説明

基板洗浄ブラシ

【課題】異物の形状にバラツキがあっても、一つのブラシで異物を除去し、且つ、除去された異物を容易にブラシから遊離する基板洗浄ブラシを提供する。
【解決手段】基板洗浄ブラシ100の洗浄ブラシの毛20は、植毛される植毛面30に対し、所定の角度で傾斜して植毛され、基板洗浄ブラシ100は、洗浄ブラシの毛の毛先の部分が被洗浄基板の基板面30に接触し、且つ、被洗浄基板35が搬送される方向を示す第1の方向線と、所定の角度で植毛された洗浄ブラシの毛20の植毛の方向を示す第2の方向線とが鋭角α2となるよう超音波基板洗浄装置200に装着される。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、超音波基板洗浄装置の基板洗浄ブラシに係り、詳しくは、基板洗浄ブラシの植毛された毛の植毛構成に関する。
【背景技術】
【0002】
超音波基板洗浄装置は、洗浄ブラシを超音波振動させるのではなく、超音波を照射した洗浄液に被洗浄基板を浸漬させ、被洗浄基板に超音波振動を加えることにより、高周波スクラブ洗浄を可能とするものである。この方法によると、被洗浄基板の面と洗浄ブラシとが超音波振動により擦れるため、異物の除去効果が向上する特徴がある。ところが異物の形状によっては、一つの洗浄ブラシでは除去し難い、又は、除去されてもブラシから遊離せずいつまでもブラシに残る場合があった。特許文献1には、洗浄用ブラシのブラシ毛の本数が、基板の単位面積あたり15000本/cm2以上当たるようにすることにより、洗浄用ブラシの回転数を高くすることなく洗浄効果を高める、旨についての記載がある。
【特許文献1】特開2003−145060号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、異物の形状にバラツキがあっても、一つのブラシで異物を除去し、且つ、除去された異物を容易にブラシから遊離する基板洗浄ブラシを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0004】
本発明の基板洗浄ブラシは、超音波基板洗浄装置の基板洗浄ブラシであって、基板洗浄ブラシの洗浄ブラシの毛は、植毛される植毛面に対し、所定の角度で傾斜して植毛され、基板洗浄ブラシは、洗浄ブラシの毛の毛先の部分が被洗浄基板の基板面に接触し、且つ、被洗浄基板が搬送される方向を示す第1の方向線と、所定の角度で植毛された洗浄ブラシの毛の植毛の方向を示す第2の方向線とが鋭角となるよう超音波基板洗浄装置に装着されることを特徴とする。
【0005】
本発明の基板洗浄ブラシの所定の角度で植毛された洗浄ブラシの毛は、被洗浄基板が搬送される方向の上流側において植毛密度が高く、下流に向かって植毛密度が低く植毛されるか、又は、上流側において植毛密度が低く、下流に向かって植毛密度が高く植毛されることを特徴とする。
【0006】
本発明の基板洗浄ブラシの所定の角度で植毛された洗浄ブラシの毛は、被洗浄基板が搬送される方向の上流側において太い洗浄ブラシの毛が植毛され、下流に向かって細い洗浄ブラシの毛が植毛されるか、又は、上流側において細い洗浄ブラシの毛が植毛され、下流に向かって太い洗浄ブラシの毛が植毛されることを特徴とする。
【0007】
本発明の基板洗浄ブラシは、超音波基板洗浄装置の基板洗浄ブラシであって、基板洗浄ブラシの洗浄ブラシの毛は、植毛される円形の植毛面に対し、直角に植毛され、直角に植毛された洗浄ブラシの毛は、円形の中心部において植毛密度が高く、円周部に向かって植毛密度が低く植毛され、基板洗浄ブラシは、洗浄ブラシの毛の毛先の部分が被洗浄基板の基板面に接触し、且つ、回転運動を行うよう超音波基板洗浄装置に装着されることを特徴とする。
【0008】
本発明の基板洗浄ブラシの直角に植毛された基板洗浄ブラシの毛は、円形の中心部において太い洗浄ブラシの毛が植毛され、円周部に向かって細い洗浄ブラシの毛が植毛されることを特徴とする。
【0009】
本発明の基板洗浄ブラシの直角に植毛された洗浄ブラシの毛の毛先は、曲線状に曲げられていることを特徴とする。
【0010】
本発明の基板洗浄ブラシは、植毛面に洗浄液供給口を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【0011】
本発明の基板洗浄ブラシによれば、異物の形状にバラツキがあっても、一つのブラシで異物を除去し、且つ、除去され対物を容易にブラシから遊離することができる。このためコンパクトで、メンテナンスの容易な、洗浄効果の高い超音波洗浄装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0012】
