【課題】 従来のアルカリ洗浄剤はアルミなどの非鉄金属を容易に腐蝕させることから、アルミが部品の少なくとも一部に使用されている電子部品等の洗浄には使用できなかったため、アルミ非腐蝕性に優れたアルカリ洗浄剤を提供する。
【解決手段】 有機アルカリ（Ａ）、水、並びに分子量３２〜数平均分子量５００のモノオール（Ｂ１）、分子量６２〜数平均分子量２５０のジオール（Ｂ２）、分子量９２〜数平均分子量４００の３〜９価のポリオール（Ｂ３）、および（Ｂ１）もしくは（Ｂ３）のアルキルエーテル（Ｂ４）からなる群から選ばれる１種または２種以上の親水性有機溶剤（Ｂ）を含有し、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の含有率が１，０００ｐｐｍ以下であるアルカリ洗浄剤。 （もっと読む）

本発明の表面処理方法は、常温常圧で液体の物質をイオン化して形成したイオンビームを基材表面に照射することを特徴とする。本発明の表面処理装置は、常温及び常圧で液体の物質のクラスターを生成するための真空容器であるソースチャンバ（１）、ソースチャンバ（１）で生成されたクラスターを小さい開口を有するスキマー（１０）を通過させて細いビーム状にするための真空容器である差動排気チャンバー（２）、形成されたクラスタビームをイオン化し、質量分離によって構成分子数が選別されたクラスターイオンビームを基板表面に照射するための真空容器であるターゲットチャンバー（３）を基本構成とする。
（もっと読む）

【課題】 例えばベルトコンベアにより連続的に搬送される被処理物より、効率よく被覆膜を除去することができる被覆膜の除去装置を提供すること。
【解決手段】 被処理物１はベルトコンベア２に載置されてよって搬送され、複数組の回転型ノズルヘッド１２からの高圧水の吐出を受ける。これによって、被処理物１の表面に被覆された樹脂フィルムが剥離される。樹脂フィルムが剥離された被処理物１の基板面は、洗浄ノズル１４からの洗浄水を受けて洗浄され、続いて乾燥用エアーノズル１６からの加圧空気を受けて乾燥される。前記回転型ノズルヘッド１２は、前記コンベア２の幅方向において、それぞれ異なる位置に配置されている。この構成により、各ノズルヘッド１２に備えられた各ノズルより、被処理物１の全面に対してほぼ均等に高圧水を噴射することができ、被処理物１の表面における被覆膜を効果的に剥離させることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は半導体基板等の微細構造体からレジストのような残留物を除去するための組成物を提供することにある。
【解決手段】 微細構造体から残留物を除去するための組成物であって、二酸化炭素と、化学式ＮＲ¹Ｒ²Ｒ³Ｒ⁴Ｆ（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立して水素またはアルキル基を示す。）で示されるフッ化物を含む残留物除去用添加剤と、高圧下で液体状になっている前記二酸化炭素に前記添加剤を溶解させるための相溶化剤とを含むことを特徴とする残留物除去用組成物である。 （もっと読む）

【課題】１度のエアナイフで洗浄後の基板表面の洗浄水を、複数の基板を載置するパレット上の形状に関わらず、確実かつ完全に除去することができる基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】複数の基板をパレットに載置して該複数の基板表面を洗浄液により洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程後に、前記複数の基板の表面及び前記パレットの表面に、前記洗浄液よりも表面張力の低い溶剤を塗布して、前記複数の基板の表面及び前記パレットの表面を前記溶剤で一様に覆う溶剤塗布工程と、気体吹き出し手段を用いて前記溶剤が混入した前記洗浄液を前記複数の基板表面及び前記パレットの表面から除去して前記基板表面を乾燥する乾燥工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 吸着マットを使用するために、高圧で気体を供給しなければならず、吸着マットは耐薬品性の問題があり、吸着マットはある程度使用すると廃棄しなければならず、ケース内の保守が必要となるという問題がある。
【解決手段】 ケース８の内部に捕集振動管９が装着され、ケース８の上部に排気管１０が装着され、ケース８の下部を通して、供給管１１の一端が捕集振動管９の中心に挿入するように装着され、供給管１１の他端に気体供給装置１２が接続され、捕集振動管９の側部に振動伝達板１３の一端が固着され、他端はランジュバン型振動子１４の結合ホーン１４ａとダミーホーン１５の間に装着され、ランジュバン型振動子１４は結合ホーン１４ａと金属ブロック１４ｂの間に圧電体振動子１６が挟持されるように構成され、圧電体振動子１６に発振器１７が接続され、ケース８の下部に廃液管１８が接続され、廃液管１８に廃液装置１９が接続されている。 （もっと読む）

