【課題】透明支持体上に２種類以上の配向制御層が形成されており、配向制御面に平行な面内において液晶の長軸を互いに直交する方向に配向制御可能である積層体の提供。
【解決手段】透明支持体と、該透明支持体上に、組成が互いに異なり、且つ互いに異なる配向制御能を示す配向制御表面を有する、第一の配向制御領域及び第二の配向制御領域を含み、それぞれの配向制御表面が交互に配置されたパターン配向制御層を有し、前記第一の配向制御領域及び前記第二の配向制御領域のそれぞれの配向制御面が、該配向制御面に平行な面内において液晶の長軸を互いに直交する方向に配向制御可能であることを特徴とする積層体。 （もっと読む）

【課題】ナノ凹凸構造による反射防止機能を示すと共に、高い耐擦傷性、特にＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準じた鉛筆硬度試験で３Ｈ以上を示す積層体を提供する。
【解決手段】透明基材上に中間層を介して表層が積層された積層体であって、中間層の厚さが８〜４０μｍであり、表層の厚さが中間層の厚さの０.４〜１.５倍であり、中間層のｔａｎδ（損失正接）が２０℃、１Ｈｚにおいて０.２以上である積層体。特に、表層がナノ凹凸構造を有する層であり、また中間層は、圧縮破壊応力が２０ＭＰａ以上であり、圧縮率２０％における圧縮応力が１〜２０ＭＰａであり、圧縮後に応力を解放した場合元の厚さの９０％以上に戻る樹脂によって構成されていることが好適である。 （もっと読む）

【課題】耐擦傷性や耐摩耗性に優れるとともに、指紋が付着しにくく、また付着した指紋を容易に拭き取ることができる、タッチパネル、各種ディスプレイ等の保護用に好適なハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】基材上に、ケイ素を有するダイヤモンド微粒子及び／又はフッ素を有するダイヤモンド微粒子を含むハードコート層が形成されたことを特徴とするハードコートフィルム、及び基材上に、ケイ素及びフッ素を有するダイヤモンド微粒子を含むハードコート層が形成されたことを特徴とするハードコートフィルム。 （もっと読む）

【課題】防塵性及び機械的強度に優れた防塵構造を有する光学素子及びそれを用いた撮像装置及びレンズ交換式カメラを提供する。
【解決手段】基材10と、基材10の表面に形成された防塵層20とを有する光学素子１であって、防塵層20は、細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型としてなり、細孔構造の逆パターンを有する複数の微細凸部21aからなる防塵構造21を有することを特徴とする光学素子。 （もっと読む）

【課題】偏光板加工における貼合工程での搬送性、貼合適正にすぐれた光学フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ハードコート層がフィルム基材の片面に設けられた光学フィルムを、該光学フィルムを製造した際のフィルム基材の幅方向に３５ｍｍ、長手方向に２ｍｍの大きさに切り取り、温度２５℃、相対湿度６５％の環境下に１時間置いて測定したカール値が、ハードコート層側を表面として該表面が内巻きになるカールをプラス、該表面が外巻きになるカールをマイナスとしたとき、０よりも小さくし、フィルム基材の幅方向に２ｍｍ、長手方向に３５ｍｍの大きさに切り取り、温度２５℃、相対湿度６５％の環境下に１時間置いて測定したカール値が、０よりも大きくする。 （もっと読む）

【課題】 光の反射率を低下させることなく反りの発生を抑制できるハーフミラー基板の製造方法、およびハーフミラー基板を提供する。
【解決手段】 本実施例のハーフミラー基板１は、ＰＭＭＡ基板１０と、ＰＭＭＡ基板１０の裏面に形成される反射膜層３０と、を有する。反射膜層３０は、ＰＭＭＡ基板１０表面に形成されてなる金属反射膜（Ｓｎ膜３１）と、Ｓｎ膜３１を覆うように形成される保護膜（ＳｉＯ膜３２）と、からなる。Ｓｎ膜３１の表面には、ＳｎＯ₂を主たる成分とする酸化Ｓｎ層３３が形成されている。また、ＳｉＯ膜３２は、低い水蒸気バリア性を有する。 （もっと読む）

【課題】
良好な反射防止性を有し、かつ低価格化が図られたディスプレイ用フィルターを提供する。
【解決手段】
基材フィルム、メッシュ状導電層、ハードコート層、及び高屈折率層と低屈折率層とからなる反射防止層をこの順に有するディスプレイ用フィルターであって、前記ハードコート層表面の中心線平均粗さＲａが６０ｎｍ未満で、かつ前記反射防止層を構成する高屈折率層と低屈折率層が単一層の相分離によって形成されたものである、ディスプレイ用フィルター。 （もっと読む）