本発明による実施の形態について、図を用いて説明する。図1は、本発明の基板洗浄ブラシの第1の構成と、超音波基板洗浄装置への装着を示すブラシ構成及び装置装着図である。図1において、基板洗浄ブラシ100の洗浄ブラシの毛20は、植毛される植毛面10に対し、所定の角度α1で傾斜して植毛されている。
【0013】
また、基板洗浄ブラシ100は、被洗浄基板の基板面30に接触し、且つ、矢印で示される被洗浄基板35が搬送される方向を示す第1の方向線と、所定の角度α1で植毛された洗浄ブラシの毛20の植毛の方向を示す第2の方向線とが鋭角α2となるよう超音波基板洗浄装置200に装着され、装置として一体化している。さらに、基板洗浄ブラシ100は、植毛面10に洗浄液が供給される洗浄液供給口40を有している。
【0014】
これにより、洗浄ブラシの毛20が被洗浄基板の基板面30とα2の角度を保った状態で、全ての毛先の所定の部分を同方向に揃えて基板面30に接触させることができる。このため、超音波による上下振動に対し、毛先の接触部分が均一に保たれ、洗浄効果が上がる。また、洗浄液供給口40から供給される洗浄液により、除去された異物を容易に洗浄ブラシの毛20から遊離させることができる。α1とα2とはほぼ同角となるが、洗浄ブラシの毛20の特性、形状に応じて任意に設定することができる。
【0015】
超音波基板洗浄装置200の洗浄槽には超音波振動子が取り付けられており、洗浄槽の洗浄液は、この超音波振動子により超音波振動が与えられる。また洗浄液は、ポンプとフィルタを介し、ノズル及び洗浄液供給口40から被洗浄基板の基板面30上に噴射される。搬送ローラにより洗浄槽に搬送された被洗浄基板35は、洗浄液に接触して超音波振動を受けるため、基板面30と洗浄ブラシの毛20とが擦れ合い、噴射された洗浄液の洗浄効果を高めることができる。洗浄液の一部は、ポンプ、フィルタ及び洗浄槽を循環し、洗浄液の清浄度を一定に保っている。
【0016】
図2は、本願発明の基板洗浄ブラシの第2の構成を示す構成図である。図2において、所定の角度で植毛された洗浄ブラシの毛20は、矢印で示す被洗浄基板35が搬送される方向の上流側において植毛密度が高く、下流に向かって植毛密度が低く植毛されている。洗浄は、図1の場合と同様に行われるが、図2の場合は、異物の形状の小さいものから除去され、大きい異物は最後に除去される。また、上流側において植毛密度が低く、下流に向かって植毛密度が高く植毛された場合は、異物の形状の大きいものから除去され、小さい異物は最後に除去される。これにより、異物の形状のバラツキがある範囲内の異物に対し、より効果的に一つのブラシで異物を除去することができる。また図1と同様に、洗浄液供給口40から供給される洗浄液により、除去された異物を容易に洗浄ブラシの毛20から遊離させることができる。
【0017】
図3は、本願発明の基板洗浄ブラシの第3の構成を示す構成図である。図3において、所定の角度で植毛された洗浄ブラシの毛20は、矢印で示す被洗浄基板35が搬送される方向の上流側において太い毛が、下流に向かって細い毛が植毛されている。洗浄は、図2の場合と同様に、異物の形状の小さいものから除去され、大きい異物は最後に除去される。また、上流側において細い毛が、下流に向かって太い毛が植毛された場合は、異物の形状の大きいものから除去され、小さい異物は最後に除去される。また図2と同様に、洗浄液供給口40から供給される洗浄液により、除去された異物を容易に洗浄ブラシの毛20から遊離させることができ、異物の形状のバラツキがある範囲内の異物に対し、一つのブラシで異物を除去することができる。
【0018】
図4は、本願発明の基板洗浄ブラシの第4の構成を示す構成図である。図4において、洗浄ブラシの毛20は、植毛される円形の植毛面15に対し直角に、且つ、円形の中心部において植毛密度が高く、円周部に向かって植毛密度が低く植毛されている。基板洗浄ブラシ100は、洗浄ブラシの毛の毛先の部分が被洗浄基板の基板面30に接触し、且つ、回転運動を行うよう超音波基板洗浄装置200に装着される。洗浄は、被洗浄基板35の超音波振動に基板洗浄ブラシ100の回転が加わり、異物の形状の小さいものが中心部、形状の大きいものは円周部で主に除去される。除去された異物は、回転と共に洗浄液供給口40から供給される洗浄液により、容易に洗浄ブラシの毛20から遊離する。これにより、異物の形状のバラツキがある範囲内の異物に対し、一つのブラシで異物を除去することができる。
【0019】
図5は、本願発明の基板洗浄ブラシの第5の構成を示す構成図である。図5において、洗浄ブラシの毛20は、植毛される円形の植毛面15に対し直角に、且つ、円形の中心部において太い毛が、円周部に向かって細い毛が植毛されている。基板洗浄ブラシ100は、図4の場合と同様に洗浄ブラシの毛の毛先の部分が被洗浄基板の基板面30に接触し、且つ、回転運動を行うよう超音波基板洗浄装置200に装着される。洗浄においても図4の場合と同様に洗浄が行われ、異物の形状のバラツキがある範囲内の異物に対し、一つのブラシで異物を除去することができる。
