【課題】 ゴルフクラブのヘッド及びグリップに付着した汚れを、自動的に落として清掃、除菌、殺菌及び滅菌もできるようにしたゴルフクラブ洗浄装置を提供する。
【解決手段】 ゴルフクラブ洗浄装置１００は、洗浄温水供給置１と、送水ポンプと、ヘッド洗浄機構と、グリップ洗浄機構とを備え、ヘッド洗浄機構は、ゴルフクラブ２１のヘッド２１ａを載置する載置台３と、ヘッド２１ａに対して洗浄温水を吐出するヘッド洗浄ノズルと、ヘッド面に摺接しながら往復移動するヘッド洗浄ブラシと、ヘッド面が略水平となるようにゴルフクラブ２１のシャフト２１ｃを載置するシャフト保持部６と、紫外線ランプとを備えた構成を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 露光装置において基板に付着した液体による動作不良が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】 基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、乾燥／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。インターフェースブロック１３に隣接するように露光装置１４が配置される。乾燥／現像処理ブロック１２は乾燥処理部９５を備える。インターフェースブロック１３はインターフェース用搬送機構ＩＦＲを備える。露光装置１４において基板Ｗに露光処理が施された後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部９５に搬送される。乾燥処理部９５において基板Ｗの洗浄および乾燥が行われる。 （もっと読む）

【課題】的確良好な洗浄作用により所期の清浄性の確保に有効であり、しかもより小さな設置スペースで済む容器洗浄装置を提供する。
【解決手段】蓋１１を有する容器本体７を、洗浄、水切りなどの処理工程ごとに仕切った処理室１〜６内で処理する容器洗浄装置において、処理室１〜６を貫通して設けられ、容器本体７を開口側を下方にして間欠的に搬送する本体搬送手段９と、該本体搬送手段９に平行に配設され、蓋１１を表裏面が水平方向を向くようにほぼ垂直に立てた状態に保持して本体搬送手段９と同期させながら搬送する蓋搬送手段１２とを備え、洗浄ノズル及び水切りノズルは、蓋１１の表裏面と容器本体７の内外面に向けて噴射するように配設する。 （もっと読む）

【課題】薄型基板を対象として異常放電の発生を防止することができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】処理室内に基板を収容してプラズマ処理するプラズマ処理装置において、セラミックス製の載置プレート１０上に保持された基板の両側端部をガイドするためにセラミックス製の固定ガイド１２，可動ガイド１３をＸ方向（基板搬送方向）に配列し、可動ガイド１３の両端部を支持部材によって支持させ、この支持部材を載置プレート１０を挟んでＹ方向に配置された固定部材１５Ａ，１５ＢにＹ方向の間隔を調整自在に装着する構成とする。これにより、セラミックス製のガイド部材１３を直接ボルト締結することなく着脱することができ、幅寸法が異なる多種類の薄型基板を対象として異常放電の発生を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 再使用されるボトル内部をボトル内の隅々まで洩れなく完全に、しかも効率よく洗浄する。
【解決手段】 空ボトルＢを倒立支持させた状態で、天井部から洗浄水を噴射する洗浄槽２内を循環コンベヤＣにより所定のピッチで間欠運転によって下流に搬送させながら、空ボトルＢの内外面を洗浄、殺菌洗浄、すすぎ洗浄を連続で行うボトルの洗浄装置１において使用される洗浄水の噴射装置であって、前記倒立支持された空ボトルＢの口部５１からボトルＢ内部に略垂直に挿入され、ボトル内面５２に向けて洗浄水Ｆを噴射する複数の噴射口３３，３４，３５，３６，３７が配された洗浄ノズル３２を有し、前記洗浄ノズル３２が洗浄水Ｆを噴射しながらボトルＢ内部を上下動する。
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【課題】 半導体ウェハの有機物汚染を軽減する有機物除去装置および除去方法を提供する。
【解決手段】 本発明の有機物除去方法は、減圧された処理室５内に配置される半導体ウェハＷに付着した有機物の除去を行う。半導体ウェハＷに波長２００ｎｍ以下の紫外線を照射し、半導体ウェハに付着した有機物を分解する。そして、処理室５内に、酸素マイナスイオンラジカルまたは酸化物イオンと酸素マイナスイオンラジカルを含む単原子イオンから成るマイナスイオンを供給して、マイナスイオンを紫外線により分解された有機物と反応させる。この酸化反応によって、有機物が半導体ウェハＷから、気体として放出され除去される。 （もっと読む）

