【課題】 内部に超音波放射面を有するノズルから液体を流出させて被洗浄部位と接触させることで超音波の伝播路を形成し、前記被洗浄部位を超音波振動で洗浄するようにしたノズルシャワー式の超音波洗浄装置において、あらゆる汚れに対応できるようにする。
【解決手段】 超音波伝達体５および超音波振動子４の中心部に管路２３を形成し、該管路２３を経て超音波放射面５ａの中心部から液体を吐出するようにし、駆動回路６は、超音波洗浄モードよりも多くの流量によって前記被洗浄部位を洗浄する高圧洗浄モードでの洗浄を可能にする。したがって、超音波洗浄モードで歯垢や皮脂等の強固に付着している汚れを除去（剥離）し、高圧洗浄モードで、前記超音波洗浄モードで剥がし取られた汚れや、食物残渣等を流し飛ばし、１台であらゆる汚れに効果的な洗浄を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、濾布の洗浄効果を良くできると共に洗浄作業効率を向上させることができる濾布洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】
平行配置された２本のガイドレール２，３の間に網状の濾布トレイ９を配置する。ガイドレール２，３を走行する台車１０に濾布トレイ９の上面に高圧洗浄水を噴射する第１のノズルヘッダー１５と濾布トレイ９の下面に高圧洗浄水を噴射する第２のノズルヘッダー１６を設ける。 （もっと読む）

【課題】 スプレーノズルにより噴射される流体の物理軌道を反映できるようにして、スプレーノズルによる被浴体の被浴性を検証する流体噴射シミュレーション方法を得る。
【解決手段】 ＴＩＮデータによる槽のモデルを作成し、この槽のモデルの各頂点をスプレーノズルからの距離及び重力軌道の数式に基づいて下方に移動させ、スプレーノズルの配置位置に配置された光源からの光により陰になる部分をレイトレーシング演算を行って、割り出し、その後、下方に移動させた槽のモデルの各頂点を元に戻して、可視化することにより、スプレーノズルから噴射される洗浄液の重力の影響を加味した物理軌道を反映した流体噴射シミュレーションを可能にしている。 （もっと読む）

【課題】ワークの各面に対して洗浄液の高速噴射がなされ、以て、切粉等の除去のための洗浄を十分且つ効率よく行なうことができる機械部品等洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】底部に複数の高速噴射ノズルを備えた洗浄槽１と、ロボットハンド先端にワーククランパー４を備えていて前記ワーククランパー４が前記洗浄槽１内に臨む多軸ロボット３とから成る。好ましくは、前記洗浄槽１の一側面側に設置されるワーク供給部６と、前記洗浄槽１の他側面側に設置されるワーク排出部７とを更に備え、前記洗浄槽１内に、ワーク位置決め用コンベアリフトユニット１０が設置され、前記多軸ロボット３は６軸ロボットとされ、また、前記洗浄槽１に切粉回収装置２が連設される。 （もっと読む）

複雑に屈曲したチュービングの内部を洗浄するための技術が、最小限の量の溶剤と空気圧で押し出される発泡ペレットとの組み合わせを使用して開示される。装置の効率を上げるために、エスケープメント装置は真空補助搭載機構と一度に１つのペレットを確実に搭載するための保持ピンとを採用する。
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【課題】半導体装置の製造において、ウェハ表面に付着した異物を確実に除去でき、異物の再付着、配線の溶解等のない洗浄方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造における洗浄方法は、アルミ配線パターンの形成工程後に、アルミ配線パターンが形成された表面に対して、流体をノズル４から吐出させて行う洗浄を使用し、流体は、超純水、または、不活性ガスと超純水又は少なくとも超純水を含む液体とを混合した２流体である。 （もっと読む）

【課題】狭隘な構内に嵌まり込んだ異物も確実に洗い流すことができ、高圧ポンプを用いないために設備コストを軽減でき、また、異物チェックの必要性が減るためにその分の作業時間と人件費の削減を図ることができる洗浄による切粉等の除去方法及び装置を提供することを課題とする。
【解決手段】中圧大流量の送液ポンプを用い、ワークの表面に存在する最大幅の溝の幅よりも大きい口径のノズル１より前記溝に向けて洗浄水を供給することを特徴とする。ここにいう中圧大流量の送液ポンプは、好ましくは、最大吐出圧が１．０乃至５．０Ｍｐａで最大吐出量が５００乃至８００Ｌ／ｍｉｎのポンプである。通例、前記ノズル１は１本用い、これをＸ・Ｙ軸方向に移動させ、また、前記ノズルからの洗浄水の供給は、前記溝に対して垂直に又は角度を持たせて行なう。 （もっと読む）

