流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置
【課題】基板の表面に付着した塵埃などを効率良く除去すると共に、洗浄後にこれらが基板の表面に再付着することを防止した流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽２内で洗浄液Ｌを層流の状態で横方向に流し、この洗浄液Ｌに被洗浄物Ｗを浸漬させて洗浄を行う流水式洗浄方法であって、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの全体の流れに対して、洗浄槽２内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液Ｌの一部の流れを速くする。
【解決手段】洗浄槽２内で洗浄液Ｌを層流の状態で横方向に流し、この洗浄液Ｌに被洗浄物Ｗを浸漬させて洗浄を行う流水式洗浄方法であって、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの全体の流れに対して、洗浄槽２内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液Ｌの一部の流れを速くする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被洗浄物として、例えば磁気記録媒体用基板や、磁気記録媒体の製造装置に用いられる部品、スパッタ装置のシールド板などの洗浄を行う際に好適に用いられる流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ハードディスクドライブなどに用いられる磁気記録媒体用の基板には、中心孔が形成された円盤状のアルミニウム基板やガラス基板などが用いられている。このような磁気記録媒体用基板は、表面に研磨加工などの様々な表面処理工程を経て作製されるため、表面処理工程等の後には、基板の表面に付着した塵埃などを除去する基板洗浄工程が行われている。
【０００３】
また、磁気記録媒体の更なる高記録密度化が要求に伴って、磁気記録媒体の高い平坦度が求められる一方で、磁気記録媒体用基板の表面に付着した塵埃などを除去する以外にも、磁気記録媒体の製造装置に用いられる部品やスパッタ装置のシールド板などに付着した塵埃などを除去するための高度な洗浄技術が求められている。
【０００４】
このような磁気記録媒体用基板の洗浄装置としては、例えば、磁気ディスク基板などをワークとし、この表面に研磨加工などの表面処理を行った後、ワークの表面に付着している異物などを除去するために、複数の洗浄槽を用いてワークをコンベアにより順次複数の洗浄槽に搬送しながら、各洗浄槽にて液体を用いて洗浄する装置が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
しかしながら、この特許文献１に記載される洗浄装置では、洗浄槽に回転ブラシやシャワーなどを複数設け、基板の１枚１枚に洗浄液を供給しながら、回転ブラシを用いてスクラブ洗浄することになるが、回転ブラシが基板の表面に接触する構成のため、この基板表面に擦傷痕が生じてしまう虞がある。
【０００６】
このため、回転ブラシを用いない洗浄方法として、例えば、洗浄槽の底部から洗浄液を供給し、この洗浄液を洗浄槽の上部からオーバーフローさせながら、洗浄槽内の洗浄液に基板を保持したホルダを浸漬させて基板の洗浄を行う方法が提案されている。
【０００７】
しかしながら、洗浄槽の下方から上方に向かって洗浄液を流す洗浄方法では、基板の表面から剥離した塵埃等を含む汚染物質が洗浄槽の上部から洗浄液と共に排出されずに一部が洗浄槽内に滞留してしまうことがあり、この洗浄槽内に洗浄液の淀みを生じさせることがあった。この場合、ホルダを洗浄槽から引き上げる際に、洗浄液内に滞留した汚染物質が基板の表面に再付着することがある。
【０００８】
一方、洗浄槽内に洗浄液を層流の状態で横方向に流しながら、この洗浄槽内の洗浄液に基板を保持したホルダを浸漬させることによって、基板の洗浄を行う流水式洗浄装置が提案されている（例えば、特許文献２などを参照。）。
【０００９】
このような洗浄液を層流の状態で横方向に流す洗浄方法では、汚染物質を含む洗浄液を浸漬槽の外へと速やかに排出することができるため、基板の表面に汚染物質が再付着することを防止することが可能である。
【特許文献１】特開２００１−９６２４５号公報
【特許文献２】特開平９−２０６７０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、上述した特許文献２に記載された流水式洗浄装置では、被洗浄物から剥離した汚染物質が洗浄液の乱流に乗って被洗浄物に再付着することを防止するため、多孔状の整流板を流路内に設置し、この整流板を通すことによって洗浄液の流れを乱れのない一様な流れ（層流）となるように洗浄液の流れを調整している。
【００１１】
しかしながら、このような流水式洗浄装置において、洗浄槽内を流れる洗浄液が層流となるのは、この洗浄槽内に被洗浄物を浸漬しない場合である。一方、洗浄槽内に被洗浄物を浸漬した場合は、この洗浄槽内を流れる洗浄液が被洗浄物に乱されて乱流となり、この乱流によって被洗浄物に対する洗浄能力が低下してしまうことがあった。
【００１２】
そこで、本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、被洗浄物の表面に付着した塵埃などを効率良く除去すると共に、洗浄後にこれらが被洗浄物の表面に再付着することを防止した流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、洗浄槽内で洗浄液を層流の状態で横方向に流し、この洗浄液に被洗浄物を浸漬させて洗浄を行う際に、洗浄槽内に浸漬した被洗浄物により乱流が発生し、この乱流によって洗浄槽内の底面及び両側面において、被洗浄物の表面から離脱した塵埃や異物などの汚染物質が滞留し、この滞留した汚染物質が被洗浄物に再付着することで、被洗浄物に対する洗浄能力が低下することを解明した。
【００１４】
また、洗浄槽の底面や両側面に沿って流れる洗浄液の流れは、これらの面との抵抗により遅くなる。この場合、上述した汚染物質は、この部分に滞留し易くなり、この滞留した汚染物質が乱流により巻き上げられて、被洗浄物に再付着するものと考えられる。
【００１５】
そこで、本発明者は、洗浄槽内を流れる洗浄液の全体の流れに対して、この洗浄槽内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液の一部の流れを速くすることによって、上述した汚染物質を浸漬槽内から速やかに排出し、汚染物質が乱流により巻き上げられて、被洗浄物に再付着するといったことを低減できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１６】
すなわち、本発明は、以下の手段を提供する。
（１） 洗浄槽内で洗浄液を層流の状態で横方向に流し、この洗浄液に被洗浄物を浸漬させて洗浄を行う流水式洗浄方法であって、
前記洗浄槽内を流れる洗浄液の全体の流れに対して、前記洗浄槽内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液の一部の流れを速くすることを特徴とする流水式洗浄方法。