本発明の表面処理方法は、常温常圧で液体の物質をイオン化して形成したイオンビームを基材表面に照射することを特徴とする。本発明の表面処理装置は、常温及び常圧で液体の物質のクラスターを生成するための真空容器であるソースチャンバ（１）、ソースチャンバ（１）で生成されたクラスターを小さい開口を有するスキマー（１０）を通過させて細いビーム状にするための真空容器である差動排気チャンバー（２）、形成されたクラスタビームをイオン化し、質量分離によって構成分子数が選別されたクラスターイオンビームを基板表面に照射するための真空容器であるターゲットチャンバー（３）を基本構成とする。
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【課題】基板の裏面に吸着跡を付けることのないチャックを提供する。
【解決手段】基板の裏面を真空吸着して固定保持するスピンチャックの吸着面３２ｄには、樹脂材料を切削加工したときの削り屑や樹脂に含まれる成分の粒子等の異物９９が付着している。そのような吸着面３２ｄを導電性ポリマーを主成分とする光硬化型のアクリル系樹脂の樹脂膜３９によって被覆する。これにより、吸着面３２ｄに付着していた異物９９を樹脂膜３９によって覆って表面に露出させないようにすることができ、その結果、スピンチャックの吸着面３２ｄに基板を真空吸着したときにも、その裏面に異物９９が付着したりキズを付けたりするのを防ぐことができ、吸着跡の付着を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄物の洗浄効率の向上及び洗浄による清浄度の向上を図ること。
【解決手段】 少なくとも１つの洗浄物を保持し、洗浄槽に浸漬される洗浄物保持具であって、洗浄物を配置するトレイを備え、このトレイの洗浄物配置箇所に、当該トレイを貫通し、洗浄物配置箇所の反対側から洗浄物を吸引する吸引孔を設けた。 （もっと読む）

【課題】 屈曲し洗浄が困難な成形ゴムホースに代表される異形部材を効率よく確実に洗浄する方法を提供することであり、また、従来手作業に頼らざるをえなかった洗浄作業を自動化することができる装置を提供すること。
【解決手段】 異形部材の洗浄方法では、洗浄対象となる異形部材を洗浄槽内に投入する第１工程Ｓ１と、密閉した洗浄槽を真空状態にする第２工程Ｓ２と、洗浄槽内に洗浄水を注水する第３工程Ｓ３と、異形部材を洗浄する第４工程Ｓ４と、洗浄槽内の洗浄水を排水する第５工程Ｓ５及び洗浄槽内から異形部材を取り出す最終工程Ｓ７とから構成するが、必要により第５工程Ｓ５の後に、洗浄槽内を再び真空状態として異形部材を乾燥させる第６工程Ｓ６を行う。 （もっと読む）

【構成】 ガラス基板８を載置するトレイ６の搬送システムに、ワーク洗浄装置２０を組み込む。トレイ６の底面の開口１７から支持体３２を上昇させて、トレイ底面の支持面１９と共に基板８を支持させる。ノズル２２を基板８の上部へ移動させ、クリーンエアを吹き付けて洗浄する。
【効果】 搬送する過程で、ガラス基板を洗浄できる。 （もっと読む）

【課題】他の部位にダメージを与える事なくプラズマ洗浄を実施できるとともに、設計変更や多品種少量生産に容易に対応する事が可能なプラズマ洗浄装置及び方法を提供すること。
【解決手段】開口部１３が設けられたマスク１０をアクチュエータ１６により移動可能としておく。この状態でマスク１０の開口部を部品４に設けられた金属接合部上に位置決めし、プラズマコントローラ１７により第２電極７からと第１電極６に向けてプラズマイオンを照射する。これにより開口部１３を介して金属接合部にプラズマイオンが照射される。別の金属接合部にプラズマイオンを照射する場合には、マスクコントローラ１８によりアクチュエータ１６を制御してマスク１０を移動させる。 （もっと読む）