【課題】切削加工又は研削加工によって得られた部品から効率的に切り屑、油、洗浄液等が除去される洗浄装置２の提供。
【解決手段】洗浄装置２は、圧力容器６、架台８及び案内板１０を備えている。圧力容器６は、本体１２及び蓋体１４を備えてる。本体１２は、注入口１６及び排出口１８を備えている。注入口１６は、逆止弁２０及び配管２２を通じて、コンプレッサー４と連結されている。排出口１８には、仕切り弁２４が装着されている。架台８は、圧力容器６に収納されている。架台８は、ネット状である。案内板１０は、圧力容器６に収納されている。案内板１０は、傾斜している。架台８には、バスケット２８が載置されている。このバスケット２８には、切削加工又は研削加工で得られた多数の部品が収納されている。 （もっと読む）

【課題】
不良卵を効率的かつ効果的に選別、排除することができるような洗卵装置を提供する。
【解決手段】
卵を搬送する搬送装置と、その搬送装置の上方から洗浄水を噴射するノズルとを備える洗卵装置であって、前記ノズルが噴射する洗浄水の卵殻表面における水圧が６９kPa以上１０８kPa以下とする。 （もっと読む）

【課題】液体ＣＯ_２の消費量を抑えつつ基板を搬送しながら基板全体を均一に洗浄する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、ローラ２１にて基板９を搬送方向２２に搬送する搬送機構２、洗浄部４、ＣＯ_２供給源６１およびＮ_２供給源６２を備える。洗浄部４は洗浄部カバー４１に覆われ、洗浄部カバー４１内には搬送方向２２に垂直な方向に２列に配列された複数のノズル４２が設けられる。ノズル４２の各列は搬送方向に垂直な方向に基板９全体に亘って揺動する。各ノズル４２はＣＯ_２供給源６１およびＮ_２供給源６２から液体ＣＯ_２およびＮ_２ガスが供給される二流体ノズルとなっており、これらの流体のノズル４２内の流路への供給量が他のノズルから独立して予め調整されている。各ノズル４２から液体ＣＯ_２とＮ_２ガスとが混合されつつ搬送途上の基板９に噴射されることにより、ＣＯ_２の消費量を抑えつつ基板９全体を均一に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】 米などの被洗浄物を大量に且つ連続して洗浄する場合に、被洗浄物の破砕を抑制し、且つ、研ぎ汁成分や異物等の汚れ成分を十分に除去できる洗浄効率の良い連続洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】 (a) 第１洗浄タンク2内に高圧水および／または圧縮ガスをタンク下部から吐出させて被洗浄物を浮遊攪拌させながら、第１洗浄タンク２から被洗浄物を第1のエダクター１５１にて吸込み、(b)第２洗浄タンク３内に吐出させ、高圧水および／または圧縮ガスをタンク下部から吐出させて浮遊攪拌させながら、第２洗浄タンク３から被洗浄物を第２のエダクター１５２にて吸込み、(c)分離装置４に吐出させて被洗浄物を水と分離し、(d)被洗浄物を第３洗浄タンク５に導き、微細気泡により洗浄を行いながら、第３洗浄タンク５から被洗浄物を第3のエダクター１５３にて吸込み、(e)浸漬タンク１０内に吐出させ、微細気泡の存在下で浸漬を行う。 （もっと読む）

流体を帯状に吐出可能なスリット部が形成されたエアーナイフユニットを用いて、基板の主面に付着した付着物を基板の主面から除去する方法で、基板に対して複数のエアーナイフユニットを相対移動させながら、エアーナイフユニットと基板の主面との間に、前記移動方向と直交する方向に略均一な形状を有する流体導入路を形成し、前記エアーナイフユニットの後部に形成されたスリット部から流体を流体導入路に向けて吐出し、次いで、流体導入路を通過させてエアーナイフユニットの前部に対向して形成される壁面あるいはみかけ上の壁面に導き、さらに、流体導入路より大きい流路断面積を有してエアーナイフユニットと壁面との間に形成された流体導出路を介して、基板に付着した基板付着物が前記流体とともに基板の主面から遠ざかるように導出する。 （もっと読む）

