【課題】異物の形状にバラツキがあっても、一つのブラシで異物を除去し、且つ、除去された異物を容易にブラシから遊離する基板洗浄ブラシを提供する。
【解決手段】基板洗浄ブラシ１００の洗浄ブラシの毛２０は、植毛される植毛面３０に対し、所定の角度で傾斜して植毛され、基板洗浄ブラシ１００は、洗浄ブラシの毛の毛先の部分が被洗浄基板の基板面３０に接触し、且つ、被洗浄基板３５が搬送される方向を示す第１の方向線と、所定の角度で植毛された洗浄ブラシの毛２０の植毛の方向を示す第２の方向線とが鋭角α２となるよう超音波基板洗浄装置２００に装着される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用途に使用することもできる、水晶のような基材表面の前処理ステップにおいて使用する、様々なｐＨ領域と伝導度を持つアルカリ性ベースの組成物を用いる方法を提供する。
【解決手段】ＮＨ_４ＯＨ：Ｈ_２Ｏ_２：Ｈ_２Ｏが、容積比で１：２：２００〜１：１：１００となる希釈比で、水酸化アンモニウム、過酸化水素及び脱イオン水を含有する、ｐＨが８〜１２の_ｕｄＳＣ１組成物を用いて基材表面を処理し、次いで、ノニオン系洗浄剤と脱イオン水を容積比で１〜１００となる希釈比で含有し、ｐＨが８〜１１のノニオン系洗浄剤組成物を用いて前記基材の表面を処理する基材表面の洗浄方法。前記_ｕｄＳＣ１のｐＨが、前記ノニオン系洗浄剤組成物のｐＨより高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所定の角度で傾斜して搬送される基板が背面を支持した支持ローラから浮き上がるのを防止した基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理液によって処理する基板の処理装置であって、
チャンバ３と、チャンバ内に設けられ基板の傾斜方向下側の背面を支持する支持ローラ１４と、背面が支持ローラによって支持された基板の下端を外周面によって支持し回転駆動されて基板を所定方向に搬送する駆動ローラ１７と、基板の傾斜方向上側の前面に処理液を噴射するノズル体６２と、搬送される基板の背面に対向するチャンバの後壁内面に設けられノズル体から噴射されてチャンバの後壁内面に衝突して反射した処理液が基板の背面に当たるのを防止する液戻り防止部材６５を具備する。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置で発生した洗浄廃水を洗浄水として再利用できるようにするにあたって、殺菌が不充分な洗浄廃水が洗浄水として供給されてしまうおそれが少なく、膜濾過装置の濾過能力の早期低下も防止できるようにする。
【解決手段】未使用の食品充填用容器１を洗浄水２で洗浄する洗浄装置３と、洗浄装置に洗浄水を供給する洗浄水供給装置４とを設けてある食品充填用容器洗浄設備であって、洗浄水供給装置に、洗浄装置で発生した洗浄廃水７を貯留する廃水受槽９と、廃水受槽から取り出した洗浄廃水に殺菌用薬剤を添加する薬剤添加装置１６と、薬剤添加装置で殺菌用薬剤が添加された洗浄廃水を膜濾過する膜濾過装置１１とを設けて、膜濾過装置で膜濾過された洗浄廃水を洗浄装置に洗浄水として供給可能に構成してある。 （もっと読む）

【課題】高品質のエピタキシャル膜を安定して成長できるＧａ_xＩｎ_1-xＮ基板とこのＧａ_xＩｎ_1-xＮ基板を得るための洗浄方法を提供する。
【解決手段】Ｇａ_xＩｎ_1-xＮ基板の表面上に存在する粒径０．２μｍ以上のパーティクルの数がＧａ_xＩｎ_1-xＮ基板の口径を２インチとしたときに２０個以下であるＧａ_xＩｎ_1-xＮ基板である。また、検出角度１０°でのＸ線光電子分光法によるＧａ_xＩｎ_1-xＮ基板の表面の光電子スペクトルにおいて、Ｃ_1s電子とＮ_1s電子のピーク面積の比（Ｃ_1s電子のピーク面積／Ｎ_1s電子のピーク面積）が３以下であるＧａ_xＩｎ_1-xＮ基板である。 （もっと読む）

