【課題】機械加工物（ワーク）の水切り装置であって、ワークの表面に付着された水滴を完全に除去する技術を提供する。
【解決手段】水切りすべきワーク１を保持するエアブローボックス２と、エアブローボックス２内に取りつけられ、ワーク１をクランプするワーククランプ冶具３と、ワーククランプ冶具３を回転してクランプされたワーク１を回転し、ワーク１に付着された水滴を滴下する冶具回転機構４と、ワーク１から滴下された水滴１１の落下方向と同方向の気流を発生させるエアブロー５とから構成される。 （もっと読む）

【課題】基板処理のばらつきを抑制しつつスループットを改善する。
【解決手段】第１薬液ユニット２１は、第１薬液処理プレート３１を備え、第１リンスユニット２２は第１リンス処理プレート３２を備え、第２薬液ユニット２３は第２薬液処理プレート３３を備え、第２リンスユニット２４は第２リンス処理プレート３４を備え、乾燥ユニット２５は乾燥処理プレート３５を備えている。処理プレート３１〜３５は、水平な平坦面をなす基板対向面３１Ａ，３２Ａ，３３Ａ，３４Ａ，３５Ａをそれぞれ有し、これらは、同一高さの水平面内に位置している。基板搬送機構は、基板対向面３１Ａ〜３５Ａに沿って、基板Ｗを滑らすように水平方向に移動させ、これにより処理ユニット２１〜２５間での基板Ｗの搬送を達成する。処理プレート３１〜３５は、隣り合うもの同士が基板搬送経路に沿って接近して（隣接して）配置されている。 （もっと読む）

【課題】異常放電を回避でき、マガジン内の複数のプリント基板のプラズマ洗浄が均一に行なえるプラズマ洗浄装置を提供すること。
【解決手段】真空チャンバー１が所定の真空状態とされ、高周波電源１０からの高周波電圧が左部電極２、右部電極３に自動整合器１１を介して高周波電圧を印加される。すると、プラズマ反応性ガスが真空チャンバー１の左右側壁の導入口１Ａ、１Ｂを介して該真空チャンバー１内に導入され、更に該真空チャンバー１内に導入され左部電極２及び右部電極３を貫通して両電極２、３間に供給されたプラズマ反応性ガスである酸素ガスはプラズマ化され、酸素はラジカル化する。そして、ラジカル化された酸素がマガジン７内のプリント基板６に付着している汚染物質と化学反応を起こして、真空チャンバー１の後壁に開設された排出口１Ｃを介して排出される。 （もっと読む）

【課題】この発明はオゾンや熱に対して耐性を備えた金属製の駆動ローラによって基板を損傷させることなく搬送できるようにした基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を所定の角度で傾斜した起立状態で搬送しながら処理する基板の処理装置であって、
チャンバ内に設けられ基板の傾斜方向下方の面を支持する支持ローラと、回転駆動される回転軸１９に取着され傾斜方向下方の面が支持ローラによって支持された基板の下端を支持してその基板を所定方向に搬送する駆動ローラ１７を具備し、
駆動ローラは、回転軸に取着される金属製の輪体５８と、輪体の外周面に設けられ基板が搬送方向上流側の駆動ローラから乗り移るときに加わる力で弾性的に変形する金属製の板状部材６１とによって構成されている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、レチクル等の基板あるいは静電チャックに付着したパーティクルを除去するパーティクル除去装置および露光装置に関し、基板あるいは静電チャックに付着したパーティクルを真空雰囲気内において容易に除去することを目的とする。
【解決手段】 基板に付着したパーティクルを真空雰囲気内において除去するパーティクル除去装置であって、前記基板を保持する保持手段と、前記基板に振動を付与する振動付与手段とを有することを特徴とする。また、前記基板はレチクルであり、前記保持手段にパターン面を下方に向けて保持されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板サイズ情報を自動的に入力することによって、基板サイズ情報の手入力ミスを防止するとともに、生産性を向上させることができる洗浄装置の提供を目的とする。
【解決手段】異なる複数のサイズのフォトマスク基板８に所望の洗浄処理を施すために、基板サイズに応じて可変する可変部位（三方弁２９３など）と、フォトマスク基板８とともに投入される基板保持部材８１に付された基板サイズ情報を読み取るバーコードリーダー１０１と、バーコードリーダー１０１により読み取られた基板サイズ情報にもとづき、可変部位を可変させる制御部７とを備えた構成としてある。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面の汚染に起因するパターン不良を防止できる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。インターフェースブロック１５に隣接するように露光装置１６が配置される。インターフェースブロック１５は、裏面洗浄処理ユニットＲＳＷを含む。裏面洗浄処理ユニットＲＳＷにおいて、露光処理前に基板Ｗの裏面が洗浄される。 （もっと読む）

