【課題】穴を有する洗浄対象物を洗浄した場合の洗浄性能を容易に評価することのできる洗浄性能評価用部材及び洗浄性能評価方法を提供する。
【解決手段】模擬的な穴部（５０）を形成した洗浄性能評価用部材（１０）を洗浄槽（７２）内の洗浄液（７０）に浸漬し、洗浄槽（７２）内の洗浄液（７０）に超音波を照射しながら洗浄槽（７２）内の減圧及び大気開放を繰り返して洗浄性能評価用部材（１０）を洗浄し、この洗浄工程終了後に洗浄性能評価用部材（１０）の洗浄性能を液浸透性能又は液交換性能に基づいて評価する。 （もっと読む）

【課題】貫通孔内に所望の処理を施すことができる処理方法および処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置１は、内部に液体Ｌが供給されるとともに、供給された前記液体Ｌに基板２を浸積させる槽１１を備える。処理装置１は、第一供給口１１１Ａから第一排出口１１１Ｂに向かって液体Ｌを流すとともに、第二供給口１１２Ａから第二排出口１１２Ｂに向かって液体Ｌを流すと、液体Ｌが、鉛直方向上方側から下方側に向かって前記基板２の一方の基板面および他方の基板面に沿って流れるように構成され、基板２の一方の面における液体Ｌの平均流速と、他方の面における液体Ｌの平均流速とを異ならせる調整手段を有する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成でトレーや焼肉に使用する金網および鉄板等に付着する油、カーボン状の汚れを傷つけることなく洗浄する洗浄方法およびこの洗浄方法を用いた洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一方に傾斜した底板２を有し、内部に被洗浄物載置用のメッシュ板３と洗浄溶液加熱用のヒータ４とを備えた洗浄槽１と、この洗浄槽１の側面に前記ヒータ４の温度を制御する温度制御器７と前記洗浄溶液８の供給器９と洗浄溶液上面の浮遊汚物および前記底板２に沈殿した洗浄剥離汚物を排出する排出管１１および１２を配設した洗浄装置内に、１０重量％の塩基性水溶性塩よりなるイオン洗浄溶液を水１リットルに対して３〜３００グラム混合した洗浄溶液８を満たし、この洗浄溶液８を３０〜９０℃に加熱すると共に被洗浄物を３０分以上浸漬するように構成したものである。 （もっと読む）

【課題】 製造工程時に使用する装置から溶出する鉄イオンに代表される金属イオンに由来するパーティクルに対して優れた洗浄性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつ再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 オキシカルボン酸（Ａ）とｐＨ６．０における三価の鉄イオンに対するキレート安定度定数の対数値が７．０以上であって該オキシカルボン酸以外のキレート剤（Ｂ）およびアルカノールアミン（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】異物除去の効率を向上できる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１は、超音波を発する振動子１１と、紫外線を通過する材料により形成され、振動子１１が発する超音波を、異物と化学反応する機能水３によって覆われた基板表面２ａに対して、基板表面２ａに対向するように配置されたホーン底部１３から伝達するホーン部１２と、ホーン部１２の内部に配置され、ＵＶ光を発光するＵＶ光源２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アニオン性ポリマー0.01〜20質量％、（Ｂ）キレート剤：0.01〜30質量％、（Ｃ）水：40〜99.9質量％を含む水溶性洗浄剤組成物であって、前記アニオン性ポリマー（Ａ）は、（Ａ−１）炭素数２〜８のエチレン系不飽和モノマーの少なくとも１種と、（Ａ−２）スルホ基（ＳＯ_３Ｈ）を含むエチレン系不飽和モノマー及びカルボキシル基（ＣＯＯＨ）を含むエチレン系不飽和モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種のアニオン性不飽和モノマーとの共重合体である、水溶性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】基板を安定的に処理することができる基板の処理方法および処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置１は、内部に液体Ｌが供給されるとともに、供給された液体Ｌに基板２を浸積させる槽１１と、槽１１内部に配置される基板２の基板面が鉛直方向に略平行となるように基板２を保持する保持部１３とを備える。処理装置１は、槽１１の供給口１１１から排出口１１２に向かって液体Ｌを流すと、液体Ｌが、鉛直方向上方側から下方側に向かって基板面に沿って流れるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】シリコーン系ハードコート付き樹脂基板に付着した水垢を、そのシリコーン系ハードコートを損傷することなく除去する洗浄剤を提供する。
【解決手段】界面活性剤と、酸性フッ化アンモニウムと、水とを含有し、上記酸性フッ化アンモニウムの含有量が、全体量の０．５〜３．０質量％である。 （もっと読む）