開示されているのは、プレート状物体の湿式処理用装置であり、以下のように構成されている：第一プレート、前記第一プレートと実質的に平行な単一のプレート状物体を保持するための保持手段、処理時に前記第一プレートとプレート状物体の間の第一ギャップに液体を導入するための第一分配手段、この場合、第一プレートは少なくとも９９重量％のシリコンから成っているシリコン・プレート、そのプレート状の物体を処理している時に、そのシリコン・プレートが処理液と接触していること、それに関連した方法がさらに開示されている。
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【課題】薬品を使用せずに、基板に付着した有機物を効率よく確実に除去することができる洗浄処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を搬送する搬送手段１と、搬送される基板の有機物が付着した板面に加熱された水蒸気を噴射する水蒸気噴射ノズル１と、搬送される基板に付着した有機物に物理力を付与するシャワー装置６とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 洗浄能力が高く、かつ均一な音場を持つノズルまたはシャワー式の超音波洗浄器を提供すること。
【解決手段】 外径６ｍｍ、内径４ｍｍのステンレス製の円管の上部を研磨して、平坦部を設ける。そして、その平坦部に圧電素子３である圧電セラミックを、エポキシ樹脂を用いて接合する。圧電セラミック中の矢印は分極方向を示している。また、図示はしないが、分極方向に垂直な２面に銀電極を設けている。次にこのステンレス製の円管に純水を流し、超音波発振回路より所望の周波数の電圧を圧電素子に印加する。ステンレス製の円管のスリットからシャワー状の超音波振動が印加された純水が図示しない被洗浄物に接し、超音波洗浄が行われる。 （もっと読む）

【課題】 レジスト剥離処理後にシード層の上に残渣物が残っている場合はシード層をエッチングする工程にて所定領域のシード層が除去されずパターン回路が相互に短絡する。また隣接するパターンの間隔が狭くなる等の欠陥となる。
【解決手段】 パターンの形成方法において、下地金属層上にパターンに対応したレジスト層を形成し、該パターンにメッキにより導体回路を設け、前記レジスト層をアルカリ性のレジスト剥離液により剥離し、剥離した後に残る残渣物である2 、2'- ビス(o- クロロフェニル)-4 、4'、 5、5'- テトラフェニル-1、2'- ビイミダゾールを酢酸 、クエン酸、蟻酸、乳酸の内の少なくとも１つを含む有機酸とベンゾトリアゾール、2-エチルベンゾイミダゾール、3-ヒドロキシ-2- ピロンの内の少なくとも１つとを含む含窒素化合物を含有する除去液で前記残渣物を除去する工程を有することを特徴とするパターンの形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】蒸気洗浄装置により被洗浄物を蒸気洗浄する際の設定条件を簡単且つ適切に設定できる蒸気洗浄条件の設定方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る蒸気洗浄条件の設定方法は、基板を準備し、蒸気洗浄装置から吐き出される洗浄用蒸気が吹きかかるように、基板を配置し（ＳＴ２０１）、測定用基板を準備し、蒸気洗浄装置から吐き出される洗浄用蒸気が吹きかからないように、基板から離間して、測定用基板を配置し（ＳＴ２０２）、基板および測定用基板の間を電気的に接続し（ＳＴ２０３）、蒸気洗浄装置により基板に洗浄用蒸気を吹きかけ（ＳＴ２０４）、測定用基板の表面電位を測定する（ＳＴ２０５）。そして、測定用基板の表面電位の測定値に基づいて、例えば洗浄用蒸気の吐出口に取り付けられるノズルの開口径や貫通穴長など、基板を蒸気洗浄する際の設定条件を設定する（ＳＴ２０６）。 （もっと読む）

【課題】 従来の超音波洗浄装置の棒状ホーンでは、傾斜面に発生する超音波が不均一であるので、微細パターンの被洗浄物にダメージが発生するという問題がある。
【解決手段】 棒状ホーン７の一端に膨大部７ａが構成され、この膨大部７ａに、短冊状の複数個の圧電体振動子８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄが装着され、この膨大部７ａと棒状ホーン７の接続部７ｂから僅かに直線部７ｃが形成され、この棒状ホーン７の焦点位置より遠い位置で、この棒状ホーン７の一端が斜めに切断されて、傾斜面７ｂが形成されている。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象物の大きさや形状等に対応させて装置を作り替える必要がなく、低コストで確実に洗浄することができる洗浄装置及びそれを用いた表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄装置１０は、各々が略水平方向に延びるローラ軸３４とローラ軸３４に軸支されたローラ本体３５とを備えると共に上下に併設され、液晶表示パネル６０を上側及び下側から挟んで搬送する上側及び下側ローラ３２，３３からなるローラ対３１が複数設けられた搬送ユニット３０と、搬送ユニット３０で搬送される液晶表示パネル６０の表面を洗浄する洗浄ユニット４０と、を備える。 （もっと読む）

【解決手段】基板の表面の処理に使用される溶液を作成する方法を提供する。方法は、連続媒体を提供する工程を含み、連続媒体には重合体材料が追加される。重合体材料を有する連続媒体に脂肪酸が追加され、重合体材料は、脂肪酸が受ける浮力を克服する力を溶液中に及ぼす物理ネットワークを定め、これにより、付加された攪拌が重合体材料の降伏応力を上回るまで、脂肪酸が溶液中で移動するのを防止する。付加された攪拌は、溶液を容器から、基板の表面に溶液を付与する処理ステーションへ輸送することによるものである。 （もっと読む）

