【課題】切削加工後のワークを傷付けずに、ワーク表面の付着物を効果的に除去して、洗浄品質を向上させる。
【解決手段】ノズル４１に接続した給水管４５には、純水中にマイクロナノバブルＢを発生させるマイクロナノバブル発生器４９が接続され、ノズル４１の先端はワークＷの被洗浄部近傍に配置されている。ノズル４１の吐出口部には圧力維持バルブ５１が設けられ、マイクロナノバブル発生器４９で生成した加圧過飽和状態のマイクロナノバブルＢを含む洗浄水Ｃが、洗浄中にノズル４１から吐出して、ワークＷの被洗浄部に至近距離から供給する。 （もっと読む）

【課題】従来のような二流体ノズルや高圧ジェットを用いた場合、たとえば、パターン等が形成された基板を洗浄する場合、洗浄液の供給される力によって、基板上に形成されたパターンに損傷が生じる場合があり、一方、損傷を防止するために供給する力を抑制すれば、洗浄を十分に行えないという問題があった。
【解決手段】微細気泡を含む洗浄液を用いて基板の洗浄を行う。洗浄液を供給するノズルの先端を、基板上に形成された液膜の液面より低い位置に配置し、ノズルの先端部分付近（微細気泡発生領域）を洗浄液が通過する際に、洗浄液中に微細気泡が発生するように構成する。 （もっと読む）

【課題】ワックス等の親水性の低い付着物を、水洗いによって簡単に洗い流すことを可能とする食物表面付着物の親水化方法を提供する。
【解決手段】静電霧化装置Ａの霧化電極に水を供給し、供給された前記水に電圧を印加してナノメータサイズの帯電微粒子水を発生させる。この帯電微粒子水を、表面に付着物１５が塗布された処理対象物１である食物に所定時間噴霧することで、付着物１５の親水性を向上させる。これにより、その後の水洗いによって付着物１５を簡単に洗い落とすことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】精密工作機械の切削加工による加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置を提供する。
【解決手段】精密工作機械の切削加工により加工部品に付着した切り粉及び切削油を水中洗浄ならびに空中洗浄で除去する切削加工部品洗浄装置１０であって、前記被洗浄物にエアーブローを施す空圧除去領域部３０と、前記被洗浄物を水中で洗浄する水中洗浄領域部と、前記空圧除去領域部と前記水中洗浄領域部４０の間を上下に移動する昇降領域部５０と、該昇降領域部及び前記空圧除去領域部３０を制御する制御領域部７０とを、其々本体領域部に配設した構成から成る手段を採る。 （もっと読む）

【課題】液処理工程中に基板を上方から支持する基板支持部、あるいは基板とともに回転する天板を基板へ供給されるリンス液を用いて洗浄する。
【解決手段】液処理装置１００はウエハＷを上方から支持する回転自在の基板支持部１０と、基板支持部１０の回転中心に設けられ少なくともリンス液をウエハＷに対して供給するトッププレートノズル１０ｎとを備えている。トッププレートノズル１０ｎは基板支持部１０に対して上下方向に移動可能となっており、トッププレートノズル１０ｎを基板支持部１０から離間した状態でトッププレートノズル１０ｎからリンス液をウエハＷに対して供給する。トッププレートノズル１０ｎを基板支持部１０に接近させた状態で、トッププレートノズル１０ｎからリンス液を基板支持部１０の下面に供給して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 マイクロバブルの洗浄液中での分散性を向上させた洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液の構成を、洗浄液を溜める洗浄槽と、超音波振動を供給する超音波振動子と、所定の方向の流れを形成するようにマイクロバブルを含有した洗浄液を供給する洗浄液供給系とし、超音波振動子を洗浄槽の内部底面との間に隙間を有し且つ所定の方向の洗浄液の流れと所定の方向とは異なる方向の洗浄液の流れの境界位置に超音波振動子を配置し、洗浄液供給系がこの隙間に向けて洗浄液を供給することとする。 （もっと読む）