【0020】
図6は、本願発明の基板洗浄ブラシの第6の構成を示す構成図である。図6において、図4、5において示された洗浄ブラシの毛20の毛先が、曲線状に曲げられている。この基板洗浄ブラシ100は、超音波基板洗浄装置200に装着され被洗浄基板の基板面30に接触する時、毛先の曲線部分が被洗浄基板の基板面30に接触する。洗浄においては、被洗浄基板35の超音波振動による上下振動が毛先の曲線部分に加わり、より効果的に横方向に基板面30を擦ることが可能となる。
【0021】
以上説明したように本発明の基板洗浄ブラシによれば、異物の形状にバラツキがあっても、一つのブラシで異物を除去し、且つ、除去され対物を容易にブラシから遊離することができる。このためコンパクトで、メンテナンスの容易な、洗浄効果の高い超音波洗浄装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】本発明の基板洗浄ブラシの第1のブラシ構成と装置装着図。
【図2】本願発明の基板洗浄ブラシの第2の構成を示す構成図。
【図3】本願発明の基板洗浄ブラシの第3の構成を示す構成図。
【図4】本願発明の基板洗浄ブラシの第4の構成を示す構成図。
【図5】本願発明の基板洗浄ブラシの第5の構成を示す構成図。
【図6】本願発明の基板洗浄ブラシの第6の構成を示す構成図。
【符号の説明】
【0023】
10 植毛面
15 円形の植毛面
20 洗浄ブラシの毛
30 被洗浄基板の基板面
35 被洗浄基板
40 洗浄液供給口
100 基板洗浄ブラシ
200 超音波基板洗浄装置
α1 植毛の角度
α2 第1、2の方向線のなす角度

【特許請求の範囲】
【請求項1】
超音波基板洗浄装置の基板洗浄ブラシであって、
前記基板洗浄ブラシの洗浄ブラシの毛は、植毛される植毛面に対し、所定の角度で傾斜して植毛され、
前記基板洗浄ブラシは、前記洗浄ブラシの毛の毛先の部分が被洗浄基板の基板面に接触し、且つ、前記被洗浄基板が搬送される方向を示す第1の方向線と、前記所定の角度で植毛された前記洗浄ブラシの毛の植毛の方向を示す第2の方向線とが鋭角となるよう前記超音波基板洗浄装置に装着されることを特徴とする基板洗浄ブラシ。
【請求項2】
前記所定の角度で植毛された前記洗浄ブラシの毛は、前記被洗浄基板が搬送される方向の上流側において植毛密度が高く、下流に向かって前記植毛密度が低く植毛されるか、又は、前記上流側において前記植毛密度が低く、前記下流に向かって前記植毛密度が高く植毛されることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄ブラシ。
【請求項3】
前記所定の角度で植毛された前記洗浄ブラシの毛は、前記被洗浄基板が搬送される方向の上流側において太い洗浄ブラシの毛が植毛され、下流に向かって細い洗浄ブラシの毛が植毛されるか、又は、前記上流側において細い洗浄ブラシの毛が植毛され、前記下流に向かって太い洗浄ブラシの毛が植毛されることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄ブラシ。
【請求項4】
超音波基板洗浄装置の基板洗浄ブラシであって、
前記基板洗浄ブラシの洗浄ブラシの毛は、植毛される円形の植毛面に対し、直角に植毛され、
前記直角に植毛された前記洗浄ブラシの毛は、前記円形の中心部において植毛密度が高く、円周部に向かって前記植毛密度が低く植毛され、
前記基板洗浄ブラシは、前記洗浄ブラシの毛の毛先の部分が被洗浄基板の基板面に接触し、且つ、回転運動を行うよう前記超音波基板洗浄装置に装着されることを特徴とする基板洗浄ブラシ。
【請求項5】
前記直角に植毛された前記洗浄ブラシの毛は、前記円形の中心部において太い洗浄ブラシの毛が植毛され、円周部に向かって細い洗浄ブラシの毛が植毛されることを特徴とする請求項4に記載の基板洗浄ブラシ。
【請求項6】
前記直角に植毛された前記洗浄ブラシの毛の毛先は、曲線状に曲げられていることを特徴とする請求項4又は5に記載の基板洗浄ブラシ。
【請求項7】
前記基板洗浄ブラシは、前記植毛面に洗浄液供給口を有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の基板洗浄ブラシ。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2008−212770(P2008−212770A)
【公開日】平成20年9月18日(2008.9.18)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−49513(P2007−49513)
【出願日】平成19年2月28日(2007.2.28)
【出願人】(000219004)島田理化工業株式会社 (205)
【Fターム(参考)】