【課題】レジスト被膜の除去性を低下させないで、長期間に渡る剥離液の繰返し再使用が可能であるばかりか、導電性高分子の表面抵抗や導電性高分子と基材との密着性も悪化さず、さらに、経済性や安全性にも優れており、廃棄物が少なくできるため環境にも悪影響を及ぼさない導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去方法を提供。
【解決手段】レジスト被膜を除去後の剥離液を、細孔径２〜５ｎｍであって、分画分子量が１０００〜４０００のセラミックフィルターを用いて膜濾過することにより、レジスト被膜を該剥離液から取り除き、導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去に再使用する。 （もっと読む）

【課題】液晶パネルを高い清浄度で洗浄することができ、かつ、環境への負荷を低減すること。
【解決手段】一般式（Ｉ）［式中、Ｒは炭素数１２〜２２の炭化水素基を表す。ｐおよびｑはそれぞれ独立に０以上の整数を示し、かつ、エチレンオキシドの平均付加モル数（ｐ＋ｑの平均）は１〜４である。］で表されるポリオキシエチレンアミンを０．１〜３質量％含有することを特徴とする洗浄剤組成物、および当該洗浄剤組成物を用いることを特徴とする液晶パネルの洗浄方法。
［化１］
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【課題】被洗浄体Ｗの表面を損傷することなく、環境の汚染を可及的に抑えて表面にこびり付いた汚染物質を洗浄できる超音波洗浄装置を提供すること。
【解決手段】一端に縦振動モードの超音波振動子１が固定されたホーン２の他端に被洗浄体の硬度と略同一な粉末を研磨剤とする研磨板３が固定され、ホーン３の少なくも研磨板近傍にはホーン２の振動を阻害せずかつ水密性を維持する筒状体４が研磨板３を被洗浄物の表面に当接できるように配置され、筒状体４に液を供給する手段が接続されている。 （もっと読む）

【課題】大型ガラス基板の洗浄後の乾燥工程において、基板の搬送スピードが向上し、メンテナンス性に優れ、生産性の向上を図ることが可能な乾燥装置を提供する。
【解決手段】温水シャワーノズル２２とエアーナイフ２０とを有し、温水シャワーノズル２２から噴出される温水３４と、次にエアーナイフ２０から噴射される圧縮エアーとにより洗浄後のガラス基板３２を乾燥する。さらに温風ノズル２４を有し、温風ノズル２４は、エアーナイフ２０の圧縮エアー噴射に続いて、温風を噴出する。 （もっと読む）

【課題】連続的に成形される成形品の生産速度に追従しながら箔バリを簡単且つ確実に除去することができる超音波洗浄用治具を提供する。
【解決手段】格子状の樹脂製フレーム２を有しその底面がネット４で覆われている第一フレーム１と、格子状の樹脂製フレームを有しその上面がネットで覆われており、各ネットが外側に位置するように第一フレーム上に積層される第二フレームとを備え、第一および第二フレームの各枡目が箔バリ付きの成形品を収容するための収容部Ａを構成し、積層される第一フレームと第二フレームの間に所定の間隙を形成するスペーサ部が、第一および第二フレームの対向面のいずれか一方の面に設けられ、成形品Ｂが間隙を通過することを防止するとともに、第一フレームと第二フレームが積層された際に嵌合して両フレームを固定する嵌合部が、第一および第二フレームの対向面に設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一辺が１ｍを超える大型ガラス基板の加工後の洗浄において、大型ガラス基板の各洗浄、乾燥工程間の搬送経路が短く、広い設置スペースを必要としないコンパクトな構成の大型基板洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】薬液用スプレーノズル３１と、該ノズルの上部に配置され、上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツールを１つ以上３２、３３有し、且つ、１つ以上の上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツール３３の最上部に配置された対向する一対のシャワーノズル３４と、該ノズルの上部に配置された対向する一対のジェットノズル３５とを有する洗浄部３０と、洗浄部３０の上方に配置された対向する一対のエアーナイフ４１を具備する乾燥部４０と、大型基板９０を直立させて保持する基板保持搬送治具５０と、洗浄部３０の下方に配置された投入払出部６０とを有する。 （もっと読む）

【課題】微細な回路が形成されたテープ状物やスペーサテープに付着した異物を洗浄除去するために好適に用いられる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄体の移動経路上で被洗浄体を洗浄する洗浄装置であって、被洗浄体を移動させる被洗浄体搬送手段、先端に設けた水供給ノズルから水を噴出して被洗浄体の表面に水膜を形成させる水供給手段、及び、先端に設けた過熱水蒸気供給ノズルから水膜の温度よりも高い温度の過熱水蒸気を噴出して水膜に当てる加熱水蒸気供給手段を備える洗浄装置。 （もっと読む）

