説明

Fターム[2K009DD04]の内容

Fターム[2K009DD04]に分類される特許

441 - 456 / 456


【課題】 成膜中に材料の屈折率及びレートが変化しても、高精度な光学薄膜を製造すること。
【解決手段】 光学薄膜の設計時に時間のパラメータを導入し、成膜時における材料の屈折率及び分散の時間変化、及び材料のレート変化を考慮し、所望の光学特性を得ること。 (もっと読む)


光源を均質にするための鉱物粒子に基づいた拡散層であって、そのシート抵抗が100Ωよりも大きい電磁絶縁デバイスを組み込んだことを特徴とする、拡散層。 (もっと読む)


【課題】疎水性トップコート層を有する眼科用レンズを成形型から作製する方法を提供する。
【解決手段】以下の工程を含む、一対の成形型の少なくとも片側の成形型の製造方法:(a)各が協働して成形キャビティの輪郭を定めるように意図された互いに対向した光学表面を有する一対の成形型を準備する工程、(b)前記一対の成形型の少なくとも片側の前記光学表面に、疎水性トップコート層を形成する工程、および(c)前記疎水性トップコート層上に、反射防止膜を形成する工程、ここで、- 該反射防止膜は、高屈折率および低屈折率の交互に積層した誘電体層を含み、かつ- 前記疎水性トップコート層上に成膜した第1の誘電体層は、第1段階において、真空成膜により第1の誘電体サブレイヤを成膜し、第2段階において、イオンアシスト真空蒸着により第2サブレイヤを成膜する2段階プロセスを用いて成膜される。 (もっと読む)


【課題】可視域の波長より微細な周期で、断面が波型をなすレジストパターンを用いても、下層の被エッチング膜に同じ周期をも持たせ、しかも、アスペクト比が高くてエッチング形状が矩形を成す微細構造を有する光学素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】可視域の波長より微細な周期で、断面が波型を成すレジストパターンの下層に金属膜或は金属化合膜を少なくとも1層形成した構成において、金属膜或は金属化合膜をスパッッタリングし、波型を成すレジストパターンの側壁面に該金属膜或は金属化合膜を形成し、これをマスクとして下層の被エッチング膜をドライエッチングする。 (もっと読む)


【課題】可視光域で高い反射率を有し、耐湿性や耐塩水性等の耐久性に優れ、かつ入射角依存性が特に小さい(光の入射角によって反射率が変動しにくい)高反射鏡の提供。
【解決手段】基板上に、銀膜、低屈折率膜、高屈折率膜がこの順で積層された高反射鏡であって、前記銀膜の基板と反対側には密着改善膜が形成され、かつ前記密着改善膜が酸化亜鉛膜であり、前記酸化亜鉛膜は他の金属を含み、前記他の金属はガリウム、スズおよびチタンからなる群から選ばれる1種以上であり、前記密着改善膜はシリコンを含むことを特徴とする高反射鏡。 (もっと読む)


【課題】高価な機能フィルムを、損傷を受ける可能性のある熱や紫外線、電子線、γ線等のエネルギー線に曝すことなく製造することのできる、表示画面用機能フィルム及びその製造法を提供すること。
【解決手段】 基材フィルムAの表面に1層以上の機能層を設けてなる機能フィルムの片面に、粘着剤層、基材フィルムB及びシリコーンゴム層が順次積層されてなる表示画面用機能フィルムとする。 (もっと読む)


本発明は、マイクロおよびナノスケールのインプリント方法、ならびにポリマ、セラミックおよび/または金属材料からなる支持されたおよび/または独立した3Dマイクロおよび/またはナノ構造体を作製するための上記方法の使用に関する。いくつかの実施形態において、これらの構造物を作製する際に、二重モールドアプローチが採用されている。この方法において、表面処理を用いて、異なるモールドおよび/またはモールドの異なる部分に、異なる界面エネルギを与えている。このように表面処理することにより、構造体をインプリントし、基板に移転させて、3次元(3D)構造体を形成することができる。いくつかの実施形態において、表面処理および用いられるポリマのガラス転移温度の差異により、独立したマイクロおよび/またはナノ構造体をフィルム状および/または個別に形成するために、3D構造体をモールドから分離しやすくすることができる。
(もっと読む)


本発明は基板の少なくとも一面の少なくとも一部に二酸化チタンに基づく光触媒被覆物を有する基板であって、基板の被覆面が基板の非被覆面よりも低い光の反射率を有することを特徴とする透明または半透明の基板に関する。また、本発明はこうした基板を得る方法、この基板の用途に関する。 (もっと読む)


【課題】デジタル1眼レフカメラに最適なフィルターレンズを提供する。
【解決手段】デジタル1眼レフカメラ用フィルターは、デジタルカメラのレンズの前に取り付けられるフィルターレンズに低反射コーティングを施し、フレア、ゴーストを最小限に抑えるようにした。またフィルターレンズ外周を墨塗りし内面反射を抑制してフレア、ゴーストを最小限に押さえる構成、並びにフィルターレンズ枠をサテン仕上とすることにより不要な反射を極力除去する構成とし、デジタル1眼レフカメラに最適なフィルターレンズを提供した。 (もっと読む)


