【課題】装置設計、コスト、メンテナンス等の負担を軽減し、洗浄工程に要する時間を軽減することが可能な、噴射蒸気により被洗浄物の洗浄を行なうスチームジェット用ノズルを提供する。
【解決手段】ノズル本体１０は、蒸気室１２と、空気室１４と、蒸気室１２に通じる蒸気入力口１５と蒸気噴射口１６と蒸気排気口１７と、空気室１４に通じる空気入力口１８とを有し、蒸気室内１２には、噴射用バルブ２０と排気用バルブ３０を有し、空気入力口１８から入力される圧縮空気により、噴射用バルブ２０と排気用バルブ３０を制御し、洗浄処理時には、蒸気入力口１５から入力された蒸気を、蒸気噴射口１６から噴出させ、待機時には、蒸気排気口１７から排気させる。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面に固着したアルカリ性物質等のうろこ状皮膜を除去する方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面に固着したうろこ状皮膜を中和反応して軟化させる作用を有する酸性の軟化処理材を、前処理として前記うろこ状皮膜に塗布して、該うろこ状皮膜を軟化させ、然る後、前記軟化したうろこ状皮膜に、洗剤に微粒子状の研磨材を混合して製造された皮膜除去クリーナーを塗布し、研磨用パッドで軽く研磨して除去する。 （もっと読む）

【課題】リンス時に発生しうる基板表面のスクラッチやナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用リンス剤組成物の提供。
【解決手段】下記（ａ）の共重合体及び下記（ｂ）の両性界面活性剤の少なくとも一方と、酸化剤とを含有し、ｐＨが１〜６である磁気ディスク基板用リンス剤組成物。
（ａ）カルボン酸基を有する構成単位及びスチレン誘導体に由来する構成単位の少なくとも一方と、スルホン酸基を有する構成単位とを有する共重合体。
（ｂ）下記式（１）で表される両性界面活性剤。


［上記式（１）において、Ｒは炭素数８〜１６のアルキル基である。］ （もっと読む）

【課題】 太陽光発電及び太陽熱発電システムで使用される太陽電池パネルや反射鏡などの板状部材を、作業性が高く、かつ経済的に清掃するための清掃ロボットシステム及びその制御方法を提供する。
【解決手段】 太陽光発電用パネル又は太陽熱発電用反射鏡の平面状あるいは曲面状の板状部材４ａ、４ｂを清掃する清掃ロボットシステム１であって、清掃の対象となる前記板状部材４上を走行する機能と清掃する機能を有した多数の清掃ロボット２と、前記清掃ロボット２を第１の板状部材４ａから第２の板状部材４ｂへ移動させる搬送機能を有しているアレンジロボット３とを備えており、前記清掃ロボット２が、前記板状部材４に吸着しながら清掃を行うための吸着機構を有しており、多数の前記清掃ロボット２と、前記清掃ロボット２よりも少ない数の前記アレンジロボット３が協働して、太陽光発電又は太陽熱発電プラントに設置された板状部材４を清掃する。 （もっと読む）

【課題】液晶汚れとポリイミド等の削りかす（端子上異物）の両方を同時に洗浄でき、かつ、液安定性の良好な洗浄剤組成物、及び当該洗浄剤組成物を用いた液晶パネルの洗浄方法の提供。
【解決手段】液晶パネルの洗浄に用いる洗浄剤組成物において、有機アルカリ（Ａ）と、炭化水素（Ｂ）と、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル及びスルホコハク酸型アニオン界面活性剤からなる群から選ばれる界面活性剤（Ｃ）とを含有し、かつ、ｐＨが８．５以上であることを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】低環境負荷で、より洗浄力の高い洗浄方法、その方法を実施するための洗浄ユニット、およびその洗浄ユニットを組み込んだ洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄方法は、洗浄液としての電解アルカリ性水にマイクロバブルを発生させ、その液中で超音波を間欠照射させて処理することを特徴とし、洗浄ユニットは、洗浄液としての電解アルカリ性水を内部に蓄えるための洗浄槽（１０２）と、該洗浄槽（１０２）内にマイクロバブルを発生させるためのマイクロバブル発生ノズル（１０３）と、前記洗浄槽（１０２）の内部に蓄えた電解アルカリ性水中に超音波を照射可能な超音波振動子と、を具備したことを特徴とし、洗浄装置は、被洗浄物を洗浄するための洗浄ユニットと、被洗浄液に付着した洗浄液を除去するためのリンスユニットと、被処理物を水切り乾燥する乾燥ユニットを具備し、洗浄ユニットとして、前記洗浄ユニットを用いたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低環境負荷で、より洗浄力の高い洗浄方法、その方法を実施するための洗浄ユニット、およびその洗浄ユニットを組み込んだ洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄方法は、洗浄液としての電解アルカリ性水にマイクロバブルを発生させ、その液を被処理部物に供給しながらブラシ処理することを特徴とし、洗浄ユニットは、洗浄液としての電解アルカリ性水を内部に蓄えるための洗浄槽（１０２）と、洗浄槽（１０２）内にマイクロバブルを発生させるためのマイクロバブル発生ノズル（１０３）と、被処理物をブラッシング処理するためのブラシとを具備したことを特徴とし、洗浄装置は、被洗浄物を洗浄するための洗浄ユニットと、被洗浄液に付着した洗浄液を除去するためのリンスユニットと、被処理物を水切り乾燥する乾燥ユニットを具備し、洗浄ユニットとして、前記洗浄ユニットを用いたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】水垢によって汚染された窓ガラスなどの透明部材を、その表面やハードコート層を損傷させることなく、十分かつ経済的に洗浄可能な洗浄液、および透明部材の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】水溶性フッ素化合物と、酸と、増粘剤および／または乾燥防止剤とを水中に含有することを特徴とする透明部材の洗浄液。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に付着した塵埃などを効率良く除去すると共に、洗浄後にこれらが基板の表面に再付着することを防止した流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽２内で洗浄液Ｌを層流の状態で横方向に流し、この洗浄液Ｌに被洗浄物Ｗを浸漬させて洗浄を行う流水式洗浄方法であって、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの全体の流れに対して、洗浄槽２内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液Ｌの一部の流れを速くする。 （もっと読む）