【課題】雰囲気が置換される空間の体積を減少させることができ、基板のエッチング量を面内全域で低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、内部空間Ｓ１を有するチャンバー２と、チャンバー２内で基板Ｗを保持して回転軸線Ａ１まわりに回転させるスピンチャック３と、チャンバー２内で基板Ｗの上面に対向する遮断板４と、遮断板４と基板Ｗとの間に不活性ガスを供給するガス供給機構５と、基板Ｗに対して傾いた方向に処理液を吐出することにより、基板Ｗの上面中央部に斜めに処理液を供給する処理液ノズル２９と、処理液ノズル２９に供給される処理液から酸素を脱気する脱気手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】液滴が衝突する基板の各位置での膜厚のばらつきを低減し、基板の処理品質を向上させること。
【解決手段】複数の噴射口２８からそれぞれ基板の上面内の複数の噴射位置に向けて処理液の液滴が噴射される。これと並行して、複数の吐出口３５からそれぞれ基板の上面内の複数の着液位置に向けて保護液が吐出される。複数の吐出口３５から吐出された保護液は、複数の液膜を形成する。複数の液膜は、それぞれ異なる噴射位置を覆う。処理液の液滴は、保護液の液膜に覆われている噴射位置に向けて噴射される。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板処理方法および基板処理装置において、パーティクル除去効率を向上させる。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆに、ＤＩＷにポリスチレン微粒子Ｐを分散させた処理液Ｌによる液膜ＬＰを形成する。冷却ガス吐出ノズル３から冷却ガスを吐出させながら該ノズルを基板Ｗに対し走査移動させて、液膜ＬＰを凍結させる。液膜中に混入された微粒子Ｐが凝固核となって氷塊ＩＣの生成が促進されるため、液相から固相への相変化時間を短くしてパーティクル除去効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】水シミの発生を充分に抑制でき、しかも、安定に連続運転できる水切り乾燥方法を提供する。
【解決手段】処理槽４内の第１の処理液に、物品Ｗを浸漬させたまま、処理槽４内に第２の処理液を供給し、処理槽４の上部から第１の処理液を排出し、処理槽４内の第１の処理液を第２の処理液に置換する。物品Ｗを第２の処理液に浸漬させた状態に維持した後、第２の処理液から物品Ｗを引き上げる。この際に、第１の処理液としてアルコール水溶液を用い、第２の処理液として、フッ素系溶剤とアルコールとの混合液を用いる。 （もっと読む）

【課題】ジェット洗浄だけを行う洗浄モードと浸漬洗浄とジェット洗浄の双方を行う洗浄モードとを切り換え可能にする。
【解決手段】搬送コンベヤ１８によって被洗浄物Ｆを搬送する搬送経路に浸漬洗浄部８と噴射洗浄部１０が設けられている。浸漬洗浄部８には被洗浄物Ｆを浸漬する浸漬槽２４とサブタンク２６が配置されている。浸漬槽２４内の洗浄液とサブタンク２６内の洗浄液は互いに移送可能になっており、浸漬洗浄を行う洗浄モード時には、サブタンク２６内の洗浄液を浸漬槽２４に移送して、搬送コンベヤ１８上の被洗浄物Ｆが洗浄液中を通過するように浸漬槽２４の水位を高くし、浸漬洗浄をしない洗浄モードでは、浸漬槽２４内の洗浄液をサブタンク２６に移して、浸漬槽２４の水位を低くし、搬送コンベヤ１８により搬送される被洗浄物Ｆが洗浄液中を通らないようにする。 （もっと読む）

【課題】薬液の消費量を抑えながら、基板の処理を均一に行う。
【解決手段】基板１を移動しながら、薬液２が入った薬液タンク２３から、可変出力ポンプ２５及び制御弁８０が設けられた配管２４を介して、薬液ノズル２１へ薬液２を供給し、薬液ノズル２１から基板１へ薬液２を吐出する。薬液ノズル２１から基板１へ吐出した薬液２を回収して薬液タンク２３へ戻し、薬液タンク２３から薬液ノズル２１へ供給する薬液２の濃度を検出し、薬液２の濃度の検出結果に応じ、可変出力ポンプ２５を制御し又は制御弁８０を作動させて、薬液タンク２３から配管２４を介して薬液ノズル２１へ供給する薬液２の量を変更する。 （もっと読む）

【課題】液処理の工程に応じて基板の上方における気流の状態を最適化可能な液処理装置、および液処理方法を提供すること。
【解決手段】基板Ｗを液処理する液処理装置１において、基板Ｗを水平に支持し、回転可能な支持部材１０と、支持部材１０の外周部１３との間に環状間隙ＧＰを形成する間隙形成部材２０と、基板Ｗに上方から処理液を供給する液供給部材３０と、環状間隙ＧＰを取り囲み、環状間隙ＧＰを介して、回転する基板Ｗから振り切られる処理液を回収するカップ４０と、間隙形成部材２０を昇降させる昇降機構１２２とを有する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物における洗浄対象部分の形態が複雑な場合であっても、超音波振動を利用することによって効果的に洗浄することができ、かつ、被洗浄物における洗浄対象部分のみを選択的に洗浄することができる部分洗浄装置およびそれを用いた部分洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄物を下方から部分的に洗浄するための部分洗浄装置等であって、内部に超音波洗浄槽およびエアー吹き付けノズルを有し、上方に第１の開口部を有するハウジングと、ハウジングにおける第１の開口部と連通した開口部を形成するための第２の開口部を有し、ハウジングに対して取り外し可能に固定された弾性マスキング部材と、を備え、被洗浄物に超音波振動を付与しつつ、当該被洗浄物を、超音波洗浄槽の開口部よりオーバーフローさせた洗浄液に対して、第１および第２の開口部を介して接触させることにより洗浄した後、エアー吹き付けノズルにてエアーを吹き付ける。 （もっと読む）