（２） 前記被洗浄物として、ホルダに保持された基板の洗浄を行う際に、この基板の主面が前記洗浄液の流れる方向と平行となるように前記ホルダを前記浸漬槽内に配置することを特徴とする前項（１）に記載の流水式洗浄方法。
（３） 前記ホルダに互いに平行な状態で複数並んで保持された基板に対して洗浄を行うことを特徴とする前項（１）又は（２）に記載の流水式洗浄方法。
（４） 前記基板として、磁気記録媒体用基板を洗浄することを特徴とする前項（１）〜（３）の何れか一項に記載の流水式洗浄方法。
（５） 洗浄槽内で洗浄液を層流の状態で横方向に流し、この洗浄液に被洗浄物を浸漬させて洗浄を行う流水式洗浄装置であって、
前記洗浄層内の洗浄液を供給する側に、この洗浄槽内を流れる洗浄液の流れを調整する整流板が配置され、
前記整流板には、前記洗浄液を供給する孔部が幅方向と高さ方向とに複数並んで設けられると共に、前記洗浄槽内の底面及び両側面に沿って並ぶ少なくとも１列以上の孔部については、他の孔部よりも相対的に径を大きくしていることを特徴とする流水式洗浄装置。
（６） 前記整流板は、前記洗浄層内の前記洗浄液が供給される側の空間と、前記被洗浄物が浸漬される側の空間との間を仕切るように配置されていることを特徴する前項（５）に記載の流水式洗浄装置。
（７） 前記洗浄層内の洗浄液を排出する側に、前記供給側の整流板と一致した形状の孔部を有する整流板が、前記供給側の整流板と対向して配置されていることを特徴する前項（５）又は（６）に記載の流水式洗浄装置。
（８） 前記排出側の整流板は、前記洗浄層内の前記洗浄液が排出される側の空間と、前記被洗浄物が浸漬される側の空間との間を仕切るように配置されていることを特徴する前項（７）に記載の流水式洗浄装置。
（９） 前記被洗浄物は、ホルダに保持された基板であり、この基板の主面が前記洗浄液の流れる方向と平行となるように前記ホルダが前記浸漬槽内に配置されることを特徴とする前項（５）〜（８）の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
（１０） 前記ホルダには、前記基板が互いに平行な状態で複数並んで保持されることを特徴とする前項（５）〜（９）の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
（１１） 前記基板は、磁気記録媒体用基板であることを特徴とする前項（５）〜（１０）の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
【発明の効果】
【００１７】
以上のように、本発明によれば、被洗浄物の表面に付着した塵埃や異物などの汚染物質を効率良く除去すると共に、洗浄後にこれらの汚染物質が被洗浄物の表面に再付着するといったこと防止した洗浄能力の高い流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置を提供することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を適用した流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を模式的に示している場合があり、各部の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００１９】
本実施形態では、例えば図１及び図２に示すような本発明を適用した流水式洗浄装置１を用いて、ハードディスクドライブに搭載される磁気記録媒体用の基板（被洗浄物）Ｗを洗浄する場合を例に挙げて説明する。
【００２０】
なお、基板Ｗを洗浄する洗浄液Ｌとしては、基本的に純水が使用されるが、それ以外にも化学的な処理等が施された処理水などを使用することができる。具体的に、洗浄液Ｌとしては、例えば、純水や超純水の他に、イソプロピルアルコール等の有機溶剤、界面活性剤を含む薬液洗剤、アノード水、カソード水、純水で低濃度に希釈した酸性溶液やアルカリ性溶液、オゾン水や水素水などを挙げることができる。そして、これらの洗浄液Ｌは、洗浄対象となる基板（被洗浄物）Ｗに応じて適宜選択して使用することが可能である。
【００２１】
本発明を適用した流水式洗浄装置１は、図１及び図２に示すように、基板Ｗを保持したホルダ５０を洗浄液Ｌに浸漬させて基板Ｗの洗浄を行う洗浄槽２を備えている。
【００２２】
ホルダ５０には、中心孔が形成された円盤状の基板Ｗが互いに平行な状態で複数並んで保持されている。また、各基板Ｗは、ホルダ５０に設けられた一対の支持プレート５１ａ，５１ｂによって、その中心孔を通る鉛直方向の中心線を挟んだ両側の外周部が支持されている。なお、これら一対の支持プレート５１ａ，５１ｂには、各基板Ｗの外周部が係合されるＶ字状の溝部（図示せず。）が設けられている。
【００２３】
各基板Ｗは、これら一対の支持プレート５１ａ，５１ｂに支持されることによって、縦置き状態（基板Ｗの主面が鉛直方向と平行となる状態）でホルダ５０に保持されている。そして、このホルダ５０は、各基板Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行となるようにして、洗浄槽２の底面上に配置されている。なお、本例では、直径２．５インチの基板Ｗを約５ｍｍ間隔で１列に５０枚程度並べてホルダ５０に保持している。
【００２４】
洗浄槽２は、長方形を為す底壁２ａと、底壁２ａの周囲から立ち上がる４つの側壁２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅと、底壁２ａと対向する上面の開口部２ｆとを有して、全体が略直方体状に形成されている。
【００２５】
また、洗浄槽２の底壁２ａには、洗浄液Ｌを供給する供給管３と、洗浄液Ｌを排出する排出口４とが設けられている。このうち、供給管３は、洗浄液Ｌの流れる長手方向の上流側の側壁２ｂの近傍に沿って複数並んで設けられている。また、供給管３は、その先端の供給口を側壁２ｂ側に向けて洗浄液Ｌを供給することで、層流をより安定的に発生させることができる。一方、排出口４は、洗浄液Ｌの流れる長手方向の下流側の側壁２ｄの近傍に沿って複数並んで設けられている。
【００２６】
また、洗浄槽２の上流側には、この洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの流れを調整する整流板５が、上記供給口３から供給された洗浄液Ｌが貯留される貯留空間Ｓ１と、上記ホルダ５０が浸漬される浸漬空間Ｓ２との間を仕切るように設けられている。一方、洗浄槽２の下流側には、上記浸漬空間Ｓ２と、上記排出口４から洗浄液Ｌが排出される排出空間Ｓ３との間を仕切るように、整流板６が設けられている。
【００２７】
このうち、供給側の整流板５は、貯留空間Ｓ１から浸漬空間Ｓ２に向かって流れる洗浄液Ｌの流れを整流し、浸漬空間Ｓ２内の洗浄液Ｌを層流の状態で横方向（水平方向）に流すためのものであり、洗浄液Ｌを供給する孔部５ａ，５ｂが幅方向と高さ方向とに複数並んで設けられた多孔板からなる。
【００２８】
また、この整流板５に設けられた複数の孔部５ａ，５ｂのうち、洗浄槽２の底壁２ａ及び側壁２ｃ，２ｅに沿って並ぶ少なくとも１列以上の孔部５ｂについては、他の孔部５ａよりも相対的に径が大きくなっている。