処理システムが、基板の底面を露出させるように、それぞれが基板を支持するように構成された複数のチャックと、連続的な経路に沿って複数のチャックを案内するように構成されたトラックと、トラックがそれぞれのチャックを処理装置上で案内するとき、各基板の底面を処理するように構成され、トラックがそれぞれのチャックを処理装置上で案内するとき、各基板の底面に接触するように配置された流体メニスカスを含む処理装置とを含む。
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【課題】鉛フリー半田用フラックスや高融点半田用フラックス等を洗浄する際であっても、優れた洗浄性を示すとともに、次工程におけるアルコール系溶剤を使用したリンスにおいても優れたリンス特性を示すことができる半田フラックス除去用洗浄剤および半田フラックスの洗浄方法を提供する。
【解決手段】 全体量に対して、グリコール化合物の含有量が１重量％未満の場合であって、ベンジルアルコールの含有量を７０〜９９．９重量％、およびアミノアルコールの含有量を０．１〜３０重量％とした半田フラックス除去用洗浄剤を構成し、それを鉛フリー半田用フラックスや高融点半田用フラックス等の洗浄に使用する。 （もっと読む）

【課題】混合槽で生成される処理液の混合比率を一定に保つ。
【解決手段】まず排出弁２３，２４，２５を開弁し、供給弁２６〜３１を閉弁して、原料液体Ａ，Ｂ，Ｃを排出弁２３，２４，２５から外部に排出する。その後、ＬＦＣ２０，２１，２２が検出する原料液体Ａ，Ｂ，Ｃの流量が全て所定の流量に達した後に、排出弁２３，２４，２５を閉弁し、供給弁１７，２９，３１を開弁して、供給弁１７，２９，３１を通して原料液体Ａ，Ｂ，Ｃを第２の混合槽３に供給する。 （もっと読む）

【課題】高圧で洗浄を行なう必要がなく、異物が混入しても詰まるようなことなく、気泡の発生を防止して高い洗浄効果で洗浄を行なうことができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】液体を圧送する加圧部１。液体に気体を注入する気体注入部２。気体を注入された液体が加圧部１で圧送されることによる加圧で液体に気体を溶解させる加圧溶解部３。加圧溶解部３で気体を溶解させた気体溶解液の圧力を、気体溶解液の流入側から流出側に向かって順次大気圧まで減圧する減圧部４（加圧溶解部３から気体溶解液を送り出す流路６に設けられた複数の圧力調整弁７で構成）。減圧部４で減圧された気体溶解液を吐出する吐出部１２。これらを備え、加圧部１、気体注入部２、加圧溶解部３の各部を連続的に運転させて、減圧部４に気体溶解液を連続的に供給し、吐出部１２から気泡の発生のない気体溶解液を連続的に吐出させるようにする。 （もっと読む）

【課題】オゾン層破壊の心配がなく、安定であって、優れた材料適合性と、優れた溶解性能と洗浄性能及び洗浄仕上がり性を有し、しかも発火の心配のない共沸混合物組成物、共沸混合物様組成物、該組成物を用いる洗浄用溶剤及び塗布用溶剤を提供する。
【解決手段】８５〜９５重量％の１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンおよび５〜１５重量％の１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロ−３−メトキシ−４−（トリフルオロメチル）−ペンタンを含むことを特徴とする共沸混合物組成物または共沸混合物様組成物、該組成物からなる洗浄用溶剤及び塗布用溶剤。 （もっと読む）

【課題】小さなスペースであってもワークを十分に効率よく洗浄すること。
【解決手段】両端に配置された上下一対の端ロール１ａ，１ｂと、端ロール１ａ，１ｂ間に配置された上下一対の中間ロール２と、ワークＷに洗浄油を吹付けるための洗浄ノズル４ａ，４ｂと、ワークＷに付着したゴミを除去するブラシ３と、を備え、端ロール１ａ，１ｂ及び中間ロール２がそれぞれ回転することによりワークＷが搬送され、端ロール１ａ，１ｂの回転速度を一定とし、端ロール１ａ，１ｂ及び中間ロール２が同時にワークＷを搬送するときの中間ロール２の回転速度を端ロール１ａ，１ｂと同じとし、中間ロール２のみがワークＷを搬送するときの中間ロール２の回転速度を端ロール１ａ，１ｂの回転速度よりも遅くする。 （もっと読む）

【課題】比較的長期間使用することができるとともに、超音波照射器が洗浄液に超音波を照射した際に一時的に低下したガスの溶存濃度を早急に超音波照射前のガスの溶存濃度まで回復させることができ、洗浄液に浸漬された被処理基板を安定して洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１０は、洗浄液を貯留する洗浄槽１２と、洗浄槽１２内に貯留された洗浄液に超音波を照射する超音波照射器３０と、を備えている。また、洗浄槽１２内には、当該洗浄槽１２内に貯留された洗浄液にガスを供給することによりこの洗浄液に気泡を発生させる気泡発生器６１が設けられている。気泡発生器６１は、表面が親水化処理された樹脂部材から構成されている。 （もっと読む）

