2電極から印加する高周波電界の出力密度が1W/cm以上であり、かつ前記放電空間に供給される全ガス量の90〜99.9体積%が放電ガスである高周波電界を印加して薄膜を形成させる。 (もっと読む)


【課題】 低〜中屈折率のガラス基板に対して優れた反射防止性能及び優れたヤケ防止効果を有する反射防止膜を提供する。
【解決手段】 基板上に第1層〜第7層を順に積層してなり、第1層はアルミナを主成分とする層であり、第7層はシリカを主成分とする多孔質層であり、波長領域400〜700 nmの光において、前記基板の屈折率が1.45〜1.72であり、かつ各層が所定の屈折率及び光学膜厚を有する反射防止膜。 (もっと読む)


【課題】LCD等の光学表示装置に使用する、反射防止効果と耐薬品性の両立するドライコーティング法による反射防止フィルムを提供すること。
【解決手段】透明基材フィルムの少なくとも一方の面に反射防止積層体が形成されており、前記反射防止積層体が、透明基材フィルムの側から、高屈折率薄膜と低屈折率薄膜をこの順に交互に積層した5層以上の奇数層数の積層体からなり、最外層の高屈折率層が酸化ジルコニウムであることを特徴とする反射防止フィルム。 (もっと読む)


【課題】指紋や浮遊系のゴミなどの異物が付着しにくい防汚性を付与した画像表示部を有することにより、コントラストの低下を防止し清潔感のある携帯電話を提供する。
【解決手段】画像表示部を有する携帯電話において、同一装置内で順に、画像表示部に無機透明膜をスパッタリング法で、フッ素コート層を真空蒸着法によって形成し、該フッ素コート層の厚さを1nm〜100nmとする。 (もっと読む)


【課題】反射防止層の耐熱性及び硬度を向上した光学物品を提供する。
【解決手段】レンズ基材1の表面に低屈折層である第1層31、第3層33、第5層35及び第7層37と、高屈折層である第2層32、第4層34及び第6層36とが交互に積層される眼鏡レンズあって、高屈折層は五酸化二タンタル(Ta)から形成され、かつ、屈折率が2.10〜2.30であり、圧縮応力が150〜250MPaである。高屈折層の屈折率を2.10〜2.30、圧縮応力を150〜250MPaにすることで、耐熱性・硬度が向上する。 (もっと読む)


【課題】そり角が大きい眼鏡フレームに取り付けられる場合において、レンズ周縁部の干渉色に赤味の発生を抑えることができる眼鏡レンズを提供する。
【解決手段】第1層131、第3層133及び第5層135は、それぞれSiOから形成され、第2層132及び第4層134は、それぞれZrOから形成されている。反射防止層13が従来例で示される反射防止層に比べて、第3層133及び第5層135が厚く形成される。中心波長λoは従来例と同じ500nmである。これにより、レンズ周縁部の赤味の発生が抑えられる。 (もっと読む)


【課題】基板表面の高度な研磨の有無に関わらず、基板上に樹脂組成物の極平坦面を作製し、その極平坦面上に光学薄膜を積層することにより得られる複合基板を用いた光学部品を提供する。
【解決手段】光学基板上に、光硬化性樹脂組成物、熱硬化性もしくは熱可塑性樹脂組成物などの樹脂組成物を載せ、光学基板よりも極めて平坦な平面を有する極平坦プレス板にて印圧し、樹脂組成物を光や温度変化によって硬化させて複合基板を形成し、上記複合基板上に、機能性無機光学薄膜、誘電体多層光学薄膜、光学機能性金属薄膜などの薄膜を、低温スパッタ法、イオンビームスパッタ法などで積層して、反射ミラー、ビームスプリッタ、バンドパスフィルタ、バンドストップフィルタ、エッジフィルタなどの光学部品を成形する。 (もっと読む)


【課題】反射防止板、及びその反射防止構造を製造する方法に関する。反射防止構造は、大気圧プラズマによって形成され、反射防止板の製造に必要な材料、時間及び費用を大幅に低減させる。
【解決手段】被処理物体を反応領域に提供する。次に、プラズマ源を反応領域に提供する。次いで、プラズマ源を解離して大気圧のプラズマを形成する。次に、被処理物体の表面をプラズマによって処理し、被処理物体の表面上に複数の微小突起を形成する。 (もっと読む)