【００２９】
具体的に、この流水式洗浄装置１では、図３に示すように、洗浄槽２内の底壁２ａ及び側壁２ｃ，２ｅに沿って並ぶ孔部５ｂの径を他の孔部５ａよりも大きくすることによって、図１及び図２に示すように、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの全体の流れＦ１に対して、この洗浄槽２内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液Ｌの一部の流れＦ２（流速）が速くなるように調整されている。
【００３０】
なお、層流とは、流れの流線が線状を為して整然と流れる状態のことを言う。本例では、このような層流状態の洗浄液Ｌを一定の流速（例えば１０ｍｍ／ｓｅｃ程度）で横方向（水平方向）に流している。これに対して、洗浄槽２内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液Ｌの流速は、この洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの全体の流れよりも、好ましくは２〜４倍（例えば、２０〜４０ｍｍ／ｓｅｃ）程度速くなっている。
【００３１】
一方、排出側の整流板６は、洗浄槽２内を層流の状態で流れる洗浄液Ｌの流れをより安定化させるためのものであり、洗浄液Ｌを排出する孔部６ａ，６ｂが幅方向と高さ方向とに複数並んで設けられた多孔板からなる。
【００３２】
また、排出側の整流板６は、上記図３に示す供給側の整流板５と一致した形状の孔部６ａ，６ｂを有して、上記供給側の整流板５と対向して配置されている。すなわち、この排出側の整流板６に設けられた複数の孔部６ａ，６ｂのうち、洗浄槽２の底壁２ａ及び側壁２ｃ，２ｅに沿って並ぶ少なくとも１列以上の孔部６ｂについては、他の孔部６ａよりも相対的に径が大きくなっている。
【００３３】
なお、本例では、基板Ｗとして、例えば大きさが１０ｃｍ程度の磁気記録媒体用基板を洗浄する場合には、上記整流板５，６に設けられた複数の孔部５ａ，５ｂ、６ａ，６ｂのうち、通常の孔部５ａ，６ａの径が例えばφ０．５ｃｍであるのに対し、洗浄槽２内の底壁２ａ及び側壁２ｄ，２ｅに沿って並ぶ孔部５ｂ，６ｂの径が例えばφ１ｃｍである。また、各孔部５ａ，５ｂ、６ａ，６ｂの幅方向及び高さ方向における中心間距離はそれぞれ例えば２ｃｍである。
【００３４】
一方、例えば大きさが３０ｃｍ〜１ｍ程度のスパッタ装置のシールド板を洗浄する場合には、上記整流板５，６に設けられた複数の孔部５ａ，５ｂ、６ａ，６ｂのうち、通常の孔部５ａ，６ａの径が例えばφ５ｃｍであるのに対し、洗浄槽２内の底壁２ａ及び側壁２ｄ，２ｅに沿って並ぶ孔部５ｂ，６ｂの径が例えばφ１０ｃｍである。また、各孔部５ａ，５ｂ、６ａ，６ｂの幅方向及び高さ方向における中心間距離はそれぞれ例えば２０ｃｍである。
【００３５】
また、排出側の整流板６の高さは、洗浄液Ｌの一部を上部からオーバーフローさせるように、上記４つの側壁２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅよりも低く設定されている。
【００３６】
さらに、この流水式洗浄装置１には、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌを循環的に再使用するため、排出口４から排出された洗浄液Ｌが貯留されるリザーバータンク７と、リザーバータンク７に貯留された洗浄液Ｌを供給口３に圧送するためのポンプ８と、ポンプ８により圧送された洗浄液Ｌを浄化するフィルタ９とが設けられている。
【００３７】
本発明を適用した流水式洗浄方法は、以上のような構造を有する流水式洗浄装置１を用いて、ホルダ５０に保持された複数の基板Ｗに対する洗浄を行う。具体的に、この流水式洗浄装置１を用いた流水式洗浄方法では、洗浄槽２の浸漬空間Ｓ２内で洗浄液Ｌを層流の状態で水平方向に流しながら、この浸漬空間Ｓ２内の洗浄液Ｌに複数の基板Ｗを保持したホルダ５０を浸漬させる。
【００３８】
このとき、洗浄槽２内では、ホルダ５０に保持された各基板Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行とされて、これら各基板Ｗの間を層流状態の洗浄液Ｌが流れることになる。これにより、各基板Ｗの表面が洗浄液Ｌにより洗浄されて、これら各基板Ｗの表面に付着した塵埃や異物などの汚染物質が除去される。
【００３９】
また、この流水式洗浄装置１では、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの全体の流れＦ１に対して、この洗浄槽２内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液Ｌの一部の流れＦ２が速くなっている。これにより、上述した汚染物質を洗浄槽２内に滞留させることなく、この洗浄槽２の外側へと速やかに排出させることができる。したがって、本発明によれば、上述した汚染物質が乱流により巻き上げられて、基板Ｗに再付着するといったことを低減することができる。
【００４０】
以上のようにして、本発明では、基板の表面に付着した塵埃などを効率良く除去すると共に、洗浄後にこれらが基板の表面に再付着することを防止した高度な基板洗浄を行うことが可能である。
【００４１】
なお、本発明は、上記実施形態のものに必ずしも限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【００４２】
例えば、上記図３に示す整流板５，６には、通常の孔部５ａ，６ａよりも径が拡大された孔部５ｂ，６ｂが、洗浄槽２内の底面及び両側面の側から、それぞれ２列並んで設けられた構成となっているが、径が拡大された孔部５ｂ，６ｂが並ぶ列の数については、少なくとも１列以上とし、その上限については、上記ホルダ５０を洗浄槽２の底面上に配置したときに、この孔部３ｂから供給された洗浄液Ｌによって流速が高められた一部の流れが、ホルダ５０に保持された各基板Ｗの間を直接通過しない数とすることが好ましい。
【００４３】
すなわち、上記ホルダ５０に保持された各基板Ｗの間は、通常の孔部３ａから供給される層流状態の洗浄液Ｌが流れるようにし、その外側を流速が高められた洗浄液Ｌが流れるようにすることが好ましい。本発明では、このような理由に基づいて、通常の孔部３ａに対する径が拡大された孔部３ｂの配置や数、径などが設定されている。
【００４４】
なお、この流水式洗浄装置１では、洗浄液Ｌを層流の状態で横方向に流すことができる構成であれば、上述した整流板５の他にも、層流発生手段として、例えば多孔質板や不織布などの通水抵抗を有した緩衝材等を使用してもよく、これらを組み合わせて洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの流れを適宜調整することも可能である。
【００４５】
さらに、本発明では、基板Ｗに対する洗浄能力を高めるため、浸漬空間Ｓ２内の洗浄液Ｌに超音波振動（例えば、２００ｋＨｚで５００Ｗ程度）を加えることも可能である。
【００４６】