給水装置を清浄するように構成された清浄システムであって、当該給水装置には、水道水入口（２）と、ミネラル投与ユニット（１８）であって、当該ミネラル投与ユニットを用いて水道水からミネラル水を生成することができるミネラル投与ユニット（１８）と、水処理手段と、ミネラル水を提供するために、所定の水処理プログラムに従って水処理手段の少なくとも一部を制御するように構成された制御ユニット（２４）とが設けられており、当該清浄システムには、少なくとも１つの清浄剤容器（H）が設けられており、使用の際には、当該少なくとも１つの清浄剤容器から、清浄剤を給水装置へ直接又は間接的に供給することができる、清浄システムであって、水処理手段の少なくとも一部を清浄するために、所定の清浄プログラムに従って水処理手段の少なくとも一部を制御するように構成された清浄システム制御ユニットが設けられている、清浄システム。

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【課題】被洗浄物を変形や損傷させずに、この被洗浄物の有する貫通孔を効果的に洗浄する洗浄方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置１のチャンバー２内を仕切るように、ステンシルマスク６７をホルダー１１により固定配置してＡ室とＢ室に分離し、この両室を連通するバイパス３の弁３ａを開き、Ａ室の排出口６を閉じてチャンバー２内をＣＯ₂の臨界温度以上に保ち、Ｂ室に供給口４から臨界温度以上に加熱したＣＯ₂ガスを供給し、ＣＯ₂ガスを更に供給して圧力を高め、両室を等圧力の超臨界ＣＯ₂で満たした後に、バイパス弁３ａを閉じ、Ｂ室へ超臨界ＣＯ₂を加圧して供給し、Ａ室内との圧力差を形成する。これにより、高圧力のＢ室側から低圧力のＡ室側へステンシルマスク６７の貫通孔５９を通る超臨界ＣＯ₂の流れが生じ、この超臨界ＣＯ₂の運動エネルギーによって貫通孔５９を損傷させずに、貫通孔５９内のパーティクル２７を洗浄できる。 （もっと読む）

【課題】小型で、しかも安価でありながら、汎用性に優れた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理部ＰＳでは、それぞれが互いに異なる現像処理を施す２つの現像処理ユニット１０Ａ、１０Ｂと、現像処理された基板に超臨界乾燥処理を施す超臨界乾燥処理ユニット２０と、これらの処理ユニット１０Ａ、１０Ｂ、２０に取り囲まれるように配置された主搬送ロボット３０とが設けられている。この主搬送ロボット３０は未処理基板Ｗを受け取ると、該基板Ｗに形成されているレジスト膜の膜材料に対応する現像処理ユニットに基板Ｗを搬送する。そして、現像処理が完了すると、いずれの現像処理ユニット１０Ａ、１０Ｂで現像処理されたのかを問わず、主搬送ロボット３０は現像処理を受けた基板Ｗを超臨界乾燥処理ユニット２０にウェット搬送する。 （もっと読む）

【課題】 連続的に搬送されてくる個々の容器内部を衛生的かつ有効に洗浄し、引き続き水切り乾燥まで連続的に行なうことができる容器の連続洗浄装置の提供。
【解決手段】 容器を洗浄室内へ受け入れる受け入れコンベアと、該受け入れコンベアにより洗浄室内で受け入れられた容器を、その受け入れコンベアと共に洗浄位置まで上昇させ、さらには洗浄後の容器を受け入れコンベアと共に初期位置へ降下させる昇降機構と、該昇降機構の動作で上記コンベアと共に洗浄位置まで上昇された容器を、その両側方から挟持しながら、天地逆に反転するクランプ反転機構と、該クランプ反転機構により反転された容器の内外面を湯洗及びリンス洗浄する洗浄機構と、該洗浄機構による洗浄が終了された容器の内面及び外面の水切りを行なうエアブロー機構を有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、鋼帯の洗浄能力及び清浄度を向上して、鋼帯の品質を高めるとともに、生産性を向上することのできる鋼帯の連続焼鈍設備を提供する。
【解決手段】 連続焼鈍設備の鋼帯３入側に気体溶存洗浄液生成装置４を設置し、次いで入側ルーパー５、連続焼鈍炉６、出側ルーパー７を連設した鋼帯の連続焼鈍設備である。 （もっと読む）