【課題】電磁波シールド層上に他の機能性層を形成した場合に、優れた反射防止性を有するディスプレイ用フィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】メッシュ状の電磁波シールド層220を有する透明基材210上に、少なくとも紫外線硬化性樹脂組成物を含む第1の機能性層形成用塗工液を塗工し、これにより得られた塗工層に紫外線を照射することにより、第1の機能性層を形成する工程を有するディスプレイ用フィルタの製造方法であって、前記塗工層を水平にした状態で紫外線を照射する。 (もっと読む)


【課題】表示パネルの上にカバープレート等を構成する透光性基板が設けられた表示装置で、透光性基板の表示視認側表面に反射防止膜が形成されていると、指紋や油膜等が付着しやすく、指紋や油膜による表面の汚れが目立った。
【解決手段】透光性基板が設置された表示装置において、透光性基板の表示視認側の表面に反射防止膜を形成するとともに、その反射防止膜の上に防汚用のシリコン酸化膜を形成して、指紋や油膜を付着し難くするとともに、付着しても目立たないようにした。 (もっと読む)


【課題】一方の面にプラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施されたTAC基材とPVA、光学薄膜との密着性を強化する光学フィルム及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】トリアセチルセルロースを有する基材からなり、基材の一方の面に、プラズマを利用した反応性イオンエッチングによる前処理が施され、基材の一方の面上に第1の機能層が形成され、第1の機能層はハードコート層、帯電防止層及び赤外線吸収層のいずれかであることを特徴とする光学フィルム。 (もっと読む)


【課題】反射防止膜付きレンズその他の光学部材を製造する際に、膜厚誤差を低減して成膜精度を向上させる。
【解決手段】1枚以上の基板が取り付けられたドラムをチャンバ内で回転させる。この状態で、ドラムの周囲に配設されたターゲットの電源を時間制御でオンして、スパッタによりターゲットの粒子を基板に付着させることにより、複数の薄膜を基板に積み重ねて層を形成する。このような成膜工程を所定の回数だけ繰り返すことにより、光学部材を製造する。このとき、ドラムの少なくとも1回転あたりの成膜厚さが、複数の層のうち特定の層において他の層より薄く設定されている。これにより、特定の層においてドラムの1回転あたりの成膜厚さが薄くなるため、カルーセル式のスパッタ装置1に特有の膜厚誤差が低減され、成膜精度が向上する。 (もっと読む)


【課題】母材の大きさに拘わらず、多数の微細な針形状の凸部を均一な密度で設けることが容易な微細針状構造を備えた部材の製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタリング用電極13とエッチング用電極15とを対向して設けて、スパッタリング用電極13側にスパッタリング材料を配置すると共にエッチング用電極15側に母材OWを配置することで、プラズマが形成される空間17を介してスパッタリング材料と母材OWとを対向させ、スパッタリング用電極13に第1の高周波電力を印加すると共に、エッチング用電極15に第2の高周波電力を印加することで、スパッタリング粒子SPを母材OWに付着させつつドライエッチングして微細針状構造を形成する。 (もっと読む)


【課題】大きな成膜速度で透明で低屈折率の光学膜を成膜できる透明光学膜の成膜方法を提供し、また該透明光学膜の成膜方法により成膜されてなる透明光学膜を提供する。
【解決手段】フッ素を含む化合物のガス7を導入して全圧8Pa以上とした雰囲気下で、Mg−Siメタルターゲット4を用いた反応性スパッタリング法により、基板11上に透明な光学膜を成膜する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、ハードコート層を設けた基材フィルムに透明バリア膜と透明導電性膜を積層させることにより、高透明性、低透湿度、低抵抗率でかつ加熱後の収縮率が小さいことを特徴とする表示素子用の透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 少なくとも片側に無機粒子と有機成分からなるハードコート層が設けられたフマル酸ジエステル系樹脂よりなるフィルム基板上に、透明導電性膜が設けられていることを特徴とする透明導電性フィルム。 (もっと読む)