また、上記ホルダ５０は、一対の支持プレート５１ａ，５１ｂにより各基板Ｗの外周部を２点で支持する構成となっているが、このような構成に限らず、各基板Ｗを支持する外周部の位置や点数などについては、適宜変更して実施することが可能であり、例えば各基板Ｗの外周部を３点で支持したり、４点で支持したりすることが可能である。
【００４７】
また、各基板Ｗの外周部を支持する部材についても、上記支持プレート５１ａ，５１ｂのようなものに限定されるものではなく、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの流れを乱さないものであれば、その形状等については適宜変更して実施することが可能である。
【００４８】
また、本発明は、上述した磁気記録媒体用の基板Ｗについて、表面処理工程等の後に表面に付着した塵埃や異物などを除去する工程とは別に、例えば磁性膜等を成膜した後や、潤滑剤を塗布する前の磁気記録媒体の洗浄にも適用することが可能である。
【００４９】
さらに、本発明は、上述した磁気記録媒体用の基板Ｗを洗浄する場合に限らず、平板状の被洗浄物を洗浄する場合に好適に用いることが可能であるが、上記流水式洗浄装置１を用いて洗浄可能なものであれば、被洗浄物については特に限定されるものではない。
【実施例】
【００５０】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。
【００５１】
（実施例１）
実施例１では、上記図１，２に示す流水式洗浄装置１を用いて、実際に基板Ｗの洗浄を行った。具体的には、長さ２００ｃｍ、幅１００ｃｍ、深さ２００ｃｍのＳＵＳ３０４製の洗浄槽２を用い、この洗浄槽２の上流側に貯留空間Ｓ１と浸漬空間Ｓ２との間を仕切るように幅１００ｃｍ、高さ２００ｃｍの整流板５を配置した。この供給側の整流板５には、複数の孔部５ａ，５ｂが幅方向に４列、高さ方向に９列並んで設けられており、このうち、通常の孔部５ａの径をφ５ｃｍとしたのに対し、洗浄槽２内の底壁２ａ及び側壁２ｄ，２ｅに沿って並ぶ１列の孔部５ｂの径をφ１０ｃｍとした。また、各孔部５ａ，５ｂの幅方向及び高さ方向における中心間距離はそれぞれ２０ｃｍである。一方、洗浄槽２の下流側には、供給側の整流板５と一致した形状の孔部６ａ，６ｂを有する整流板６を、浸漬空間Ｓ２と排出空間Ｓ３との間を仕切るように配置した。また、洗浄槽２の底面の外側には周波数３８ｋＨｚ、出力１２００Ｗの超音波発信器を配置した。
【００５２】
そして、この洗浄槽２内に、１ミクロンから５０ミクロンの粉体が付着した洗浄力評価用のテストピース（外径５０ｍｍ、厚み３ｍｍの円盤状の基板）Ｗを５０枚用意し、これを洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌに浸漬し、１０分間の洗浄を行った。
【００５３】
なお、洗浄液Ｌには純水を使用し、水温を４５℃±５℃とした。また、洗浄槽２内を層流の状態で流れる洗浄液Ｌの平均流速（被洗浄物を浸漬しない状態での流速）は３ｍ／分とした。フィルタ９には３ミクロンフィルタと１ミクロンフィルタとを２段で使用し、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌを循環的に再使用した。
【００５４】
実施例１では、洗浄後にテストピースＷに残存する粉体の割合を評価したところ、粉体の平均除去率は、約９９．８％であった。
【００５５】
（比較例１）
比較例１では、供給側及び排出側の整流板５，６に設けられた孔部５ａ，６ａの径を全てφ５ｃｍとした以外は、実施例１と同様に５０枚のテストピースＷに対して洗浄を行った。そして、洗浄後にテストピースＷに残存する粉体の割合を評価したところ、粉体の平均除去率は、約９７．８％であり、実施例１の場合よりも洗浄能力が劣ることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】図１は、本発明を適用した流水式洗浄装置の構成を示す平面図である。
【図２】図２は、本発明を適用した流水式洗浄装置の構成を示す断面図である。
【図３】図３は、整流板の構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１…流水式洗浄装置 ２…洗浄槽 ３…供給口 ４…排出口 ５…供給側の整流板 ５ａ…通常の孔部 ５ｂ…経が拡大された孔部 ６…排出側の整流板 ６ａ…通常の孔部 ６ｂ…径が拡大された孔部 ７…リザーバータンク ８…ポンプ ９…フィルタ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被洗浄物として、例えば磁気記録媒体用基板や、磁気記録媒体の製造装置に用いられる部品、スパッタ装置のシールド板などの洗浄を行う際に好適に用いられる流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ハードディスクドライブなどに用いられる磁気記録媒体用の基板には、中心孔が形成された円盤状のアルミニウム基板やガラス基板などが用いられている。このような磁気記録媒体用基板は、表面に研磨加工などの様々な表面処理工程を経て作製されるため、表面処理工程等の後には、基板の表面に付着した塵埃などを除去する基板洗浄工程が行われている。
【０００３】
また、磁気記録媒体の更なる高記録密度化が要求に伴って、磁気記録媒体の高い平坦度が求められる一方で、磁気記録媒体用基板の表面に付着した塵埃などを除去する以外にも、磁気記録媒体の製造装置に用いられる部品やスパッタ装置のシールド板などに付着した塵埃などを除去するための高度な洗浄技術が求められている。
【０００４】
このような磁気記録媒体用基板の洗浄装置としては、例えば、磁気ディスク基板などをワークとし、この表面に研磨加工などの表面処理を行った後、ワークの表面に付着している異物などを除去するために、複数の洗浄槽を用いてワークをコンベアにより順次複数の洗浄槽に搬送しながら、各洗浄槽にて液体を用いて洗浄する装置が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
しかしながら、この特許文献１に記載される洗浄装置では、洗浄槽に回転ブラシやシャワーなどを複数設け、基板の１枚１枚に洗浄液を供給しながら、回転ブラシを用いてスクラブ洗浄することになるが、回転ブラシが基板の表面に接触する構成のため、この基板表面に擦傷痕が生じてしまう虞がある。
【０００６】
このため、回転ブラシを用いない洗浄方法として、例えば、洗浄槽の底部から洗浄液を供給し、この洗浄液を洗浄槽の上部からオーバーフローさせながら、洗浄槽内の洗浄液に基板を保持したホルダを浸漬させて基板の洗浄を行う方法が提案されている。
【０００７】
しかしながら、洗浄槽の下方から上方に向かって洗浄液を流す洗浄方法では、基板の表面から剥離した塵埃等を含む汚染物質が洗浄槽の上部から洗浄液と共に排出されずに一部が洗浄槽内に滞留してしまうことがあり、この洗浄槽内に洗浄液の淀みを生じさせることがあった。この場合、ホルダを洗浄槽から引き上げる際に、洗浄液内に滞留した汚染物質が基板の表面に再付着することがある。
【０００８】
一方、洗浄槽内に洗浄液を層流の状態で横方向に流しながら、この洗浄槽内の洗浄液に基板を保持したホルダを浸漬させることによって、基板の洗浄を行う流水式洗浄装置が提案されている（例えば、特許文献２などを参照。）。
