【課題】固体表面に堆積したパーティクルを効率的に捕集し得るパーティクル捕集装置及び方法の提供。
【解決手段】略筒形状の筐体１２の内部空間に、略円柱形状の超音波発生器１４をＯリング８０を介在して収容し、筐体１２は一端部を有し、当該一端部において開口１２ｂされた空間Ｓを画成し、超音波発生器１４は該筐体１２の一端部に画成された開口１２ｂに向けて超音波を発生し、該空間Ｓにガスを供給するガス供給部、該空間Ｓの排気を行う吸引部を備えると共に、前記開口１２ｂを囲むように筐体１２の一端部に弾性を有するシール部材２０を設ける。 （もっと読む）

【課題】ノズル本体のノズル孔の内周面に付着した付着物を確実に除去できるようにする。
【解決手段】ノズル保持部３０により、ノズル本体５０の先端部を貯留槽２０内の液媒体に浸漬させ、ノズル本体５０の先端部が貯留槽２０の底面と所定の間隙を存して対向するようにノズル本体５０を保持する。そして、超音波振動子２１によってノズル本体５０を振動させている間に、吸引部４０によってノズル本体５０のノズル孔５０ａを介して液媒体を吸引する。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象である管の内壁面における洗浄ムラを防止することができる管内洗浄装置を提供する。
【解決手段】管１３の内部に挿入される挿入部１１と、挿入部１１の側面に取り付けられ、超音波振動Ｓを発生させる超音波振動子１２と、管１３の内壁面位置における超音波振動Ｓの大きさを調節する振動調節手段とを備える管内洗浄装置を提供する。具体的には、振動調節手段は、管１３の内壁面位置における超音波振動Ｓが予め設定された振幅となるように、管１３の内壁面と超音波振動子１２との間隔または超音波振動子１２の周波数を調節する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板保持手段１１に保持され、洗浄液としてのＤＩＷの液膜が形成された基板Ｗの表面Ｗｆに対し、媒介液供給機構５５から媒介液としてのトルエンを供給し、ＤＩＷの液膜の上にトルエンの液膜を更に形成する。その後、超音波付与機構５１によりトルエンを介してＤＩＷに超音波を付与しながら、凝固手段３１から基板表面Ｗｆに凍結用の窒素ガスを吐出し、ＤＩＷを凝固させる。これにより、結晶サイズの小さいＤＩＷの凝固体を形成し、その後のリンス工程で短時間に解凍することを可能とし、リンス液中に遊離するＤＩＷの結晶を減少し、パターンへのダメージを防止する。 （もっと読む）

【課題】液体を効果的に線条材表面から除去することにより、液体の蒸発に投入するエネルギーを低減すると共に、液体の蒸発に要する時間を短縮して線条材表面が変色する前に乾燥を完了させることを可能とする線条材の製造方法を提供する。
【解決手段】線条素材６ａを線条材６ｂに加工する機械加工工程と、機械加工工程の後段に設けられ線条材６ｂを洗浄する洗浄工程と、洗浄工程の後段に設けられ線条材６ｂに付着した洗浄液１４を除去する乾燥工程とを含む線条材の製造方法であって、洗浄工程は、線条材６ｂとマイクロバブル２３を含む洗浄液１４とが接触する工程を含み、乾燥工程は、線条材６ｂに気体を吹き付けて洗浄液１４の除去を行うガスブロー工程を含む方法である。 （もっと読む）

【課題】メディア撹拌型湿式粉砕機で使用するメディアを、短時間に洗浄し、メディアの粉砕を起こさないメディア洗浄機を提供する。
【解決手段】壁面の一部に篩面が形成されるとともに軸芯を中心として回転可能に形成された筒状のメディア容器２０と、内部に洗浄液を溜める洗浄槽３０とを備え、洗浄槽３０に溜めた洗浄液の液面と前記軸芯とが１５〜７０°の角度をなす状態で、篩面の一部を洗浄液に浸して回転する。超音波発振器５０を併用することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ロールからベアリングを取り外すことなく洗浄できるロール洗浄装置を提供する。
【解決手段】上面が開口して、左右一対のベアリング１６，１６を支持するベアリング支持部１７，１７が載置されると共に、水が入った外洗浄槽１８と、外洗浄槽１８の水に浸され、かつ、上面が開口してロール１２の下部が浸されるように有機溶剤が入った内洗浄槽２０と、外洗浄槽１８の底面に配された超音波振動子と、回転軸１４に連結され、ロール１２を回転させるモータ２６とを有する。 （もっと読む）