【課題】縞模様発生の少ないフィルムコーティングと、それらの製造と、光学体上または他のデバイス上でのそれらの使用を提供する。
【解決手段】縞模様発生の少ないフィルムコーティングは、表面を有する透明高分子層と、表面から外向きに延在する複数の突起と、を含む。突起は、０．０５〜１μｍの平均高さおよび０．５〜２ｍｍの平均突起間距離を有する。高分子組成物を基材上にコーティングすることにより、コーティングを形成することが可能である。高分子組成物は、高分子材料と高分子材料用の良溶媒と高分子材料用の貧溶媒とを含む。溶媒を少なくとも部分的に蒸発させて、縞模様発生の少ない透明高分子層を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、熱ジワ、ヘイズ、コントラストムラに優れた薄膜な偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置を提供することにある。更に、基材フィルムとハードコート層間で見られる気泡の発生のない偏光板を提供することにある。
【解決手段】保護フィルム１及び保護フィルム２によって偏光子が挟持された偏光板において、保護フィルム１は、平均アセチル基置換度が２．８０〜２．９５のセルロースアセテートを含み、フィルム膜厚が２０〜３８μｍであり、かつフィルムのｔａｎδが特定の条件を満たすセルロースアセテートフィルムであり、保護フィルム２は、セルロースアセテートの６位のアセチル基置換度をＤ６とした時に０．７４５≦Ｄ６≦０．９５であり、平均アセチル基置換度が２．０〜２．５の範囲であるセルロースアセテートと、多価カルボン酸エステルの少なくとも一種を含有するセルロースアセテートフィルムであることを特徴とする偏光板。 （もっと読む）

【課題】低屈折率層に２回の熱履歴が加わることがなく、視感度反射率、ヘイズ値、カール性等の悪化を避けられる反射防止フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材フィルムの一方面に低屈折率層を設け、他方面に熱硬化機能層を設けた反射防止フィルムの製造方法において、透明基材フィルムの一方面に、電離放射線硬化型樹脂とアルコキシシランとを含有させ有機溶剤で希釈した低屈折率層用の塗布液を塗布する工程Ａ−１と、この塗布膜を乾燥させる工程Ａ−２と、この乾燥膜に電離放射線を照射して電離放射線硬化型樹脂のみを硬化させた半硬化膜を作成する工程Ａ−３と、透明基材フィルムの他方面に熱硬化機能層用の塗布液を塗布する工程Ｂ−１と、この塗布膜と半硬化膜とを同時に加熱して、熱硬化機能層と低屈折率層とを同時に作成する工程Ｂ−２とからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ハードコート層等に対して良好な視認性や密着性を有することが求められる用途、例えば液晶ディスプレイの部材等の各種の光学用フィルムや成形用フィルムにおいて好適に利用することができる積層ポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】 ナフタレン骨格を含有するポリエステル樹脂、金属酸化物、および２種類以上の架橋剤を含有する塗布層をポリエステルフィルムの少なくとも片面に有することを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 （もっと読む）

【課題】良好な耐擦傷性を有する反射防止フィルムを再現性よく提供すること。
【解決手段】透明樹脂フィルムと、最外層にバインダーマトリクス及び無機微粒子を含む低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、前記無機微粒子の平均粒子径が、前記低屈折率層の厚みに対して１００％以下であり、かつ、Ｘ線反射率測定法により測定される前記低屈折率層の密度が、１．４ｇ／ｃｍ^３以上であることを特徴とする反射防止フィルム。本発明の反射防止フィルムは、偏光板や液晶表示装置に好適に使用される。 （もっと読む）

【課題】微細凹凸構造を有するフィルムとその積層体、およびこれを有する物品に帯電防止性を付与する。
【解決手段】一方の表面に微細凹凸構造が形成されたフィルムと、該フィルムの他方の表面に積層した粘着剤層とを備え、該粘着剤層を介して透明基板上に貼着される積層体であって、粘着剤層が、帯電防止性付与剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】 ハードコート層等に対して良好な視認性や密着性を有することが求められる用途、例えば液晶ディスプレイの部材等の各種の光学用フィルムや成形用フィルムにおいて好適に利用することができる積層ポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】 芳香族イソシアネート化合物由来の化合物、ナフタレン骨格を含有するポリエステル樹脂および金属酸化物を含有する塗布層をポリエステルフィルムの少なくとも片面に有することを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 （もっと読む）