【０００９】
このような洗浄液を層流の状態で横方向に流す洗浄方法では、汚染物質を含む洗浄液を浸漬槽の外へと速やかに排出することができるため、基板の表面に汚染物質が再付着することを防止することが可能である。
【特許文献１】特開２００１−９６２４５号公報
【特許文献２】特開平９−２０６７０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、上述した特許文献２に記載された流水式洗浄装置では、被洗浄物から剥離した汚染物質が洗浄液の乱流に乗って被洗浄物に再付着することを防止するため、多孔状の整流板を流路内に設置し、この整流板を通すことによって洗浄液の流れを乱れのない一様な流れ（層流）となるように洗浄液の流れを調整している。
【００１１】
しかしながら、このような流水式洗浄装置において、洗浄槽内を流れる洗浄液が層流となるのは、この洗浄槽内に被洗浄物を浸漬しない場合である。一方、洗浄槽内に被洗浄物を浸漬した場合は、この洗浄槽内を流れる洗浄液が被洗浄物に乱されて乱流となり、この乱流によって被洗浄物に対する洗浄能力が低下してしまうことがあった。
【００１２】
そこで、本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、被洗浄物の表面に付着した塵埃などを効率良く除去すると共に、洗浄後にこれらが被洗浄物の表面に再付着することを防止した流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、洗浄槽内で洗浄液を層流の状態で横方向に流し、この洗浄液に被洗浄物を浸漬させて洗浄を行う際に、洗浄槽内に浸漬した被洗浄物により乱流が発生し、この乱流によって洗浄槽内の底面及び両側面において、被洗浄物の表面から離脱した塵埃や異物などの汚染物質が滞留し、この滞留した汚染物質が被洗浄物に再付着することで、被洗浄物に対する洗浄能力が低下することを解明した。
【００１４】
また、洗浄槽の底面や両側面に沿って流れる洗浄液の流れは、これらの面との抵抗により遅くなる。この場合、上述した汚染物質は、この部分に滞留し易くなり、この滞留した汚染物質が乱流により巻き上げられて、被洗浄物に再付着するものと考えられる。
【００１５】
そこで、本発明者は、洗浄槽内を流れる洗浄液の全体の流れに対して、この洗浄槽内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液の一部の流れを速くすることによって、上述した汚染物質を浸漬槽内から速やかに排出し、汚染物質が乱流により巻き上げられて、被洗浄物に再付着するといったことを低減できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１６】
すなわち、本発明は、以下の手段を提供する。
（１） 洗浄槽内で洗浄液を層流の状態で横方向に流し、この洗浄液に被洗浄物を浸漬させて洗浄を行う流水式洗浄方法であって、
前記洗浄槽内を流れる洗浄液の全体の流れに対して、前記洗浄槽内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液の一部の流れを速くすることを特徴とする流水式洗浄方法。
（２） 前記被洗浄物として、ホルダに保持された基板の洗浄を行う際に、この基板の主面が前記洗浄液の流れる方向と平行となるように前記ホルダを前記浸漬槽内に配置することを特徴とする前項（１）に記載の流水式洗浄方法。
（３） 前記ホルダに互いに平行な状態で複数並んで保持された基板に対して洗浄を行うことを特徴とする前項（１）又は（２）に記載の流水式洗浄方法。
（４） 前記基板として、磁気記録媒体用基板を洗浄することを特徴とする前項（１）〜（３）の何れか一項に記載の流水式洗浄方法。
（５） 洗浄槽内で洗浄液を層流の状態で横方向に流し、この洗浄液に被洗浄物を浸漬させて洗浄を行う流水式洗浄装置であって、
前記洗浄層内の洗浄液を供給する側に、この洗浄槽内を流れる洗浄液の流れを調整する整流板が配置され、
前記整流板には、前記洗浄液を供給する孔部が幅方向と高さ方向とに複数並んで設けられると共に、前記洗浄槽内の底面及び両側面に沿って並ぶ少なくとも１列以上の孔部については、他の孔部よりも相対的に径を大きくしていることを特徴とする流水式洗浄装置。
（６） 前記整流板は、前記洗浄層内の前記洗浄液が供給される側の空間と、前記被洗浄物が浸漬される側の空間との間を仕切るように配置されていることを特徴する前項（５）に記載の流水式洗浄装置。
（７） 前記洗浄層内の洗浄液を排出する側に、前記供給側の整流板と一致した形状の孔部を有する整流板が、前記供給側の整流板と対向して配置されていることを特徴する前項（５）又は（６）に記載の流水式洗浄装置。
（８） 前記排出側の整流板は、前記洗浄層内の前記洗浄液が排出される側の空間と、前記被洗浄物が浸漬される側の空間との間を仕切るように配置されていることを特徴する前項（７）に記載の流水式洗浄装置。
（９） 前記被洗浄物は、ホルダに保持された基板であり、この基板の主面が前記洗浄液の流れる方向と平行となるように前記ホルダが前記浸漬槽内に配置されることを特徴とする前項（５）〜（８）の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
（１０） 前記ホルダには、前記基板が互いに平行な状態で複数並んで保持されることを特徴とする前項（５）〜（９）の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
（１１） 前記基板は、磁気記録媒体用基板であることを特徴とする前項（５）〜（１０）の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
【発明の効果】
【００１７】
以上のように、本発明によれば、被洗浄物の表面に付着した塵埃や異物などの汚染物質を効率良く除去すると共に、洗浄後にこれらの汚染物質が被洗浄物の表面に再付着するといったこと防止した洗浄能力の高い流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置を提供することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を適用した流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を模式的に示している場合があり、各部の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００１９】
本実施形態では、例えば図１及び図２に示すような本発明を適用した流水式洗浄装置１を用いて、ハードディスクドライブに搭載される磁気記録媒体用の基板（被洗浄物）Ｗを洗浄する場合を例に挙げて説明する。
【００２０】
なお、基板Ｗを洗浄する洗浄液Ｌとしては、基本的に純水が使用されるが、それ以外にも化学的な処理等が施された処理水などを使用することができる。具体的に、洗浄液Ｌとしては、例えば、純水や超純水の他に、イソプロピルアルコール等の有機溶剤、界面活性剤を含む薬液洗剤、アノード水、カソード水、純水で低濃度に希釈した酸性溶液やアルカリ性溶液、オゾン水や水素水などを挙げることができる。そして、これらの洗浄液Ｌは、洗浄対象となる基板（被洗浄物）Ｗに応じて適宜選択して使用することが可能である。