【解決手段】 パレット洗浄システム２は、水平状態のパレット１を起立状態とする起立部Ｃと、パレットに洗浄液を噴射する洗浄部Ｄと、パレットに付着した洗浄液を脱水する脱水部Ｅと、パレットを乾燥させる乾燥部Ｆとを備えている。
このうち、上記乾燥部Ｆは、乾燥手段１９を備えた乾燥室２０と、複数の起立状態のパレットを所定間隔で保持して、該パレットを載置面に直交する方向に搬送する主コンベヤ（第７コンベヤ２２）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤにパレットを供給する供給コンベヤ（第６コンベヤ２１）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤからパレットを排出する排出コンベヤ（第８コンベヤ２３）とを備えている。
【効果】 パレットの洗浄から乾燥までを効率的に行うとともに設置面積を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】超音波洗浄装置に用いられかつ精密機器や半導体工業部品、及び医療機器の超音波洗浄装置に使用される耐熱ガラス（ホウケイサンガラス、パイレックス（登録商標））や理化学用ガラス（高ケイ酸塩ガラス、バイコール（登録商標））、更には石英ガラスを用いたガラス洗浄槽において、特に超音波が通過する面の表面状態の改良を行ったガラス洗浄槽及び当該ガラス洗浄槽を具備した超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波洗浄装置において用いられかつガラス板によって形成された底壁及び前後及び左右の側壁を有し上部を開口したガラス洗浄槽であって、
前記ガラス洗浄槽の少なくとも一つの壁の内面及び外面を鏡面研磨面とし、
前記鏡面研磨面は、２乗平均粗さＲＭＳが０．０２μｍ以下及び平面度が０．１ｍｍ以下であって、前記超音波洗浄装置の超音波振動子からのエネルギー減衰が５％以下であるようにした。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、半導体集積回路、プリント配線基板、液晶等の製造工程における銅、アルミニウム及びこれらからなる合金等の腐食性金属の酸化等による腐食防止を特徴とするインドール化合物を用いた防食剤及び当該化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物の提供を課題とする。
【解決手段】
本願発明者らは、上記課題を達成するために研究を重ねた結果、インドール化合物から、銅等の腐食しやすい金属に対し、高い防食効果を発揮しつつ、廃液からの回収も可能な防食剤、及び同化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物を見出した。 （もっと読む）

【課題】フローティングユニットを用いて基板をフローティング状態に維持したままで基板の洗浄工程を行うことによって、基板の垂れによる破損を防止することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄装置は、基板にプラズマを照射して基板上の異物を除去するプラズマ照射部、基板上に残っている異物を除去する異物洗浄部、基板を洗浄する仕上げ洗浄部、基板を乾燥させる乾燥部と、基板をアンローディングする基板アンローディング部を備え、プラズマ照射部には、プラズマを照射するプラズマ照射ユニット及び基板をフローティング状態に維持させるフローティングユニットを含む。 （もっと読む）