【課題】メタルマスク版などの被洗浄物を少量の洗浄液で短時間に洗浄でき、また、洗浄を行った後、そのままの位置で短時間に乾燥を行うことができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波洗浄ユニット３０は、メタルマスク版Ｍの洗浄面に略平行に間隙を存して対向配置され且つ超音波振動子３２が取り付けられた振動板３１を有する振動部３３と、振動板３１とメタルマスク版Ｍの洗浄面との間隙に洗浄液を供給する洗浄媒体供給部３４と、振動部３３の下方に配置され、メタルマスク版Ｍの洗浄面に付着した洗浄液を吸引除去する吸引除去部３７とを有している。 （もっと読む）

【課題】リップルのない高圧流水発生によってより均一で高度な洗浄要求に応えることが可能な水圧制御方法を提供すること。
【解決手段】昇圧ポンプＡ１と該昇圧ポンプＡ１を駆動するモータＡ２、及び出力水圧をモニタリングする水圧センサＡ４などで構成した高圧水発生機構を用いて、水を使用する洗浄装置などに利用する高水圧流水を発生させる方式に於いて、出力すべき設定圧力と出力水圧センサ値とを比較し、比較結果をローパス出力とハイパス出力に分別し、かつそれぞれの出力にゲインをかけ、両出力を駆動モータＡ２にフィードバックするとともに、前記ゲインをかけた出力で流量制御機構Ｄ１を動作させ流量制御機構Ｄ１から排水するダミー水流量を調整し、これにより希望する高水圧流水を自由に出力可能にするとともに、水の使用効率を最大限にすることを可能とした。 （もっと読む）

【課題】 ハンガーネットにおいて、見た目をやさしくし、保管や輸送に便利にする。また、壁面の入隅部又は出隅部に取り付け可能にする。
【解決手段】 網１は、繊維紐２又は繊維糸を網状に配列してそれらの交差部を結合した繊維網にし、折り曲げ、折り畳みや湾曲を可能にし、繊維網にその上端に沿って横棒６を取り付け、横棒に繊維網を吊り下げ、横棒を壁面に取り付け可能にし、繊維網の目に釣り鉤を介して又は介せずに物品を掛ける構成にしている。また、横棒６、６ａ、６ｂ、６ｃは、複数本に分割可能にし、横棒の分割した位置で横棒と繊維網を壁面の入隅部又は出隅部に合わせて折り曲げ可能にして、壁面の入隅部又は出隅部に取り付け可能にしている。 （もっと読む）

【課題】被洗浄基板、例えばフォトマスク基板、フォトマスクブランク、フォトマスクあるいはそれらの製造中間体等を洗浄した場合に、微小異物（パーティクル）の発生を極めて少なくすることができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄液中の異物を除去する異物除去工程を含み、異物を除去した洗浄液を被洗浄基板に供給して洗浄する洗浄方法であって、少なくとも、前記洗浄液をフィルタで濾過して洗浄液中の異物を除去する前記異物除去工程において、併せて洗浄液中の気泡を除去し、前記気泡の除去および異物の除去を行った洗浄液を被洗浄基板に供給して洗浄することを特徴とする洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム板表面をエッチングすることなく、しかも確実かつ簡便・安全にアルミニウム板を洗浄する方法を提供すること。
【解決手段】アルミニウム板叉はアルミニウム合金板の表面を水溶液で洗浄処理する工程を含むアルミニウム板又はアルミニウム合金板の洗浄方法であって、前記水溶液は、０．０２〜１０重量％の烏龍茶抽出物、０．００２〜１０重量％の緑茶抽出物及び０．００５ｍｏｌ／リットル以上のキレート剤を含むものであり、前記烏龍茶抽出物の含有量ｘと前記緑茶抽出物含有量ｙの重量比ｘ／ｙが０．０８〜２５の範囲であり、前記水溶液で洗浄処理した後、電気伝導度が２００μＳ／ｃｍ以下、温度８０℃以下の水でリンスする工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】異物の形状にバラツキがあっても、一つのブラシで異物を除去し、且つ、除去された異物を容易にブラシから遊離する基板洗浄ブラシを提供する。
【解決手段】基板洗浄ブラシ１００の洗浄ブラシの毛２０は、植毛される植毛面３０に対し、所定の角度で傾斜して植毛され、基板洗浄ブラシ１００は、洗浄ブラシの毛の毛先の部分が被洗浄基板の基板面３０に接触し、且つ、被洗浄基板３５が搬送される方向を示す第１の方向線と、所定の角度で植毛された洗浄ブラシの毛２０の植毛の方向を示す第２の方向線とが鋭角α２となるよう超音波基板洗浄装置２００に装着される。 （もっと読む）