【００２１】
本発明を適用した流水式洗浄装置１は、図１及び図２に示すように、基板Ｗを保持したホルダ５０を洗浄液Ｌに浸漬させて基板Ｗの洗浄を行う洗浄槽２を備えている。
【００２２】
ホルダ５０には、中心孔が形成された円盤状の基板Ｗが互いに平行な状態で複数並んで保持されている。また、各基板Ｗは、ホルダ５０に設けられた一対の支持プレート５１ａ，５１ｂによって、その中心孔を通る鉛直方向の中心線を挟んだ両側の外周部が支持されている。なお、これら一対の支持プレート５１ａ，５１ｂには、各基板Ｗの外周部が係合されるＶ字状の溝部（図示せず。）が設けられている。
【００２３】
各基板Ｗは、これら一対の支持プレート５１ａ，５１ｂに支持されることによって、縦置き状態（基板Ｗの主面が鉛直方向と平行となる状態）でホルダ５０に保持されている。そして、このホルダ５０は、各基板Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行となるようにして、洗浄槽２の底面上に配置されている。なお、本例では、直径２．５インチの基板Ｗを約５ｍｍ間隔で１列に５０枚程度並べてホルダ５０に保持している。
【００２４】
洗浄槽２は、長方形を為す底壁２ａと、底壁２ａの周囲から立ち上がる４つの側壁２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅと、底壁２ａと対向する上面の開口部２ｆとを有して、全体が略直方体状に形成されている。
【００２５】
また、洗浄槽２の底壁２ａには、洗浄液Ｌを供給する供給管３と、洗浄液Ｌを排出する排出口４とが設けられている。このうち、供給管３は、洗浄液Ｌの流れる長手方向の上流側の側壁２ｂの近傍に沿って複数並んで設けられている。また、供給管３は、その先端の供給口を側壁２ｂ側に向けて洗浄液Ｌを供給することで、層流をより安定的に発生させることができる。一方、排出口４は、洗浄液Ｌの流れる長手方向の下流側の側壁２ｄの近傍に沿って複数並んで設けられている。
【００２６】
また、洗浄槽２の上流側には、この洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの流れを調整する整流板５が、上記供給口３から供給された洗浄液Ｌが貯留される貯留空間Ｓ１と、上記ホルダ５０が浸漬される浸漬空間Ｓ２との間を仕切るように設けられている。一方、洗浄槽２の下流側には、上記浸漬空間Ｓ２と、上記排出口４から洗浄液Ｌが排出される排出空間Ｓ３との間を仕切るように、整流板６が設けられている。
【００２７】
このうち、供給側の整流板５は、貯留空間Ｓ１から浸漬空間Ｓ２に向かって流れる洗浄液Ｌの流れを整流し、浸漬空間Ｓ２内の洗浄液Ｌを層流の状態で横方向（水平方向）に流すためのものであり、洗浄液Ｌを供給する孔部５ａ，５ｂが幅方向と高さ方向とに複数並んで設けられた多孔板からなる。
【００２８】
また、この整流板５に設けられた複数の孔部５ａ，５ｂのうち、洗浄槽２の底壁２ａ及び側壁２ｃ，２ｅに沿って並ぶ少なくとも１列以上の孔部５ｂについては、他の孔部５ａよりも相対的に径が大きくなっている。
【００２９】
具体的に、この流水式洗浄装置１では、図３に示すように、洗浄槽２内の底壁２ａ及び側壁２ｃ，２ｅに沿って並ぶ孔部５ｂの径を他の孔部５ａよりも大きくすることによって、図１及び図２に示すように、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの全体の流れＦ１に対して、この洗浄槽２内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液Ｌの一部の流れＦ２（流速）が速くなるように調整されている。
【００３０】
なお、層流とは、流れの流線が線状を為して整然と流れる状態のことを言う。本例では、このような層流状態の洗浄液Ｌを一定の流速（例えば１０ｍｍ／ｓｅｃ程度）で横方向（水平方向）に流している。これに対して、洗浄槽２内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液Ｌの流速は、この洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの全体の流れよりも、好ましくは２〜４倍（例えば、２０〜４０ｍｍ／ｓｅｃ）程度速くなっている。
【００３１】
一方、排出側の整流板６は、洗浄槽２内を層流の状態で流れる洗浄液Ｌの流れをより安定化させるためのものであり、洗浄液Ｌを排出する孔部６ａ，６ｂが幅方向と高さ方向とに複数並んで設けられた多孔板からなる。
【００３２】
また、排出側の整流板６は、上記図３に示す供給側の整流板５と一致した形状の孔部６ａ，６ｂを有して、上記供給側の整流板５と対向して配置されている。すなわち、この排出側の整流板６に設けられた複数の孔部６ａ，６ｂのうち、洗浄槽２の底壁２ａ及び側壁２ｃ，２ｅに沿って並ぶ少なくとも１列以上の孔部６ｂについては、他の孔部６ａよりも相対的に径が大きくなっている。
【００３３】
なお、本例では、基板Ｗとして、例えば大きさが１０ｃｍ程度の磁気記録媒体用基板を洗浄する場合には、上記整流板５，６に設けられた複数の孔部５ａ，５ｂ、６ａ，６ｂのうち、通常の孔部５ａ，６ａの径が例えばφ０．５ｃｍであるのに対し、洗浄槽２内の底壁２ａ及び側壁２ｄ，２ｅに沿って並ぶ孔部５ｂ，６ｂの径が例えばφ１ｃｍである。また、各孔部５ａ，５ｂ、６ａ，６ｂの幅方向及び高さ方向における中心間距離はそれぞれ例えば２ｃｍである。
【００３４】
一方、例えば大きさが３０ｃｍ〜１ｍ程度のスパッタ装置のシールド板を洗浄する場合には、上記整流板５，６に設けられた複数の孔部５ａ，５ｂ、６ａ，６ｂのうち、通常の孔部５ａ，６ａの径が例えばφ５ｃｍであるのに対し、洗浄槽２内の底壁２ａ及び側壁２ｄ，２ｅに沿って並ぶ孔部５ｂ，６ｂの径が例えばφ１０ｃｍである。また、各孔部５ａ，５ｂ、６ａ，６ｂの幅方向及び高さ方向における中心間距離はそれぞれ例えば２０ｃｍである。
【００３５】
また、排出側の整流板６の高さは、洗浄液Ｌの一部を上部からオーバーフローさせるように、上記４つの側壁２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅよりも低く設定されている。
【００３６】
さらに、この流水式洗浄装置１には、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌを循環的に再使用するため、排出口４から排出された洗浄液Ｌが貯留されるリザーバータンク７と、リザーバータンク７に貯留された洗浄液Ｌを供給口３に圧送するためのポンプ８と、ポンプ８により圧送された洗浄液Ｌを浄化するフィルタ９とが設けられている。
【００３７】
本発明を適用した流水式洗浄方法は、以上のような構造を有する流水式洗浄装置１を用いて、ホルダ５０に保持された複数の基板Ｗに対する洗浄を行う。具体的に、この流水式洗浄装置１を用いた流水式洗浄方法では、洗浄槽２の浸漬空間Ｓ２内で洗浄液Ｌを層流の状態で水平方向に流しながら、この浸漬空間Ｓ２内の洗浄液Ｌに複数の基板Ｗを保持したホルダ５０を浸漬させる。
【００３８】