【課題】真空槽内における残留ガスや基板からの脱ガスによる過剰エッチングを回避するため脱ガスを最小限にすることが可能な薄膜製造技術を提供する。
【解決手段】本発明方法は、成膜対象物上に設けられた有機層に対して真空中でプラズマ雰囲気に曝すプラズマ(エッチング)処理工程S3と、この成膜対象物の有機層上に真空中でSiO2膜層を形成するSiO2膜形成工程S4を有する薄膜形成方法である。本発明では、プラズマ暴露工程であるプラズマ処理(エッチング)工程S3の前に、真空中で成膜対象物上の有機層を加熱する加熱工程S2を有する。本発明では、加熱工程S2における雰囲気温度が、プラズマ処理工程S3及びSiO2膜形成工程S4における雰囲気温度より高くする。 (もっと読む)


【課題】レーザ耐性に優れたブリュースター窓を提供する。
【解決手段】レーザ光が直線偏光で発振するようにレーザ共振器の内部に配されるブリュースター窓であって、アルカリ土類金属フッ化物単結晶から成り、表面が平坦化された基板1と、その基板の少なくとも一方の面に形成された多結晶又はアモルファス構造であるフッ化物膜2a,2a’と、を備える。フッ化物膜2a,2a’は、フッ化ガドリニウム、フッ化マグネシウム、フッ化ランタン、フッ化アルミニウム及びクリオライトの何れかでなる。フッ化物膜2b,2b’のようにフッ化物膜を多層膜としても良い。 (もっと読む)


【課題】有機層を用いることなく、耐熱性を向上させた反射防止膜を有するプラスチックレンズおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材の表面に直接または他の層を介して多層反射防止膜を有するプラスチックレンズ。前記多層反射防止膜は、金属元素が同一であり、かつ酸素含有量が異なる少なくとも2つの金属酸化物層を隣接して有する複合層を含む。上記のプラスチックレンズの製造方法。前記複合層を構成する各金属酸化物層は、同一の蒸発源を用い、かつ隣接する層同士は、反応性酸素ガス分圧が異なる条件下で蒸着することで形成されることを含む。 (もっと読む)


【課題】光学製品として用いても、像のブレや明暗を生じることのない透明多結晶スピネル基板を提供する。また、その製造方法を提供する。さらに、その透明多結晶スピネル基板を用いた液晶プロジェクターおよびリアプロジェクションテレビ受像機を提供する。
【解決手段】1mm厚みで、波長450nmにおいて、クロスニコル系における透過率が、0.005%以下であることを特徴とする透明多結晶スピネル基板。スピネル粉末を準備する工程、スピネル粉末を成形してスピネル成形体を作製する工程、前記スピネル成形体を焼結してスピネル焼結体を作製する工程、前記スピネル焼結体をHIPしてスピネル多結晶体を作製する工程を有する透明多結晶スピネル基板の製造方法。前記透明多結晶スピネル基板を有する液晶プロジェクターまたはリアプロジェクションテレビ受像機。 (もっと読む)


【課題】アノード電極とカソード電極との間で、プラズマを均一及び安定的に発生させ、被処理基板に、硬質で被処理基板に対する密着性に優れ、かつ均一な膜厚の被膜を得る。
【解決手段】真空容器1内に対向して配置された第1電極10及び第2電極20を有し、前記第1電極10表面上に被処理基板30を配置し、減圧状態で前記真空容器1内に反応ガス7を導入しながら、その反応ガス7のプラズマを前記電極間10、20に形成するプラズマ処理装置であって、前記第1電極10は電源に接続され、前記第2電極20はアース接地され、前記被処理基板30と前記第2電極20との間に、前記反応ガス7の導入ヘッド40が設けられ、前記導入ヘッド40は、箱状となり、前記被処理基板30側の壁に多数の吹き出し口40Aを有し、外部から流入孔を通して前記導入ヘッド40内へ導入される前記反応ガス7が、前記吹き出し口40A群から前記被処理基板30側に吹き出されるように構成した。 (もっと読む)


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