【課題】簡素な手法により２つのカップを一体に上昇させることが可能な液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置１では、被処理基板の回転保持部２１を囲むように設けられた第１、第２のカップ５１、５２は、回転する被処理基板Ｗから飛散した処理液を下方側へ案内し、第１の駆動部６１０及び第２の駆動部６２０は、処理液を受け止める位置と、その下方側の位置との間で第１のカップ５１及び第２のカップ５２昇降させる。制御部７は、第１、第２のカップ５１、５２の同時上昇時、第１のカップ５１の上昇速度を第２のカップ５２の上昇速度よりも大きくし、第１のカップ５１またはその第１の昇降部材は、前記第２のカップ５２またはその第２の昇降部材に下方側から重なり合って、第１の駆動部の駆動力を伝達させることにより、これら第１のカップ５１と第２のカップ５２とを同時に上昇させる （もっと読む）

【課題】基板のダメージを抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｗを水平に保持するスピンチャックと、基板Ｗの上面内の噴射領域Ｔ１に吹き付けられる処理液の液滴を生成する液滴ノズル５と、基板Ｗを保護する保護液を基板Ｗの上面に向けて吐出する保護液ノズル６とを含む。保護液ノズル６は、保護液が基板Ｗの上面に沿って噴射領域Ｔ１の方に流れるように基板Ｗの上面に対して斜めに保護液を吐出し、噴射領域Ｔ１が保護液の液膜で覆われている状態で処理液の液滴を噴射領域Ｔ１に衝突させる。 （もっと読む）

【課題】基板の全面を十分に洗浄することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板を保持して回転させるスピンチャック２と、スピンチャック２に保持された基板Ｗに向けて処理液の液滴を吐出するノズル４とを含む。ノズル４には、処理液の液滴を吐出する複数の吐出口３３が一列に並べられた列Ｌ１が複数列配置されている。ノズル４はノズルアーム１８に保持されて、スピンチャック２に保持された基板Ｗの主面に垂直な垂直方向Ｄ１から見たときに基板Ｗの主面の回転中心Ｃ１を通る軌跡Ｘ１に沿って移動する。ノズル４は、垂直方向Ｄ１から見たときに複数の列Ｌ１と軌跡Ｘ１とが交差するようにノズルアーム１８に保持される。 （もっと読む）

【課題】金属膜が形成された基板においてパターンの倒壊を抑制すること。
【解決手段】水を含むリンス液が、金属膜が形成された基板に供給される（Ｓ２）。その後、水酸基を含まない第１溶剤が、基板に供給されることにより、基板に保持されている液体が第１溶剤に置換される（Ｓ４、Ｓ５）。その後、水酸基を含まない第２溶剤を含み金属を疎水化する疎水化剤が、基板に供給されることにより、基板に保持されている液体が疎水化剤に置換される（Ｓ６）。 （もっと読む）

【課題】洗浄液を少量に抑えながら簡便に基板を洗浄する技術を提供すること。
【解決手段】水平姿勢にて水平に移動している基板Ｇの上面に洗浄ノズル２より洗浄液Ａを供給した後、その基板Ｇを、基板Ｇの移動路における洗浄ノズル２の下流側に設けられた磁場形成部材３、４の間を通過させる。このとき、基板Ｇの表面上に供給された洗浄液Ａは、反磁性であるため、磁場形成部材３、４の間に形成された強力な磁場の作用により通過を阻止される。これにより基板Ｇの表面上の液切りを行って洗浄液Ａを除去するようにしている。 （もっと読む）

【課題】生物脱硫槽内の充填材に付着した汚泥を除去し、生物脱硫槽の脱硫能力の低下を防止する精製システムの洗浄方法を提供する。
【解決手段】生物脱硫槽１１と、給水管３５と、給水弁３６と、排水管３７と、排水弁３８と、生物脱硫槽１１の側面と接続され充填層３１下部に空気を圧送する空気圧送管５１と、空気圧送管５１の開閉を行う空気圧送弁５２と、生物脱硫槽１１の側面であって充填層３１の上部と接続された上部排水管５６と、上部排水管５６の開閉を行う上部排出弁５７と、制御装置４１とを備える精製システム２の洗浄方法であって、制御装置４１によって、排水弁３８を一定時間閉状態にして、生物脱硫槽１１内の充填層３１の上面以上の高さまで微生物を含む水を貯溜して静置する第一工程と、空気圧送弁５２を一定時間開状態にして、生物脱硫槽１１内に貯溜された微生物を含む水内に空気を圧送する第二工程とを行う。 （もっと読む）