このとき、洗浄槽２内では、ホルダ５０に保持された各基板Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行とされて、これら各基板Ｗの間を層流状態の洗浄液Ｌが流れることになる。これにより、各基板Ｗの表面が洗浄液Ｌにより洗浄されて、これら各基板Ｗの表面に付着した塵埃や異物などの汚染物質が除去される。
【００３９】
また、この流水式洗浄装置１では、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの全体の流れＦ１に対して、この洗浄槽２内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液Ｌの一部の流れＦ２が速くなっている。これにより、上述した汚染物質を洗浄槽２内に滞留させることなく、この洗浄槽２の外側へと速やかに排出させることができる。したがって、本発明によれば、上述した汚染物質が乱流により巻き上げられて、基板Ｗに再付着するといったことを低減することができる。
【００４０】
以上のようにして、本発明では、基板の表面に付着した塵埃などを効率良く除去すると共に、洗浄後にこれらが基板の表面に再付着することを防止した高度な基板洗浄を行うことが可能である。
【００４１】
なお、本発明は、上記実施形態のものに必ずしも限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【００４２】
例えば、上記図３に示す整流板５，６には、通常の孔部５ａ，６ａよりも径が拡大された孔部５ｂ，６ｂが、洗浄槽２内の底面及び両側面の側から、それぞれ２列並んで設けられた構成となっているが、径が拡大された孔部５ｂ，６ｂが並ぶ列の数については、少なくとも１列以上とし、その上限については、上記ホルダ５０を洗浄槽２の底面上に配置したときに、この孔部３ｂから供給された洗浄液Ｌによって流速が高められた一部の流れが、ホルダ５０に保持された各基板Ｗの間を直接通過しない数とすることが好ましい。
【００４３】
すなわち、上記ホルダ５０に保持された各基板Ｗの間は、通常の孔部３ａから供給される層流状態の洗浄液Ｌが流れるようにし、その外側を流速が高められた洗浄液Ｌが流れるようにすることが好ましい。本発明では、このような理由に基づいて、通常の孔部３ａに対する径が拡大された孔部３ｂの配置や数、径などが設定されている。
【００４４】
なお、この流水式洗浄装置１では、洗浄液Ｌを層流の状態で横方向に流すことができる構成であれば、上述した整流板５の他にも、層流発生手段として、例えば多孔質板や不織布などの通水抵抗を有した緩衝材等を使用してもよく、これらを組み合わせて洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの流れを適宜調整することも可能である。
【００４５】
さらに、本発明では、基板Ｗに対する洗浄能力を高めるため、浸漬空間Ｓ２内の洗浄液Ｌに超音波振動（例えば、２００ｋＨｚで５００Ｗ程度）を加えることも可能である。
【００４６】
また、上記ホルダ５０は、一対の支持プレート５１ａ，５１ｂにより各基板Ｗの外周部を２点で支持する構成となっているが、このような構成に限らず、各基板Ｗを支持する外周部の位置や点数などについては、適宜変更して実施することが可能であり、例えば各基板Ｗの外周部を３点で支持したり、４点で支持したりすることが可能である。
【００４７】
また、各基板Ｗの外周部を支持する部材についても、上記支持プレート５１ａ，５１ｂのようなものに限定されるものではなく、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌの流れを乱さないものであれば、その形状等については適宜変更して実施することが可能である。
【００４８】
また、本発明は、上述した磁気記録媒体用の基板Ｗについて、表面処理工程等の後に表面に付着した塵埃や異物などを除去する工程とは別に、例えば磁性膜等を成膜した後や、潤滑剤を塗布する前の磁気記録媒体の洗浄にも適用することが可能である。
【００４９】
さらに、本発明は、上述した磁気記録媒体用の基板Ｗを洗浄する場合に限らず、平板状の被洗浄物を洗浄する場合に好適に用いることが可能であるが、上記流水式洗浄装置１を用いて洗浄可能なものであれば、被洗浄物については特に限定されるものではない。
【実施例】
【００５０】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。
【００５１】
（実施例１）
実施例１では、上記図１，２に示す流水式洗浄装置１を用いて、実際に基板Ｗの洗浄を行った。具体的には、長さ２００ｃｍ、幅１００ｃｍ、深さ２００ｃｍのＳＵＳ３０４製の洗浄槽２を用い、この洗浄槽２の上流側に貯留空間Ｓ１と浸漬空間Ｓ２との間を仕切るように幅１００ｃｍ、高さ２００ｃｍの整流板５を配置した。この供給側の整流板５には、複数の孔部５ａ，５ｂが幅方向に４列、高さ方向に９列並んで設けられており、このうち、通常の孔部５ａの径をφ５ｃｍとしたのに対し、洗浄槽２内の底壁２ａ及び側壁２ｄ，２ｅに沿って並ぶ１列の孔部５ｂの径をφ１０ｃｍとした。また、各孔部５ａ，５ｂの幅方向及び高さ方向における中心間距離はそれぞれ２０ｃｍである。一方、洗浄槽２の下流側には、供給側の整流板５と一致した形状の孔部６ａ，６ｂを有する整流板６を、浸漬空間Ｓ２と排出空間Ｓ３との間を仕切るように配置した。また、洗浄槽２の底面の外側には周波数３８ｋＨｚ、出力１２００Ｗの超音波発信器を配置した。
【００５２】
そして、この洗浄槽２内に、１ミクロンから５０ミクロンの粉体が付着した洗浄力評価用のテストピース（外径５０ｍｍ、厚み３ｍｍの円盤状の基板）Ｗを５０枚用意し、これを洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌに浸漬し、１０分間の洗浄を行った。
【００５３】
なお、洗浄液Ｌには純水を使用し、水温を４５℃±５℃とした。また、洗浄槽２内を層流の状態で流れる洗浄液Ｌの平均流速（被洗浄物を浸漬しない状態での流速）は３ｍ／分とした。フィルタ９には３ミクロンフィルタと１ミクロンフィルタとを２段で使用し、洗浄槽２内を流れる洗浄液Ｌを循環的に再使用した。
【００５４】
実施例１では、洗浄後にテストピースＷに残存する粉体の割合を評価したところ、粉体の平均除去率は、約９９．８％であった。
【００５５】
（比較例１）
比較例１では、供給側及び排出側の整流板５，６に設けられた孔部５ａ，６ａの径を全てφ５ｃｍとした以外は、実施例１と同様に５０枚のテストピースＷに対して洗浄を行った。そして、洗浄後にテストピースＷに残存する粉体の割合を評価したところ、粉体の平均除去率は、約９７．８％であり、実施例１の場合よりも洗浄能力が劣ることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】図１は、本発明を適用した流水式洗浄装置の構成を示す平面図である。
【図２】図２は、本発明を適用した流水式洗浄装置の構成を示す断面図である。