【課題】 磁性研磨スラリーを用いた局所研磨を基板に施しても、磁性研磨スラリーの残留による凸欠陥や、次工程への磁性研磨スラリーの持込みによる凹欠陥の発生を防止する。
【解決手段】 鉄を含む磁性流体２１中に研磨砥粒を含有させた磁性研磨スラリー２を用いて、マスクブランクス用基板１の表面を研磨した後、塩酸を含む洗浄液６を用いて、マスクブランクス用基板１の表面を洗浄する方法としてある。 （もっと読む）

【課題】 マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク１０を所定の洗浄液により洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、当該洗浄槽２１，２２の洗浄液を真空蒸留する真空蒸留器３０と、真空蒸留された洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器３１と、第１の冷却器３１により冷却された洗浄液を第２の洗浄槽２２に還流させる第１の還流管１０１と、マスク１０を所定のリンス液によりリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２と、当該リンス槽５１，５２のリンス液を常圧下で蒸留する常圧蒸留器６０と、常圧蒸留されたリンス液を室温に冷却する第２の冷却器６１と、第２の冷却器６１により冷却されたリンス液を第２のリンス槽５２に還流させる第２の還流管１０２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物上に洗浄液の被膜が形成されることを防止するとともに、被洗浄物上への洗浄液及び異物の逆流をも防止可能とした洗浄方法を提供すること。
【解決手段】被洗浄物に対して連続して洗浄液を吹き付ける洗浄方法において、流速１４〜１７ｍ／ｓｅｃにおいて高圧の洗浄液を連続して被洗浄物に吹き付けるとともに、この連続して吹き付けている洗浄液を２０〜５０ｃ／ｓｅｃの周期で流速１００〜１２０ｍ／ｓｅｃまで上昇させ、洗浄液に強弱を加えることを特徴としている。従って、本発明では、洗浄液に強弱を加えることによって被洗浄液に吹き付けられた洗浄液を吹き飛ばすために被洗浄物上に洗浄液の被膜が形成されることがなく、また、非洗浄物に対して連続して洗浄液を吹き付けているために被洗浄物に打ち当てられた洗浄液を常に除去した異物等とともに被洗浄物上から流すことができ被洗浄物上への逆流を防止可能である。 （もっと読む）

【課題】液体ＣＯ_２の消費量を抑えつつ基板を搬送しながら基板全体を均一に洗浄する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、ローラ２１にて基板９を搬送方向２２に搬送する搬送機構２、洗浄部４、ＣＯ_２供給源６１およびＮ_２供給源６２を備える。洗浄部４は洗浄部カバー４１に覆われ、洗浄部カバー４１内には搬送方向２２に垂直な方向に２列に配列された複数のノズル４２が設けられる。ノズル４２の各列は搬送方向に垂直な方向に基板９全体に亘って揺動する。各ノズル４２はＣＯ_２供給源６１およびＮ_２供給源６２から液体ＣＯ_２およびＮ_２ガスが供給される二流体ノズルとなっており、これらの流体のノズル４２内の流路への供給量が他のノズルから独立して予め調整されている。各ノズル４２から液体ＣＯ_２とＮ_２ガスとが混合されつつ搬送途上の基板９に噴射されることにより、ＣＯ_２の消費量を抑えつつ基板９全体を均一に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】小型で、しかも安価でありながら、汎用性に優れた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理部ＰＳでは、それぞれが互いに異なる現像処理を施す２つの現像処理ユニット１０Ａ、１０Ｂと、現像処理された基板に超臨界乾燥処理を施す超臨界乾燥処理ユニット２０と、これらの処理ユニット１０Ａ、１０Ｂ、２０に取り囲まれるように配置された主搬送ロボット３０とが設けられている。この主搬送ロボット３０は未処理基板Ｗを受け取ると、該基板Ｗに形成されているレジスト膜の膜材料に対応する現像処理ユニットに基板Ｗを搬送する。そして、現像処理が完了すると、いずれの現像処理ユニット１０Ａ、１０Ｂで現像処理されたのかを問わず、主搬送ロボット３０は現像処理を受けた基板Ｗを超臨界乾燥処理ユニット２０にウェット搬送する。 （もっと読む）