【課題】ＨＣＦＣの代替化合物を用いた処理液のアルコール濃度を一定に維持でき、水が付着した物品の水切り乾燥を安定して実施できる水切り乾燥方法、および水切り乾燥システムの提供を目的とする。
【解決手段】水が付着した物品と、特定の含フッ素エーテルを主成分とし、アルコール類を含む処理液４１とを接触させて物品から水を分離し、該物品を乾燥させる水切り乾燥工程と、処理液４１をエーテル層（ａ１）と水層（ｂ１）に二層分離する工程と、エーテル層（ａ１）に、前記アルコール類を含むアルコール濃度４５〜５０質量％のアルコール水溶液（ｃ）を接触させて、アルコール濃度を調整したエーテル層（ａ２）を得る工程と、前記エーテル層（ａ２）を処理液４１として供給する工程と、を有する水切り乾燥方法。また、該水切り乾燥方法を実施できる水切り乾燥システム。 （もっと読む）

【課題】洗浄ムラの低減。
【解決手段】基板Ｐに対して相対的に近くに位置するノズル３を基板Ｐに対して相対的に遠くに位置するノズル３よりも速く回動する。 （もっと読む）

【課題】冷間圧延鋼板等の鋼帯の製造工程における洗浄工程の後のリンス工程において、カルシウムとマグネシウムを除いていない水を用いながら、かつ、汚れ成分の残留、蓄積を抑止して、脱脂性、脱スマッジ性を改善することができる、鋼帯用リンス剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）アニオン性水溶性高分子及び／又はリン酸化合物、（ｂ）アルドン酸類、アミノカルボン酸類及びオキシカルボン酸類から選ばれるいずれか少なくとも１種の化合物のアルカリ金属塩及び／又はアミン塩、並びに、（ｃ）カルシウムとマグネシウムを含有する水、を混合する工程を有する方法により得られる鋼帯用リンス剤組成物であって、当該組成物における、前記（ａ）成分と（ｂ）成分の合計含有量が０．００１〜０．１重量％であり、前記（ａ）成分と（ｂ）成分の重量比（（ａ）／（ｂ））が０．６〜５であり、かつ、カルシウムとマグネシウムの合計含有量が２０〜１５０ｐｐｍである鋼帯用リンス剤組成物。 （もっと読む）

【課題】２種類以上の洗浄液を別々に使用して媒体を洗浄する場合に、それら洗浄液の再利用性を高めることができる媒体洗浄装置を提供する。
【解決手段】媒体を横方向に搬送しながら、２種類以上の洗浄液を個別に用いて媒体を洗浄する媒体洗浄装置であって、１種類の洗浄液を用いて媒体を洗浄する洗浄機構を、媒体の搬送方向に沿って複数有し、洗浄機構は、洗浄液が蓄えられる第１タンクと、第１タンク内の洗浄液が供給され、媒体に当接して洗浄する少なくとも１つの洗浄手段と、媒体の洗浄に使用された洗浄液を浄化する浄化手段と、媒体の洗浄に使用された洗浄液が蓄えられる第２タンクと、第２タンク内の洗浄液を第１タンクに供給する洗浄液供給手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】タンクから供給ローラ、回転軸及び軸受けを介して洗浄液が漏れることがない洗浄機を提供する。
【解決手段】洗浄液が注入された有底無蓋のタンクと、回転軸が水平で洗浄液に浸るように配置された供給ローラと、供給ローラの真上に平行、かつ接触するように配置され、回転軸が回転駆動される洗浄ローラと、を備え、供給ローラと洗浄ローラとの間で板状部材を洗浄する洗浄機において、洗浄ローラの回転軸の洗浄ローラの両端近傍に設けられた円盤状の洗浄ローラ側仕切り板と、供給ローラの回転軸の供給ローラの両端近傍に洗浄ローラ側仕切り板の外側と洗浄液に接触するように設けられた円盤状の供給ローラ側仕切り板と、を有する。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板の板面をノズル体によって噴射供給される処理液によって処理する際、全面を均一に処理できるようにした基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を所定方向に搬送する搬送ローラ５と、基板の搬送方向と交差する幅方向の両端部に処理液を隙間が生じることのない密の状態で均一に噴射供給する第１のノズル体２３と、基板の第１のノズル体によって処理液が供給された幅方向両端部を除く部分に処理液を基板の搬送方向及び搬送方向と交差する方向に対して隙間が生じる疎の状態で噴射供給する第２のノズル体２４を具備する。 （もっと読む）