【課題】基材に残留する微小金属、微小導電性金属酸化物を除去する。
【解決手段】円筒形状の絶縁体１２ｃと、この絶縁体１２ｃの内外周面側に設けられた正電極１２ａ及び負電極１２ｂとで構成された円筒状電極体１２を、基材１１に対向すべく、複数個、隣接して設ける。正電極１２ａと絶縁体１２ｃと負電極１２ｂの、それぞれの基材１１と対向する面の面積をＳ1、Ｓ2、Ｓ3とした場合、Ｓ1／Ｓ2＝０．８〜１００、Ｓ2／Ｓ3＝０．０１〜１．１５の範囲とする。円筒状電極体１２と基材１１間に電解液１３を介在させた状態で、正電極１２ａと負電極１２ｂに電圧を印加する。円筒状電極体１２と基材１１とを相対移動させることで、基材１１の表面に残留する微小な導電性金属酸化物１５を還元反応により除去する。
【効果】基材に残留する微小導電性金属酸化物を、基材の全面に亘って効果的に除去することができる。 （もっと読む）

電極は経路に沿って端部を縦にして搬送される。電極は、底部外周端で支持されて、概ね垂直に保持される。複数の洗浄ノズルが経路に隣接してその対向する両側に配置される。ノズルからの洗浄スプレイは電極の両側面に当てられる。ノズルは、直線状に配置されてノズルアレイを形成し、電極の底部より先に上部に洗浄スプレイが当たるように角度が付けられる。リンスまたは前洗浄用の分離した部分を洗浄チャンバ内に備えてもよい。使用済みの水を回収して再利用してもよい。
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【課題】超音波処理装置の伝播槽内の伝搬液中における超音波の減衰もしくはゆらぎ、処理槽内の処理液中における超音波の減衰もしくはゆらぎを抑制することができ、かつ処理槽の破損を防止することができる超音波処理装置用供給液の製造装置を提供する。
【解決手段】超音波処理装置の処理槽に処理液を供給する処理液供給手段と、超音波処理装置の伝播槽に伝播液を供給する伝播液供給手段と、処理液中の溶存ガス濃度を制御する処理液溶存ガス濃度制御手段と、伝播液中の溶存ガス濃度を制御する伝播液溶存ガス濃度制御手段と、を備え、伝播液溶存ガス濃度制御手段は、伝播液中の溶存ガス濃度を０．２ｍｇ／Ｌ〜１０ｍｇ／Ｌの範囲に制御する超音波処理装置用供給液の製造装置である。 （もっと読む）

本発明は、ウェーハ、ＰＣ基板、ハイブリッド回路、精密機械又は電気機械部品、光学器械、医療装置などのワークピースの洗浄装置（１００）に関する。好ましくは、本発明の装置（１００）は、ほぼ平らなディスク形状を有するディスクドライブ構成部品を洗浄するために使用されることができる。本装置の簡単で容易に維持できる構造は、洗浄液の流れの下で、沈水状態でワークピースの表面から異物を除去するために、この装置内に洗浄液の一方向の流れを与える。洗浄液の一方向の流れは、装置（１００）の入口への洗浄液の流れの汲み上げ、及び出口の外部への洗浄液の流れの取り出しを同時にする手段によって達成される。洗浄液の一方向の流れは、クリーンにされたワークピースの表面に除去された異物が再び堆積するのを防ぐ。
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【課題】剥離溶液の酸濃度および極性に応じて異なる色を呈し得る着色指示薬であって、その色の変化がｐＨ０〜３の範囲、とりわけ０〜２の範囲、有利には０〜１の範囲において観察されるものとを含んでなる、液体剥離剤を提供する。
【解決手段】１種以上の強酸と、特に測定不能なｐＨ（すなわち１未満）で視覚的な用量指示薬を含んでなる強酸系剥離剤であって、該指示薬が水洗検査として、すなわち中性化検査としての機能も果たす剥離剤。 （もっと読む）

【課題】ブランク材洗浄装置の洗浄性能検査方法において、簡素な構成としてコストアップを抑えた上で、迅速かつ確実な洗浄不良の検出を可能とする。
【解決手段】ブランキング装置４０により切断されたブランク材Ｗを洗浄する洗浄装置５０の洗浄性能検査方法であって、前記ブランク材Ｗの両面の適宜の箇所に塗料を塗布した後、該ブランク材Ｗを前記洗浄装置５０により洗浄し、該洗浄後のブランク材Ｗにおける前記塗料を塗布した箇所の色差を色差計７１により測定し、該測定値を予め定めた閾値と比較することにより、前記洗浄装置５０の洗浄性能を検査する。 （もっと読む）

【課題】 ケミカル噴射装置及びこれを含む基板処理装置が開示される。
【解決手段】 ケミカル噴射装置は、第１噴射配管、第２噴射配管、及び駆動部を含む。前記第１及び第２噴射配管は同一線上に位置し、ケミカルを基板に噴射する多数の第１及び第２噴射ノズルを有する。前記駆動部は、前記第１及び第２噴射配管の間で前記第１及び第２噴射ノズルをスウィングさせるために互いに隣接する前記第１及び第２噴射配管の端部に駆動力を提供する。従って、第１及び第２噴射配管に形成された第１及び第２噴射ノズルを安定にスウィングすることができる。 （もっと読む）