【課題】 電極との接触によって発生したゴミを除去することで、電極表面への堆積量及び装置内部への汚染を抑制し、表面処理の安定性を確保する。
【解決手段】 この表面処理装置には、互いの放電面が対向されて放電空間を形成するように配置され、放電空間内に高周波電界を発生させる一対の電極と、放電空間内で一対の電極のうち、少なくとも一方の電極に密着しながら相対的に移動されるように移動体を保持する保持機構とが備えられている。そして、表面処理装置には、移動体の電極側表面上のゴミを除去するクリーニング手段が備えられている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＡＬＣ板とパレットの両方を洗浄可能とする洗浄システムを提供するものである。
【解決手段】 本発明の洗浄システム１は、多孔質板（ＡＬＣ板２）を掴むワークチャック部８を備え、このワークチャック部８の昇降を可能とし、その本体が走行レール９に沿って走行可能に構成された移送機６と、パレット４を走行レール９方向に搬送する搬送ローラ５と、走行レール９の途中に設けられ、洗浄ブラシ１５，１８により前記ＡＬＣ板２と前記パレット４を洗浄する洗浄装置７とを備えたことを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】
回転ブラシを使用してシャワー洗浄を行うディスク洗浄装置の洗浄効率を向上させることができるディスク洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、洗浄対象となるディスクを表裏両面から狭持して回転させる一対の第１の回転ブラシと、第１の回転ブラシを回転駆動する駆動機構と、ディスクを回転可能にチャックするチャック機構と、ディスクを表裏両面から狭持して第１の回転ブラシによるディスクの回転に対して負荷を与える一対の第２の回転ブラシとを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】 基板を非接触で、しかも所望の基板処理位置に位置決めすることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 搬送ロボットにより未処理基板Ｗが基板受渡し位置Ｐ１に搬送されてくると、基板浮上ヘッド７１によって未処理基板Ｗはその下面に向けて吐出される不活性ガスにより浮上させられる。続いて、未処理基板Ｗを浮上させている基板浮上ヘッド７１がアクチュエータ７４の作動により降下される。そして、未処理基板Ｗが基板処理位置Ｐ３に達すると基板Ｗの下面周縁部は支持ピン３と係合して、さらに基板浮上ヘッド７１が降下されることで支持ピン３に未処理基板Ｗが受け渡されて支持ピン３に載置される。こうして、基板Ｗが基板処理位置Ｐ３に位置決めされ、基板Ｗの下面周縁部とスピンベース５の対向面５ｂとが近接状態で対向配置される。 （もっと読む）

熱プラズマを生成するプラズマ生成装置（３１６）と、プラズマ生成装置（３１６）から熱プラズマを受け取り且つプラズマ処理チャンバ（３１８）内で熱プラズマを膨張させるためにプラズマ生成中にプラズマ生成装置（３１６）よりも低い圧力をプラズマ処理チャンバ（３１８）に維持するプラズマ生成装置（３１６）の外部のプラズマ処理チャンバ（３１８）と、熱プラズマを誘導結合する誘導子システム（３３０、３３２、３３３）とを含むプラズマ生成システム（３００）が提供される。 （もっと読む）

【課題】より高い精密洗浄能力を有するスピン洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄体を被洗浄物２へ照射するノズル１と、ケーシング３で且つ被洗浄物２周囲の位置に複数枚の遠心翼４を有する回転体とを備えている。ノズル１から噴射され被洗浄物２から振り飛ばされた飛沫やミスト１５を、遠心翼４の回転により該遠心翼の外側へ排出させる排出機能と、排出された飛沫やミスト１５の遠心翼４の内側への回帰を防止する回帰防止機能とを生じさせ、被洗浄物２から除去されたゴミや塗膜の除去の実行性を高めている。これにより、所定のケーシング３内で被洗浄物２を回転しこの被洗浄物２に気体や液体またはそれらの混合物から成る洗浄体を噴射することで、被洗浄物２からゴミや塗膜を除去するスピン洗浄装置において、一度除去されたゴミや塗膜を含む飛沫やミスト１５が再び洗浄面に付着することを防止する。 （もっと読む）

【課題】 基板洗浄装置の工程流れ方向に対するコンパクト化を図りつつ、基板の支持を確実化させると共に、基板のエッジ部分の異物残存を回避し、製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】 基板２を移送しつつ、スクラビング洗浄工程、リンス洗浄工程、および乾燥工程を順次実行する基板洗浄装置１において、スクラビング洗浄工程を実行する第一の槽４と、リンス洗浄工程および乾燥工程を実行する第二の槽５とを備える。そして、第二の槽５に、基板２を垂直姿勢に保持してスピンリンス洗浄およびスピン乾燥を行うための単一のスピン部５８を配備する。 （もっと読む）

【課題】 高圧水を用いることなく、高圧水と同等の洗浄能力を有する洗浄装置及びその洗浄装置を組み込んだ切削装置を提供する。
【解決手段】 ダイシング装置等の切削装置にノズル手段を配設し、被加工物の切削時にこのノズル手段にエアー供給手段から２．７ｋｇｆ／ｃｍ² 以上のエアーを供給すると共に、洗浄水供給手段から市水程度の圧力の水を供給し、これらを合流させてノズル手段から洗浄水を噴射する。ノズル手段の絞り部の直径は０．５ｍｍ〜３．０ｍｍであり、好ましくは１．４ｍｍとする。ノズル手段は、被加工物が切削ブレードにより切削された領域を洗浄するように、ブレードカバーに隣接してブレードの回転中心近傍に配設し、洗浄水が被加工物に対して垂直に噴射されるようにする。 （もっと読む）