残渣を表面から除去する方法であって、表面を、式Ｅ−またはＺ−Ｒ^１ＣＨ＝ＣＨＲ^２を有する化合物（式中、Ｒ^１およびＲ^２は独立に、Ｃ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基、またはＣ_１〜Ｃ_６ヒドロフルオロアルキル基である）からなる群から選択される少なくとも１つの不飽和フッ素化炭化水素を含む組成物と接触させるステップと、表面を組成物から回収するステップとを含む方法が開示されている。フッ素系潤滑剤を表面に被着させる方法、および少なくとも水の一部分を濡れた基板の表面から除去する方法において、フッ素化炭化水素は溶媒組成物としても使用される。 （もっと読む）

【課題】安全で環境負荷物質を使用しない洗浄液を用いて効率的に有機物質を除去することができ、被洗浄物に変色やダメージを与えずに、被洗浄物から有機物質を除去する洗浄方法および超音波洗浄用洗浄剤を提供する。
【解決手段】被洗浄物を電解質水溶液に接触させつつ超音波を印加することにより被洗浄物から有機物質を除去する。その電解質水溶液はイオン強度が0.0025ｍｏｌ／ｌ乃至1.0ｍｏｌ／ｌであって溶存酸素濃度が4ｍｇ／ｌ乃至飽和濃度の無機酸塩水溶液またはホウ酸水溶液から成る。印加する超音波の周波数は100乃至400ｋHzである。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクを介したフォトレジストの塗布膜への露光、現像処理によりカラーフィルタを構成するパターンを形成する際に、フォトマスクの異物や汚れに起因した、パターンの欠陥及び規格外のパターンの発生を回避するフォトマスクの交換頻度を減少させるフォトマスクの洗浄方法を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ用フォトマスクをアルカリ洗浄液を用いてウエット洗浄をし、その後、該カラーフィルタ用フォトマスクを紫外線を用いて光洗浄をすること。紫外線の主となる波長が１６５ｎｍ〜１７５ｎｍであること。 （もっと読む）

本発明の対象は、アルミニウム合金の帯材、板材、または成形部材の表面処理方法であって、大気プラズマを使った表面準備および、少なくともＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｍｏ、またはＶの各元素のうちの一つを利用する化学変換処理を含む、アルミニウム合金の帯材、板材、または成形部材の表面に化学変換膜を形成するための表面処理方法である。本発明による表面処理は、先行技術の変換処理より時間がかからずまた経済的であり、そして、自動車のボディのために利用され、また接着または溶接によって組み立てられることを目的とした、アルミニウム合金の帯材および板材にとりわけ適用される。
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【課題】 洗浄後の金属製ワークにおける錆の発生を従来よりも抑えることが可能な金属製ワークの洗浄システム、洗浄方法及び製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 本実施形態によれば、ＯＲＰが負の値となった酸化還元電位水により金属製ワークＷｋを洗浄することで、水道水を洗浄水として使用する従来の洗浄システム及び洗浄方法に比較して、洗浄後の金属製ワークＷｋにおける錆の発生を長期間に亘って抑制することができた。より具体的には、酸化還元電位水のＯＲＰを−５００ｍＶ以下及び／又は溶存水素量を１．０〜２．０ｐｐｍとし、ｐＨ７．０〜７．８とし、更に、ノズル２０２に供給される酸化還元電位水の水温を、３８度以下及び／又は、金属製ワークＷｋのうち酸化還元電位水が衝突している部分の温度を２８度以下とすることで、洗浄後の金属製ワークＷｋにおける錆の発生を、４日〜２５日間に亘って抑制することができた。 （もっと読む）

鉛フリー半田用フラックスや高融点半田用フラックス等を洗浄する際であっても、優れた洗浄性を示すとともに、次工程におけるアルコール系溶剤を使用したリンスにおいても優れたリンス特性を示すことができる半田フラックス除去用洗浄剤および半田フラックスの洗浄方法を提供する。 そのため、全体量に対して、グリコール化合物の含有量が１重量％未満の場合には、ベンジルアルコールの含有量を７０〜９９．９重量％の範囲およびアミノアルコールの含有量を０．１〜３０重量％の範囲とし、グリコール化合物の含有量が１〜４０重量％の場合には、ベンジルアルコールの含有量を１５〜９９重量％の範囲およびアミノアルコールの含有量を０．１〜３０重量％の範囲とした半田フラックス除去用洗浄剤を構成し、それを鉛フリー半田用フラックスや高融点半田用フラックス等の洗浄に使用する。
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【課題】スリットノズルが定盤上に載置・固定された基板の上方を片端から他端へ移動しながら基板上に塗布液を塗布するスリットコータにおいて、時間当たりの基板への塗布枚数を増加させるスリットコータを提供する。
【解決手段】基板を載置・固定する定盤が設けられたステージ１１の、スリットノズル１３の移動方向の両側端に塗布液の吐出調整機構を各１基具備すること。
スリットノズルの移動方向の片端の第一吐出調整機構３０Ａでは該片端から外側に向かってプレ塗布ユニット６０、洗浄ユニット５０、ディップ槽４０であり、また他端の第二吐出調整機構３０Ｂでは該他端から外側に向かってプレ塗布ユニット、洗浄ユニット、ディップ槽の設置順序である。 （もっと読む）