【課題】金属屑から分離した異物が金属屑に再付着することを抑制することができる金属屑の洗浄装置を得る。
【解決手段】異物５が付着した金属屑６が内側に入れられ、洗浄水１を貯留する洗浄槽２と、金属屑６を攪拌する攪拌機７と、洗浄槽２に貯留された洗浄水１に気泡３を供給し、気泡３を異物５に吸着させ、異物５を金属屑６から分離させ、気泡３が洗浄水１の水面に向かって浮上するのに伴って異物５を浮上させる気泡生成器４と、洗浄水１を洗浄槽２からオーバーフローさせて、異物５を洗浄槽２の外側へ排出する異物排出手段１１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】超音波振動を利用した加熱部のスケール防止装置において、超音波振動手段に熱損傷を与えることなく、超音波振動を加熱部に伝えて加熱部のスケール付着を予防することを目的とする。
【解決手段】加熱部２が加熱作動中に、水槽１の水位を低下させて超音波振動手段９の設置部と加熱部２との間に空気などの気体を導入して加熱部２から超音波振動手段９への熱伝導を抑制することによって超音波振動手段９の熱損傷を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルムの表面に付着した数μｍという非常に微細な埃、フィルム片、汚れまでも連続的に除去することができるフィルムの洗浄システムを提供する。
【解決手段】走行するフィルム１２に、洗浄液を用いて洗浄を行う洗浄部３６と、洗浄した前記走行するフィルムの乾燥を行う乾燥部３８と、を備え、洗浄部３６は、フィルム１２を走行させながら該フィルム表裏面の少なくとも一方の面側に洗浄液を供給することにより、少なくとも一方の面に沿った水流で洗浄する構造であるようにする。 （もっと読む）

この発明は、ある表面へ高伝搬超音波エネルギーを印加することでその表面を洗浄する方法に関するものであり、この方法は、その表面の少なくとも一部を高伝搬超音波エネルギー放出用アセンブリに接触している流体の中に浸漬するステップと、上記アセンブリからの高伝搬超音波エネルギーを上記流体の中へ放射して、上記表面にキャビテーションを発生させ、それによって、上記表面を洗浄するステップとを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】
配管を洗浄する装置において、超音波を照射することによって、効率良い配管洗浄装置を提供する。
【解決手段】
便器に洗浄水を供給するための給水管に設置された開閉弁の開閉状態を検知する検知部と、前記便器下流の横引き配管の底部に設置される超音波振動子と、前記超音波振動子を駆動する超音波発振部と、前記超音波振動子の駆動を制御する制御部と、タイマーとを有し、前記開閉弁の閉止を検知して所定時間経過後に前記超音波振動子を所定時間駆動し、前記開閉弁が開状態であるときは前記超音波振動子の駆動を停止することにより、配管が低水位の時に超音波の照射が可能となり、効率良く配管を洗浄できる。 （もっと読む）

【課題】異物の形状にバラツキがあっても、一つのブラシで異物を除去し、且つ、除去された異物を容易にブラシから遊離する基板洗浄ブラシを提供する。
【解決手段】基板洗浄ブラシ１００の洗浄ブラシの毛２０は、植毛される植毛面３０に対し、所定の角度で傾斜して植毛され、基板洗浄ブラシ１００は、洗浄ブラシの毛の毛先の部分が被洗浄基板の基板面３０に接触し、且つ、被洗浄基板３５が搬送される方向を示す第１の方向線と、所定の角度で植毛された洗浄ブラシの毛２０の植毛の方向を示す第２の方向線とが鋭角α２となるよう超音波基板洗浄装置２００に装着される。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置の効率を極大化することができる、共振を利用し、より微細な汚染源を除去し得る超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】ガラス表面に付着された異物を除去するために、ブロワーからエアを受け、スロット状のエア噴射口を通じて前記ガラス表面にエアを噴射するエア供給部；前記エア供給部から噴射されるエアに超音波を発生させることで、前記噴射されるエアに振動を印加する超音波発生装置；前記振動を受けたエアが噴射されて前記ガラスに付着された異物を除去する際に、前記ガラスと異物間の静電気発生を防止するイオナイザ；及び前記エア供給部から噴射されたエアと前記エアにより除去された異物とを排出装置により吸いこみ、エア吸入口を通じて排出するエア吸入部；を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】被洗浄体に付着した塵埃又は汚れを簡単な構造で効率的に除去することができる超音波除塵装置を提供する。
【解決手段】超音波除塵装置10は、超音波放出口18を備える超音波反射箱12と、超音波反射箱12内で振動する振動板21と、振動板21に結合された振動子25とを有している。そして、超音波放出口18の口縁と振動板21の中心を結ぶ方向θが振動板21から放射される超音波の主極方向にほぼ等しくなっている。この超音波除塵装置10は、さらに、超音波放出口の近辺に吸引口を開口する粉塵吸引手段を設けることによって、非常に微細な又は浮遊しやすい粉塵を効率よく除去することができる超音波除塵装置を構成することができる。 （もっと読む）