【課題】対象物に付着する異物を自動的に除去し、かつ除去された異物が対象物に再付着したり、周囲に飛散したりしないようにできる異物除去装置を提供する。
【解決手段】本発明異物除去装置は、対象物に付着した異物を除去する異物除去装置である。この装置は、第一除電機構（除電機構1）と、第一流体噴射機構（エア噴出機構3）と、第一吸引機構（集塵機）とを有する。第一除電機構は、対象物の帯電を除去する。第一流体噴射機構は、除電された対象物（チューブA）に対して流体を噴射し、対象物に付着する異物を吹き飛ばす。第一吸引機構は、第一流体噴射機構で吹き飛ばされた異物を吸引する。 （もっと読む）

【課題】レチクルに付着した異物を確実に除去する。
【解決手段】レチクルに付着した異物を確実に除去するレチクルクリーニング装置は、クリーニング室２２内においてレチクル姿勢変更装置５０によって垂直状態に保持されたレチクル１に窒素ガスを噴射する複数個の噴射ノズル７６と、レチクル１に噴射した窒素ガスを異物と共に吸引して排気する排気ダクト７８とを備えており、クリーニングに際して、噴射ノズル７６群と排気ダクト７８とは往復水平移動しながら下降する。垂直状態に保持されたレチクルに窒素ガスを噴射するとともに、レチクルに噴射した窒素ガスを異物と共に吸引するので、レチクルに付着した異物の飛散を防止しつつ確実に除去できる。噴射ノズル群と排気ダクトがレチクルの全面をスキャニングするので、レチクルの全面の異物を確実に除去できる。 （もっと読む）

【課題】サイズの異なるガラス材料製のハードディスクを効率よく洗浄できるようにしたガラスハードディスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】ローダーカセット（２）から送り出されたハードディスク（１）を第１ウォーターベアリング（６）で搬送する。第１検出間隙（８）を設けて第２ウォーターベアリング（７）を連接し、ハードディスク（１）をスクラブ洗浄部へ送る。このスクラブ洗浄部で、ハードディスク（１）はテーパー付のドライブローラ（１０）の傾斜面に当って回転される。スクラブ洗浄後のハードディスクは第３ウォーターベアリング（２４）及び第２検出間隙（２７）をあけて設けた第４ウォーターベアリング（２６）でアンローダーカセット（３１）に収納される。上記第１検出間隙（８）及び第２検出間隙（２７）には、ハードディスクを横方向から検出するセンサー（９）、（２９）がある。 （もっと読む）

【課題】簡素且つコンパクトな構成でありながらも充分な除塵性能を有する、新規な異形ワークの除塵装置の開発を技術課題とした。
【解決手段】筐体１内に区画された略密閉し得る除塵室１０内に、ワークを安定的に支持するホルダ５と、このホルダ５に支持されたワークの要除塵面を満遍なく掃引するスポットエアノズル２０と、吸塵機８とが具えられ、前記スポットエアノズル２０を少なくともワークの要除塵面の範囲を二次元的に移動させ、その掃引移動時にスポットエアノズル２０から除塵気体を噴出させることによりワークの要除塵面に付着していたダストを吹き飛ばすとともに、吹き飛ばされたダストを前記吸塵機８により集塵するように構成されたことを特徴として成り、コンパクトな除塵室１０内においてワークの要除塵面から満遍なくダストを除去するとともに、これを集塵することができるため、除塵工程の省スペース化及びコストダウンを図ることができる。 （もっと読む）

【課題】従来の熱酸化膜やＣＶＤ法による絶縁膜の形成方法のみでは、今後の高速、低消費電力デバイスへの応用は不十分である。また、良好なデバイス特性を得るためには様々な形体を持った装置を使用する必要があり、操作性やフットプリントの点で問題がある。
【解決手段】本発明により、大気への暴露を避けて、洗浄、酸化、窒化、薄膜化などの処理を行うことで、洗浄度の高い絶縁膜の形成が可能となる。さらに、同一の動作原理を用いて絶縁膜の形成に関する様々な工程を行うことで、装置形体の簡略化を実現し、特性の優れた絶縁膜を効率よく形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】
バッチ方式で複数のディスクを同時にスクラブ洗浄することが可能であり、洗浄処理のスループットを向上させることができ、装置の小型化に適したディスク洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】
この第１の発明は、回転ブラシを所定の長さの円筒状あるいは円板状のブラシとして回転ブラシが複数個挿着された回転軸を有し隣接する前後の回転ブラシのブラシ面の間にディスクが挿入されて保持され回転ブラシを回転させる回転ブラシユニットと、回転ブラシの回転による回転軸を中心とする保持したディスクの公転を阻止し自転を許容するためのディスク公転防止ストッパとを有するものである。第２の発明は、さらに回転軸側を３点チャックの１点とし、この回転軸に対向させて３点チャックの他の２点をそれぞれ設けて複数のディスクを回転可能にチャックするものである。 （もっと読む）