【課題】中空シリカ微粒子を含む電離放射線硬化型樹脂組成物のコーティング層を形成した、低屈折率でかつ機械的強度に優れる反射防止積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカ微粒子が、第１工程：複合酸化物からなるコロイド粒子を形成する工程、第２工程：前記コロイド粒子から、珪素と酸素以外の元素の少なくとも一部を、鉱酸もしくは有機酸を用いて溶解除去するか、または、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去することにより、選択的に除去する工程、第３工程：前記コロイド粒子の表面を加水分解性有機ケイ素化合物またはケイ酸液の重合物で被覆してシリカ微粒子を調製する工程、第４工程：前記シリカ微粒子を５０〜３００℃の範囲で水熱処理して、シリカ微粒子中に含まれるアルカリ金属酸化物およびアンモニアの量を、それぞれ１０ｐｐｍおよび２０００ｐｐｍ以下とする各工程を経て調製されたものである。 （もっと読む）

【課題】製造の歩留まりの良い反射防止光学素子を実現する。
【解決手段】反射防止光学素子は、ピッチ：Ｐ、長さ：ｄ、Ｄ、アスペクト比：Ｘ（＝Ｈ／Ｐ）が、条件：、Ｄ＝Ｐ、０＜ｄ≦Ｄ／２、３≦Ｘ≦１５、Ｈ≧０．６λ２を満足する基本形状の両斜辺が外側へ拡張した厚肉台形形状を断面形状として、配列ピッチ：Ｐで１次元に配列して上記１次元の微細周期構造をなし、この厚肉台形形状の面積：Ｓが、上記基本台形形状の面積：ｓに対して、１．２５ｓ≧Ｓ＞ｓ を満足する。 （もっと読む）

【課題】 耐擦傷性および耐摩耗性などのハードコート特性や透過率およびヘイズなどの光学特性を低下させることなく、皮脂膜の付着による汚れを防止することに優れた樹脂積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂基材に、該樹脂基材の表裏両面または片面に紫外線硬化性化合物（Ａ）、脂肪酸、脂肪酸エステルまたはそれらの誘導体（Ｂ）およびポリシロキサン化合物（Ｃ）を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、
塗布された紫外線硬化性樹脂組成物を硬化する工程を有する樹脂積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来の製造方法では、反射防止構造体を容易に製造することが困難であった。
【解決手段】可視光の波長以下のピッチで形成された凹凸構造を有する反射防止構造体の製造方法であって、成形型の成形面上にエネルギー硬化性樹脂を塗布する工程と、前記エネルギー硬化性樹脂を挟むように前記成形型と光学部材とを配置する工程と、可視光の波長以下のピッチで形成された複数の開口部を有するマスクを介して、前記エネルギー硬化性樹脂にエネルギー線を照射し、照射分布を有する硬化樹脂層を形成する工程と、前記成形型から前記光学部材および前記硬化樹脂層を離型する工程と、を備える、反射防止構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐剥離性に優れたハードコートフィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルム３１２と、該基材フィルム３１２の一方の面に積層されたハードコート層３１１とを備えるハードコートフィルムであって、
前記ハードコート層３１１が、活性エネルギー線硬化性樹脂、重合開始剤および界面活性剤を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を鋳型と接触させながら硬化させることにより形成され、かつ、前記ハードコート層３１１の対水接触角θが、下記式（１）を満たすハードコートフィルム３１。
｜θ_０−θ｜≦１５° （１）
（式中、θ_０は、基材フィルムの一方の面に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を鋳型と接触させずに２５℃の気体中で硬化させて形成したハードコート層の対水接触角を表す。） （もっと読む）

【課題】透明基材の少なくとも一方の面にハードコート層と、反射防止層をこの順番で積層したフィルムであって、反射防止層中の表面調整剤の局在化を促進し、反射防止層中の低屈折率成分の相対的減少による反射率の上昇をすることなく、耐擦傷性および色ムラに優れた反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材の少なくとも一方の面にハードコート層と、反射防止層を順次積層した反射防止フィルムにおいて、ハードコート層にフッ素含有基とシリコーン骨格の両方もしくはどちらか一方を有する表面調整剤が含まれ、フッ素含有量が０．０１〜３ａｔｏｍ％の範囲内であり、シリコーン骨格を有するケイ素含有量が０．０１〜５ａｔｏｍ％の範囲内で含有しており、且つ、反射防止層にフッ素含有基を有する表面調整剤が含まれ、フッ素含有量が０．０１〜１０ａｔｏｍ％の範囲内で含有していることを特徴とする反射防止フィルムである。 （もっと読む）