【課題】
ロールブラシ洗浄時のブラシ屑あるいは除去異物を含んだ洗浄液が基板表面に滞留して、再付着することを抑制し、洗浄性を向上させる。
【解決手段】
基板を搬送しながら、回転するロールブラシを前記基板面に接触させて洗浄する方法において、前記ロールブラシで洗浄した基板表面を、ブラシの軸と平行な液流で洗浄することにより、基板上に滞留している異物を含んだ洗浄液を速やかに基板の外に排出し、再付着を防止する。 （もっと読む）

【課題】既設の構造物に保持された液体中の洗浄対象を、分解せずに洗浄できるようにする。
【解決手段】既設の原子炉容器５などの構造物に保持された水２２に接触する洗浄対象表面である原子炉容器５の内面を洗浄するために、原子炉容器５に超音波６を加えて、原子炉容器を振動させ、洗浄対象表面の近傍にキャビテーション７を発生させる。キャビテーション７が消滅すると、原子炉容器５の内面に衝撃波が到達して、原子炉容器５の内面に付着したクラッド８などの不純物が除去される。 （もっと読む）

【課題】ワークの凹凸部に対する除塵性能を向上させた除塵装置を提供する。
【解決手段】エア吐出室１０４，１０５と、エア吸引室１０６と、内部空間がエア吐出室１０４，１０５に連通するノズルフード１１４と、このノズルフード１１４の内側に同心状に配置され、かつエア吸引室１０６に連通するエア吸引口１１６を有するエア吸引筒１１５とを備え、ノズルフード１１４の先端部とエア吸引筒１１５の先端部との間の隙間によってエア吐出口１１８を形成すると共に、ワーク３００が有する凸部３０１をエア吸引口１０６の内側に配置させ、エア吐出口１１８から凸部３０１方向にエアを吐出させてこのエアをエア吸引口１０６から吸引するようにした凸部用除塵ヘッド１００と、吐出ノズル２２０を除いてほぼ同様に形成された凹部用除塵ヘッド２００と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 被処理物の表面に形成されている酸化膜を、従来よりも効率的に除去する。
【解決手段】 この発明に係るクリーニング装置１０によれば、チャンバ１２内のプラズマ発光室３８で、水素プラズマが生成される。そして、この水素プラズマに含まれる水素ラジカルのみが、遮蔽板３６をすり抜けて、処理室４０に導かれる。処理室４０においては、支持台１４上に設置された被処理物１８，１８，…が、抵抗加熱ヒータ２０によって加熱されおり、この被処理物１８，１８，…の表面に形成されている酸化膜と、水素ラジカルと、が互いに反応し合うことによって、当該酸化膜が還元され、除去される。さらに、被処理物１８，１８，…には、支持台１４および連結棒２２を介して、超音波振動子２４から振動が付与される。これによって、被処理物１８，１８，…の隅々にまで水素ラジカルが行き届き易くなると共に、当該水素ラジカルと酸化膜との反応が活性化される。 （もっと読む）

【課題】ＣＭＰ装置を用いずに塗布膜を平坦化する。
【解決手段】基板処理システム１には，加熱炉において硬化される前に塗布絶縁膜Ａを硬化する平坦化装置１８が設けられる。平坦化装置１８には，ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック７１や，ウェハＷ上の塗布絶縁膜Ａに押し付けて塗布絶縁膜Ａの表面を削るブラシ１０１，ブラシ１０１をウェハＷの表面に沿って移動させる第１のアーム８１，ウェハＷの表面に加工液を供給する加工液供給ノズル１１０などが設けられる。硬化前の柔らかい状態の塗布絶縁膜Ａを有するウェハＷが平坦化装置１８に搬送され，ブラシ１０１を塗布絶縁膜Ａに押し当てて当該塗布絶縁膜Ａの表面に沿って移動させることにより，塗布絶縁膜Ａを所定の膜厚に平坦化できる。 （もっと読む）