【課題】高速化、洗浄温度の低下、極薄マスクの洗浄の質向上、マスクの初期形状の維持、および時間の短縮化による生産性の向上を達成する、ＯＬＥＤ（有機発光ダイオード）ディスプレイの製造工程で汚染されたシャドウマスクの洗浄方法および装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ１内においてイオン源２によりイオンビームを生成するステップと、チャンバ１内に、イオン源２の放射面３と対向させてマスク４を配置するステップとを含み、マスク４を配置した冷却ホルダ７を真空チャンバ１内に配置して、イオン源２の放射面３に面した、マスクの被処理面５を、リボンイオンビームを集束させることによりスキャンし、単一のイオンビームをこの面上に通過させている間にマスク面の要素が受け取るエネルギー線量が最大許容過熱に相当する熱量を超過しないように、スキャニングの速度を選択し、また、酸素または酸素との混合物をイオン生成ガスとして使用する。 （もっと読む）

【課題】 プリント板ユニットの実装面に介在する異物を効果的に除去することのできる異物除去装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 プリント板ユニット１０の実装面１１に介在する異物を除去する異物除去装置であって、プリント板ユニット１０を所望の姿勢に保持する保持部１４と、繰り返し波形を有する連続衝撃波を発生する電磁バイブレータ１５と、衝撃波発生部１５で発生した連続衝撃波を上記保持部１４により保持されたプリント板ユニット１０に伝達する伝達板１２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】キャリアに搬入する前のウェハやキャリアから搬出したウェハからパーティクルを効果的に除去できる処理システム及び処理方法を提供する。
【解決手段】
基板Ｗを処理する処理システムに，基板Ｗを処理する処理部と，複数枚の基板Ｗを収納する収納容器Ｃを載置する載置台４０と，基板Ｗを略水平な姿勢で保持し，前記収納容器Ｃの開口２０を介して収納容器Ｃ内に対して基板Ｗを搬入出させる基板搬送装置６０とを備えた。そして，基板搬送装置６０によって保持された基板Ｗに対して，開口２０側から開口２０の外側に向かう方向にガスを供給するガス供給口７３を設けた。 （もっと読む）

【課題】キャリア内に付着したパーティクルやキャリア内のウェハに付着したパーティクルを効果的に除去できる処理システム及び処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを処理する処理部と，複数枚の基板Ｗを収納する収納容器Ｃを載置する載置台４０とを備え，収納容器Ｃは，収納容器Ｃ内の基板Ｗを略水平にして上下に並べる状態，かつ，収納容器Ｃに基板Ｗを搬入出させるための開口２０を収納容器Ｃの側方に向けた状態で載置されるようにした。開口２０の外側には，ガスを供給する複数のガス供給口７３を設けた。各ガス供給口７３は，収納容器Ｃ内の各基板Ｗ同士の間に向かって略水平方向にガスを供給する方向に指向させた。 （もっと読む）

【課題】ブラッシングによってパレットを清掃するパレット清掃装置において、ブラシによる掃き残し或いは清掃不良を低減する
【解決手段】パレット清掃装置は、パレットを搬送するコンベア１０と、コンベア１０上のパレット１の上面に接触しながら回転する円筒状ブラシ２０とを備える。円筒状ブラシ２０は、回転によりパレット１上の除去対象物をコンベア１０の第１側方Ａに押し出すように第１螺旋溝２４ａが形成された第１部分２４と、回転によりパレット１上の除去対象物をコンベア１０の第２側方Ｂに押し出すように第２螺旋溝２６ａが形成された第２部分２６とを含み、第１部分２４が第１側方Ａ側に配置され、第２部分２６が第２側方Ｂ側に配置される。 （もっと読む）

【課題】基板洗浄用部材のクリーニング効果を向上させるクリーニング方法及び基板洗浄装置の提供。
【解決手段】洗浄液は，多孔部材７２の細孔，及び，基板洗浄用スポンジ６２の細孔を通過して，接触面６２ａに染み出，基板洗浄用スポンジ６２の内側から外側に洗浄液が流出して，基板洗浄用スポンジ６２が洗浄液を含んで濡らされると共に，洗浄液がウェハＷに供給される。基板洗浄用スポンジ６２の下面部分の厚さを薄く形成すると，基板洗浄用スポンジ６２のクリーニング時に，下面部分を通過する洗浄液の流速を効果的に速くすることができ，クリーニング効果が向上する。基板洗浄用スポンジ６２の下面部分は硬質の多孔部材７２によって補強されているので，下面部分を薄くしても，下面部分が過剰に変形したり破損したりすることを防止でき，ウェハＷに対して適度な接触圧を与え，ウェハＷを好適に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】マスク表面へのダメージを小さく抑えることができる洗浄方法、洗浄装置を提供すること。
【解決手段】蒸着に使用されるマスクを洗浄する洗浄装置において、内部に前記マスクが配設されるチャンバと、前記マスクの上面及び下面が露出するように前記マスクを支持する支持手段と、前記マスクの配設領域と異なる領域に配設され、前記マスクを洗浄するためのエッチングガスを発生するプラズマ源と、該プラズマ源によって発生されたエッチングガスを、露出した前記マスクの上面及び下面に案内する案内手段と、を備えたマスク洗浄装置。 （もっと読む）