【図３】図３は、整流板の構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１…流水式洗浄装置 ２…洗浄槽 ３…供給口 ４…排出口 ５…供給側の整流板 ５ａ…通常の孔部 ５ｂ…経が拡大された孔部 ６…排出側の整流板 ６ａ…通常の孔部 ６ｂ…径が拡大された孔部 ７…リザーバータンク ８…ポンプ ９…フィルタ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄槽内で洗浄液を層流の状態で横方向に流し、この洗浄液に被洗浄物を浸漬させて洗浄を行う流水式洗浄方法であって、
前記洗浄槽内を流れる洗浄液の全体の流れに対して、前記洗浄槽内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液の一部の流れを速くすることを特徴とする流水式洗浄方法。
【請求項２】
前記被洗浄物として、ホルダに保持された基板の洗浄を行う際に、この基板の主面が前記洗浄液の流れる方向と平行となるように前記ホルダを前記浸漬槽内に配置することを特徴とする請求項１に記載の流水式洗浄方法。
【請求項３】
前記ホルダに互いに平行な状態で複数並んで保持された基板に対して洗浄を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載の流水式洗浄方法。
【請求項４】
前記基板として、磁気記録媒体用基板を洗浄することを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の流水式洗浄方法。
【請求項５】
洗浄槽内で洗浄液を層流の状態で横方向に流し、この洗浄液に被洗浄物を浸漬させて洗浄を行う流水式洗浄装置であって、
前記洗浄層内の洗浄液を供給する側に、この洗浄槽内を流れる洗浄液の流れを調整する整流板が配置され、
前記整流板には、前記洗浄液を供給する孔部が幅方向と高さ方向とに複数並んで設けられると共に、前記洗浄槽内の底面及び両側面に沿って並ぶ少なくとも１列以上の孔部については、他の孔部よりも相対的に径を大きくしていることを特徴とする流水式洗浄装置。
【請求項６】
前記整流板は、前記洗浄層内の前記洗浄液が供給される側の空間と、前記被洗浄物が浸漬される側の空間との間を仕切るように配置されていることを特徴する請求項５に記載の流水式洗浄装置。
【請求項７】
前記洗浄層内の洗浄液を排出する側に、前記供給側の整流板と一致した形状の孔部を有する整流板が、前記供給側の整流板と対向して配置されていることを特徴する請求項５又は６に記載の流水式洗浄装置。
【請求項８】
前記排出側の整流板は、前記洗浄層内の前記洗浄液が排出される側の空間と、前記被洗浄物が浸漬される側の空間との間を仕切るように配置されていることを特徴する請求項７に記載の流水式洗浄装置。
【請求項９】
前記被洗浄物は、ホルダに保持された基板であり、この基板の主面が前記洗浄液の流れる方向と平行となるように前記ホルダが前記浸漬槽内に配置されることを特徴とする請求項５〜８の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
【請求項１０】
前記ホルダには、前記基板が互いに平行な状態で複数並んで保持されることを特徴とする請求項５〜９の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
【請求項１１】
前記基板は、磁気記録媒体用基板であることを特徴とする請求項５〜１０の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
【請求項１】
洗浄槽内で洗浄液を層流の状態で横方向に流し、この洗浄液に被洗浄物を浸漬させて洗浄を行う流水式洗浄方法であって、
前記洗浄槽内を流れる洗浄液の全体の流れに対して、前記洗浄槽内の底面及び両側面に沿って流れる洗浄液の一部の流れを速くすることを特徴とする流水式洗浄方法。
【請求項２】
前記被洗浄物として、ホルダに保持された基板の洗浄を行う際に、この基板の主面が前記洗浄液の流れる方向と平行となるように前記ホルダを前記浸漬槽内に配置することを特徴とする請求項１に記載の流水式洗浄方法。
【請求項３】
前記ホルダに互いに平行な状態で複数並んで保持された基板に対して洗浄を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載の流水式洗浄方法。
【請求項４】
前記基板として、磁気記録媒体用基板を洗浄することを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の流水式洗浄方法。
【請求項５】
洗浄槽内で洗浄液を層流の状態で横方向に流し、この洗浄液に被洗浄物を浸漬させて洗浄を行う流水式洗浄装置であって、
前記洗浄層内の洗浄液を供給する側に、この洗浄槽内を流れる洗浄液の流れを調整する整流板が配置され、
前記整流板には、前記洗浄液を供給する孔部が幅方向と高さ方向とに複数並んで設けられると共に、前記洗浄槽内の底面及び両側面に沿って並ぶ少なくとも１列以上の孔部については、他の孔部よりも相対的に径を大きくしていることを特徴とする流水式洗浄装置。
【請求項６】
前記整流板は、前記洗浄層内の前記洗浄液が供給される側の空間と、前記被洗浄物が浸漬される側の空間との間を仕切るように配置されていることを特徴する請求項５に記載の流水式洗浄装置。
【請求項７】
前記洗浄層内の洗浄液を排出する側に、前記供給側の整流板と一致した形状の孔部を有する整流板が、前記供給側の整流板と対向して配置されていることを特徴する請求項５又は６に記載の流水式洗浄装置。
【請求項８】
前記排出側の整流板は、前記洗浄層内の前記洗浄液が排出される側の空間と、前記被洗浄物が浸漬される側の空間との間を仕切るように配置されていることを特徴する請求項７に記載の流水式洗浄装置。
【請求項９】
前記被洗浄物は、ホルダに保持された基板であり、この基板の主面が前記洗浄液の流れる方向と平行となるように前記ホルダが前記浸漬槽内に配置されることを特徴とする請求項５〜８の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
【請求項１０】
前記ホルダには、前記基板が互いに平行な状態で複数並んで保持されることを特徴とする請求項５〜９の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
【請求項１１】
前記基板は、磁気記録媒体用基板であることを特徴とする請求項５〜１０の何れか一項に記載の流水式洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１０−１３１５２４（Ｐ２０１０−１３１５２４Ａ）
【公開日】平成２２年６月１７日（２０１０．６．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３０９９１２（Ｐ２００８−３０９９１２）
【出願日】平成２０年１２月４日（２００８．１２．４）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年６月１７日（２０１０．６．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１２月４日（２００８．１２．４）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
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