昇華性の蒸発材料を蒸着する真空蒸着において、噴射用開口14を配しかつ内面からの放射熱により該蒸発材料を蒸気化する領域を有する気体密封型加熱容器11と、蒸発材料を加熱容器11からの伝導熱によっては蒸発しない領域に保持させる保持部15とを備え、発生する蒸気を噴射用開口14から容器外部の蒸着対象面に向けて噴射させるようにする。
(もっと読む)


【課題】光学コーティングの腐食・傷耐性バリアを提供すること。
【解決手段】酸化可能な金属珪素化合物又は金属アルミニウム化合物を、光学コーティングの外層の1つとして使用する。この層は、未酸化又は一部酸化状態で付着され、この化学状態で、下の層を腐食から保護する。該金属化合物又は合金の層は、大多数の金属を超える硬さを有し、それにより傷からの保護を提供する。
(もっと読む)


低コストで、かつ、高い可視光透過率と共に低い可視光反射率と広い波長範囲の光において低反射となる光吸収性反射防止体を提供する。 基材2上に前記基材2側から、幾何学的膜厚が1〜200nmであって、屈折率が1.3以上、2.6以下である物質からなる第1の薄膜3と、幾何学的膜厚が1〜8nmであって、窒化チタン、酸窒化チタン、金及び銅からなる群から選択される少なくとも1種以上の物質を含有する光吸収性膜4と、幾何学的膜厚が45〜165nmであって、屈折率が1.3以上、1.6以下である物質からなる第2の薄膜6と、を有する。 (もっと読む)


Siスパッタリングターゲットは、スパッタ面の結晶面方位をX線回折法で測定した際に、Siの(111)面のピーク強度(I(111))と(220)面のピーク強度(I(220))の比率(I(111)/I(220))が1.8±0.3の範囲である。Siスパッタリングターゲットは、例えば相対密度が70%以上95%以下の範囲のSi焼結材を具備する。このようなSiスパッタリングターゲットによれば、Si酸化膜等のスパッタ膜の膜厚特性や成膜コスト等を改善することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光学基板(17)上の反射防止被膜を処理する方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、低屈折率の弗素化ポリマー含有層の物理的気相蒸着を実施する工程を含んでおり、また、この工程は、珪素または弗化マグネシウムと弗素化ポリマーを同時に気相蒸着させることにより、珪素または弗化マグネシウムと弗素化ポリマーの混成層(21d)を堆積させることに関与していることを特徴とする。好ましい実施形態では、弗素化ポリマーは重合体またはテトラフルオロエチレン重合体の形態で実施され、個々の構成要素はジュール効果または電子衝撃により蒸発させられる。本発明の方法は、何らかの光学基板または本発明の基板の上に堆積される反射防止被膜を積層した下位隣接層に低屈折率層を粘着させる工程を向上させるために利用されると有利である。この方法によって製造される基板と、この方法を実施するための装置も開示されている。 (もっと読む)


光学レンズ又はその他の光学製品に反射防止(AR)コーティングをコーティングするための方法が提供される。これらのレンズは、低い反射率を有し、ほぼ白色の反射光を発し、かつ低応力ARコーティングを有し、低応力レンズ基材を提供するモールディング工程を使用して製造される光学レンズに理想的に適合する。1の態様において、この方法は特殊なコーティング組成物を使用し、その1つは高屈折率組成物であり、他方は低屈折率組成物である。別の態様においては従来の気相蒸着装置とともに光学モニタを使用する方法が開示されており、それにおいては光学基準レンズを使用し、反射光の特定の光の周波数を測定し、次にこの測定値を用いて所望の光学的なコーティングが達成された時点を決定する。さらに別の態様においては、好ましくは反射光の青色対緑色対赤色の特定の比を使用して、各層の光学的な厚さを計算する。また、各層の光学的な厚さを必要に応じて調整し、低屈折率層/高屈折率層間における引張応力と圧縮応力の差を最小にすることによって、ARコーティングの応力がコントロールされる。 (もっと読む)


【課題】 取扱い性と色相コントラストとを兼ね備え、長期の使用でもその特性を保持する光学用二軸配向ポリエステルフィルムおよびその積層体を提供することにある。
【解決手段】 紫外線吸収剤および可視光吸収剤を含有し、ヘーズ値が5%以下の二軸配向ポリエステルフィルムであって、波長450〜650nmにおける光線の透過率の平均値(Tav)が0.40〜0.80であり、かつ該波長範囲における各波長iの光線の透過率(Ti)をTavで割った値が0.70〜1.30であることを特徴とする光学用二軸配向ポリエステルフィルム、並びに両面に易滑易接着層を設けた前記フィルムの片面にハードコート層を、他面に粘着剤層を積層した光学用フィルム積層体。 (もっと読む)


441 - 456 / 456