【課題】プリント基板に付着したイオン性汚損物中のイオン成分の種類と量を分析できる汚損物の分析方法及び、プリント基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】イオン性汚損物で汚損されたプリント基板から、該イオン性汚損物質中のイオン成分を純水中に抽出させ、得られた抽出液中のイオン成分をイオンクロマトグラフィー法で測定し、検出されたイオン成分の種類と量を分析する。該方法で、プリント基板に付着したイオン成分の種類と量を分析することにより、プリント基板に付着した各イオン成分の濃度を所定値以下とするのに必要な洗浄条件を求め、この洗浄条件に従って、同様な使用条件下で汚染されたプリント基板の洗浄を行う。 （もっと読む）

基板を処理する方法及び装置において、レジスト層は基板からプロセス溶液をスプレーすることによって剥離される。基板には、先ず、主剥離モジュールにおいてプロセス溶液がスプレーされ、その後、副剥離モジュールにおいてスプレーされ、プロセス溶液は主剥離モジュールと副剥離モジュールの下の容器に集められる。少なくとも一つの容器は個々のモジュールに設けられる。プロセス溶液が主剥離モジュール内の二つの容器に集められ、先ず、壁によって第１の容器と分離した第２の容器へ直接に送られる。壁はプロセス溶液の液面より低い領域で液体が通過可能に形成されている。泡のないプロセス溶液は第１の容器から回収され、プロセス溶液は循環して再び基板を濡らすプロセスに戻る。
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【課題】焼き網の洗浄装置において、従前より各々の方法がとられ、また装置が使用されているが、１枚ごとの洗浄のために処理能力に問題があった。
【解決手段】搬送ベルト上に焼き網1枚分の移動を規制する部材を設け、その上に複数枚の焼き網を重ねた状態にて、その上部より高圧の角度を変化させ、回転した洗浄水を噴射し通過させることにより、焼き網どうしが擦り合い研磨作用を発生させ数枚同時に洗浄可能となるため処理能力を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】膜エレメント間に堆積した固形分を十分に除去することが可能な膜分離装置の洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１１は、内部に中空部７０が備えられ、且つ、先端部に中空部７０と連通して洗浄液５５を噴射する先端開口部７１が備えられるとともに、側面部に中空部７０と連通して洗浄液５５を噴射する側面開口部７２が備えられた挿入部材５３と、挿入部材５３の中空部７０に洗浄液５５を供給する供給手段と、挿入部材５３の下部先端部を先頭として膜エレメント１３間の間隙に挿入部材５３を挿入する昇降手段５４を有する。 （もっと読む）

【課題】固化した油脂分やロジンなどの樹脂分、その他付着物が付着した被洗浄面を簡単な洗浄方法により水系の洗浄液で綺麗に除去可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】印刷配線基板に対してクリーム半田を印刷するために用いたメタル版などの被洗浄面に、植物性油からなる液状の前処理油を塗布した後、アルカリ電解水からなる水系洗浄液で被洗浄面を洗浄する。また、洗浄液と圧縮空気とを噴射ノズル内において混合して、洗浄液を微細粒化しながら、この微細粒化した洗浄液を噴射ノズルから被洗浄面に向けて高速で噴き付けて被洗浄面を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクや精密印刷用の刷版など、微細なパターニングが施されている基板を、洗浄液等を使用してウェット洗浄した後、効率よく容易に乾燥させる方法及び装置を提供する。
【解決手段】温水引き下げ方式を用いたパターニング基板乾燥装置において、複数の乾燥槽を具備し、それぞれの乾燥槽にて被洗浄基板の乾燥を逐次行い、且つ、乾燥槽同士をつないでいる配管を介して引き下げ乾燥中の乾燥槽から次に乾燥を行う乾燥槽の方へ温水を供給する機構を持つ。 （もっと読む）